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61.
利用自行研制的磁过滤等离子体技术(FCAP),并创造性地对衬底施加低频率周期性负偏压,在室温下的单晶硅表面上制备了高质量的非晶金刚石薄膜。用扫描电子显微镜(SEM),原子力显微镜(AFM),红外吸收光谱(IR),纳米硬度计和摩擦试验仪对制备的非晶金刚石薄膜进行了结构和性能表征。实验结果表明:制备的非晶金刚石薄膜表面十分光滑,表面粗糙度仅为0.1nm;薄膜中sp3键成份高达70.7%,对应薄膜硬度达到74.8GPa,接近金刚石的硬度;薄膜摩擦系数在0.12~0.16之间。文中也讨论了偏压类型对沉积薄膜结构的影响。 相似文献
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64.
a-Si:H/SiO_2 multilayers were prepared by alternatively changing plasma enhanced chemical vapour deposition of a-Si:H layers and in situ plasma oxidation process. Subsequently, as-grown samples were annealed at temperatures from 350℃ to 1100℃ in N_2 ambient with an increment of 100℃. The evolution of bonding configurations and structures with annealing treatments was systematically investigated by Fourier-transform infrared spectroscopy. The peak position of Si-O stretching vibration of SiO_2 layers shift to 1087cm^{-1} after annealing at 1100℃, which demonstrates that the SiO_2 films fabricated by plasma oxidation after high temperature annealing can have similar properties to the thermal grown ones. A Si-O vibration from interfacial SiO_x was identified: the value x was found to increase as increasing the annealing temperature, which is ascribed to the cooperation of hydrogen effusion and reordering of the oxygen bond in SiO_x networks. The H-related bonds were observed in the form of H-Si-O_3 and H-Si-Si_{3-n}O_n (n=1-2) configurations, which are supposed to be present in SiO_2 and interfacial SiO_x layers, respectively. The H atoms bonded in different bonding configurations effuse at different temperatures due to their different desorption energies. 相似文献
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2001年8月, 中国科学院上海天文台与捷克技术大学合作在上海天文台进行了亚厘米级单次测距精度的卫星激光测距试验. 采用皮秒事件计时器作为激光往返脉冲的时间间隔测量仪器, 配合原有的发射和接收系统, 对Lageos-1, 2, Starlette, Stella, Topex和ERS-2等卫星进行了测距试验. 分析表明: 对这些卫星的单次测距精度达到了7~8 mm. 为了对比, 原有的测距系统同时对这些卫星进行了测量, 单次测距精度为12~15 mm. 表明新测距系统的测量精度比原有系统提高了约80%. 同时还对原有测距系统的系统偏差进行了检测. 相似文献
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67.
合成了系列M2SiO4:Re(M=Mg,Ca,Ba;Re=Ce3+,Tb3+)样品,研究了样品在真空紫外区域的激发光谱和发射光谱。从激发谱可以看出:M2SiO4:Re(M=Mg,Ca,Ba;Re=Ce3+,Tb3+)在147,172nm有很强的吸收带。用Mg,Ca完全取代Ba2SiO4:Tb3+中的Ba,相对应的晶体的晶格参数逐渐增大,晶场的能量逐渐减少,其激发光谱随着碱土离子半径的增加向长波方向移动。在172nm真空紫外光激发下,观察到M2SiO4:Re(M=Mg,Ca,Ba;Re=Tb3+和M2SiO4:Re(M=Mg,Ca,Ba;Re=Ce3+,Tb3+)特征发射;在真空紫外激发下,随着M2SiO4:Re(M=Mg,Ca,Ba;Re=Ce3+,Tb3+)中Ce3+含量的增加,M2SiO4:Re的特征发射明显减弱,并分析讨论了相关发光现象的成因。 相似文献
68.
研究了Sr3Gd(PO4)3∶Tm3 和GdPO4∶Tm3 样品的结构特性、光谱特性。GdPO4∶Tm3 为单斜晶系,基质掺入铥离子后结构没有明显变化。GdPO4∶Tm3 在164和210nm附近有强烈的吸收峰。位于164nm附近的强烈的吸收峰是归因于基质的吸收引起,210nm附近的吸收峰则归因于Gd3 的8S7/2—6GJ的能级跃迁。在164nm真空紫外光激发下,样品于453及363nm处有较强的发射峰,发射主峰位于453nm,属于Tm3 的1D2→3H4(22,123cm-1)跃迁的典型发射。由于阳离子质量的不同,Sr3Gd(PO4)3∶Tm3 在166nm附近的激发峰高于GdPO4∶Tm3 的同位置的激发峰,其在363nm处的发射有明显减弱,而在453nm处的蓝色发射有显著的增强。 相似文献
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借助三电极体系, 基于电化学交流阻抗谱图, 提出了一种对已吸附Cl-的活性炭再次吸附一个Cl-弛豫时间的测定方法, 根据弛豫时间确定速率控制步骤 . 研究了阳极电势、 预处理时间和预处理浓度对电化学过程的影响, 基于得到的电化学交流阻抗谱图上的参数, 求出不同条件下电吸附Cl-的弛豫时间及覆盖度. 结果表明, 不同条件下得到的复数平面图均由一个容抗弧和一个感抗弧构成, 分别代表Cl-在阳极上发生电荷转移的过程和 Cl-在活性炭电极上的吸附过程 . 增加阳极极化可有效缩短弛豫时间, 阳极极化时, 弛豫时间为2.0×10-5 s; 增加预处理时间, 弛豫时间逐渐增加, 预处理时间为180 min时, 弛豫时间增加到4.9×10-5 s; 预处理浓度对弛豫时间的影响可忽略. 弛豫时间分析结果表明, Cl-吸附速率比扩散速率小, 吸附是电吸附过程的速率控制步骤. 电极表面的覆盖度较低, 仅有10-4... 相似文献