排序方式: 共有43条查询结果,搜索用时 15 毫秒
21.
22.
刻线镍膜上沉积的碳纳米管场发射特性 总被引:8,自引:3,他引:5
利用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)方法,在刻线的镍膜上沉积碳纳米管膜。通过SEM和拉曼光谱表征,讨论了催化剂厚度、制备温度、反应时间以及甲烷浓度对碳纳米管场发射的影响。结果表明:不同条件下制备的碳纳米管的场发射性能有很大差异,保持氢气的流量(100sccm)不变,当甲烷流量为5sccm、生长时间为5min、催化剂膜厚为150nm、温度为700~800℃时,场发射性能最好,开启场强为1.3V/um,最大发射电流达到6.8mA/cm^3。 相似文献
23.
用化学气相沉积方法制备了金刚石薄膜.在制备过程中,通过间歇式关闭甲烷气体,强化了氢对sp2杂化碳原子的刻蚀.用拉曼光谱和金相显微镜对薄膜进行了分析表征.结果表明,氢对sp2杂化碳原子的强化刻蚀并未影响金刚石薄膜的品质和微观结构.这一结论说明,在金刚石薄膜中,sp2杂化碳原子主要存在于金刚石晶粒表面和晶界碳原子之间,而不是以石墨或无定形碳颗粒为主要存在方式.
关键词:
化学气相沉积
金刚石薄膜
拉曼光谱
强化刻蚀 相似文献
24.
利用微波等离子体增强化学气相沉积技术制备出了CNx薄膜,并利用x射线光电子能谱、x射线衍射、扫描电子显微镜和Raman光谱等测试手段对所制备的CNx薄膜的微结构和成分进行了分析.研究了其场致电子发射特性.发现薄膜的结构和场发射特性与反应系中的甲烷、氮气及氢气的流量比有关,当甲烷、氢气及氮气流量比为8/50/50sccm时,制备的薄膜具有弯曲层状的纳米石墨晶体结构(类富勒烯结构)和很好的场发射特性.场发射阈值电场降低至1.1V/μm.当电场为5.9V/μm时,平均电流密度达70μA/cm2,发射点密度大于1×104cm-2. 相似文献
25.
给出了利用红外透射光谱计算金刚石薄膜中SP^2/SP^3键价比,从而判断金刚石薄质量的判断技术。这种方法给出了薄膜质量的定量判断,甚至当由于灵敏度限制拉曼光谱无法给出判断结果时这种方法仍可使用。 相似文献
26.
27.
28.
29.
30.
利用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。通过SEM、拉曼光谱和XRD表征,讨论了制备温度和甲烷浓度对碳纳米管膜场发射的影响。结果表明:不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异,保持氢气的流量(100sccm)、生长时间(10min)、反应室压力不变,当甲烷流量为8sccm、温度为700~800℃时,场发射性能最好,开启场强仅为0.8V/μm,发射点分布密集、均匀。 相似文献