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针对计算机控制光学表面成形中光学表面存在中高频误差的问题,提出了一种基于驻留时间补偿的有效控制方法。分析了抛光误差的形成机理和影响因素,对系统的误差影响因素进行分类和定量描述,构建了抛光过程中磨损影响因子、浓度变化影响因子和系统影响因子。基于各影响因素的影响因子对抛光驻留时间的求解函数进行了修正,提出采用离散最小二乘法对修正的函数求解驻留时间。研究表明:这种补偿方法能提高计算机控制光学表面成形技术中加工模型的精度,减小光学表面的残余误差。 相似文献
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Ionic conductivity study on electron beam irradiated polyacrylonitrile-polyethylene oxide gel 下载免费PDF全文
Different mass percent polyacrylonitrile (PAN)-polyethylene oxide (PEO) gels were prepared and irradiated by an electron beam (EB) with energy of 1.0 MeV to the dose ranging from 13 kGy to 260 kGy.The gels were analysed by using Fourier transform infrared spectrum,gel fraction and ionic conductivity (IC) measurement.The results show that the gel is crosslinked by EB irradiation,the crosslinking degree rises with the increasing EB irradiation dose (ID) and the mass percents of both PAN and PEO contribute a lot to the crosslinking;in addition,EB irradiation can promote the IC of PAN-PEO gels.There exists an optimum irradiation dose,at which the IC can increase dramatically.The IC changes of the PAN-PEO gels along with ID are divided into three regions:IC rapidly increasing region,IC decreasing region and IC balanced region.The cause of the change can be ascribed to two aspects,gel capturing electron degree and crosslinking degree.By comparing the IC-ID curves of different mass percents of PAN and PEO in gel,we found that PAN plays a more important role for gel IC promotion than PEO,since addition of PAN in gel causes the IC-ID curve sharper,while addition of PEO in gel causes the curve milder. 相似文献
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主要给出了*-A(n)算子的一些性质:若T是*-A(n)算子,则T有谱的连续性;若T是*-A(n)算子,则T的近似点谱和联合近似点谱是相等的;若T,S是*-A(n)算子,则T,S是Weyl算子当且仅当TS是Wey1算子. 相似文献
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用电子束蒸发方法制备了HfO2薄膜,根据镀膜前后基片曲率半径的变化,用Stoney公式计算了薄膜应力,讨论了沉积温度对薄膜残余应力的影响。结果发现,HfO2薄膜的残余应力均为张应力,应力值随沉积温度的升高先增大后减小,在280 ℃左右出现极大值。对样品进行了XRD测试,从微观结构上对实验结果进行了分析,发现微结构演变引起的内应力变化是引起薄膜残余应力改变的主要因素,HfO2薄膜在所选沉积温度60~350 ℃内出现了晶态转变,堆积密度随温度升高而增大。 相似文献