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21.
在合成含有8-羟基喹啉(8HOQ)配位基单体的基础上,将其与甲基丙烯酸甲酯(MMA)共聚得到含有8-羟基喹啉侧基的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA8q),实现了8-羟基喹啉的高分子化;通过PMMA8q和小分子协同配体与稀土离子Eu(Ⅲ)的配位反应,制备了两个稀土高分子发光配合物:Eu(PMMA8q)(8HOQ)2(H2O)3和Eu(PMMA8q)2(TTA)(H2O)3(TTA:噻吩甲酰三氟丙酮)。利用元素分析、红外光谱方法对各阶段产物进行了表征,用荧光光谱研究了两个稀土高分子配合物的荧光特性及发光机理。 相似文献
22.
捷联式惯性导航系统通常采用卫星导航系统的位置、速度信息对惯导解算误差进行校正,但对于水下载体惯性导航系统而言,由于只能获得点位置信息,对惯导的校正精度以及校正参量有限。针对上述问题,提出了基于天文/卫星组合校正捷联式惯导技术,通过卫星精确定位信息和天文快速观测信息,全面修正惯导系统误差、提高导航精度。仿真结果表明,基于天文/卫星组合校正算法对惯导进行校正,相对于传统校正算法精度可提高约50%。 相似文献
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The modulation effect of substrate doping on multi-node charge collection and single-event transient propagation in 90-nm bulk complementary metal-oxide semiconductor technology 下载免费PDF全文
Variation of substrate background doping will affect the charge collection of active and passive MOSFETs in complementary metal-oxide semiconductor (CMOS) technologies, which are significant for charge sharing, thus affecting the propagated single event transient pulsewidths in circuits. The trends of charge collected by the drain of a positive channel metal-oxide semiconductor (PMOS) and an N metal-oxide semiconductor (NMOS) are opposite as the substrate doping increases. The PMOS source will inject carriers after strike and the amount of charge injected will increase as the substrate doping increases, whereas the source of the NMOS will mainly collect carriers and the source of the NMOS can also inject electrons when the substrate doping is light enough. Additionally, it indicates that substrate doping mainly affects the bipolar amplification component of a single-event transient current, and has little effect on the drift and diffusion. The change in substrate doping has a much greater effect on PMOS than on NMOS. 相似文献
26.
27.
分别给出了绝对零度情况下,初始光场处于Fock态和相干态时,单模损耗腔中光子分布的时间演化解析表达式.在相干态情况中,给出了光子数分布函数不同于课本的一种推导方法. 相似文献
28.
Mechanism of floating body effect mitigation via cutting off source injection in a fully-depleted silicon-on-insulator technology 下载免费PDF全文
In this paper, the effect of floating body effect(FBE) on a single event transient generation mechanism in fully depleted(FD) silicon-on-insulator(SOI) technology is investigated using three-dimensional technology computer-aided design(3DTCAD) numerical simulation. The results indicate that the main SET generation mechanism is not carrier drift/diffusion but floating body effect(FBE) whether for positive or negative channel metal oxide semiconductor(PMOS or NMOS). Two stacking layout designs mitigating FBE are investigated as well, and the results indicate that the in-line stacking(IS) layout can mitigate FBE completely and is area penalty saving compared with the conventional stacking layout. 相似文献
29.
30.