首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   99篇
  免费   27篇
  国内免费   48篇
化学   35篇
晶体学   8篇
力学   50篇
综合类   3篇
物理学   78篇
  2023年   3篇
  2022年   2篇
  2021年   6篇
  2020年   4篇
  2019年   6篇
  2018年   1篇
  2017年   1篇
  2016年   4篇
  2015年   8篇
  2014年   8篇
  2013年   3篇
  2012年   2篇
  2011年   3篇
  2010年   8篇
  2009年   8篇
  2008年   9篇
  2007年   11篇
  2006年   8篇
  2005年   10篇
  2004年   4篇
  2003年   4篇
  2002年   7篇
  2001年   31篇
  2000年   12篇
  1999年   1篇
  1998年   5篇
  1997年   3篇
  1996年   2篇
排序方式: 共有174条查询结果,搜索用时 15 毫秒
11.
杨航  余玉民  张云飞  黄文  何建国 《强激光与粒子束》2021,33(10):101003-1-101003-8
磁流变抛光在其实际工作过程中,抛光区域几何特征的不同将会对流场创成的关键参数产生很大的影响。针对此问题建立三维模型与实验仿真展开研究。在研究抛光区域几何特征与流场创成关键参数的关系时,先改变抛光区域形状,观察其对流场创成中剪切应力、压力产生的影响;再控制抛光区域的形状相同时,通过改变抛光区域尺寸大小,观察对流场创成中剪切应力、压力产生的影响。结果表明:当抛光区域形状不同时,抛光区域为凹面时剪切应力最大,抛光区域为凸面时剪切应力最小。当抛光区域形状为凸面时,抛光区域两边的剪切应力随着抛光区域曲率大小增大而增大;当抛光区域形状为凹面,抛光区域两边的剪切应力随着抛光区域曲率大小增大而减小。当抛光区域形状不同时,抛光区域为凹面时压力最大,抛光区域为凸面时压力最小。当抛光区域形状为凸面时,抛光区域处的压力随着抛光区域曲率增大而增大;当抛光区域形状为凹面时,抛光区域处的压力随着抛光区域曲率增大而减小。  相似文献   
12.
The fabrication of magnetorheological (MR) elastomers was studied by two vulcanization methods, including heat vulcanization (HV) and radiation vulcanization (RV), were employed to fabricate MRE samples. The dynamical mechanical properties were characterized by using a dynamic mechanic analyzer. In particular, both the MR effect and its durability were investigated. The experimental results showed that RV samples have large magnetoinduced modulus, large zero-field modulus, and good durability property of MR effect. To explain these results, cubic deformation and plasticizer migration were analyzed. Large magneto-induced modulus of RV sample results from cubic deformation during vulcanization process. And the plasticizer migration results in better durability of MR effect.  相似文献   
13.
铜在氨水介质铁氰化钾抛光液中CMP的电化学行为研究   总被引:3,自引:1,他引:2  
胡岳华  何捍卫  黄可龙 《电化学》2001,7(4):480-486
应用电化学测试技术研究了介质浓度(包括pH值)和成膜剂浓度对铜表面成膜及铜抛光过程的影响,探讨了成膜厚度及其致密性与抛光压力、抛光转速的关系,考察了压力及转速对抛光过程的作用,找出影响抛光过程及抛光速率的电化学变量。用腐蚀电位及腐蚀电流密度的变化解释了抛光过程的电化学机理,通过成膜速率及除膜速率的对比得出抛光过程的控制条件。证明了在氨水溶液介质中、以铁氰化钾为成膜剂、纳米γ-Al2O3为磨粒的抛光液配方是可行的,其抛光控制条件为压力10psi、转速300r/min。  相似文献   
14.
为了解决大口径光学元件磁流变高精度加工问题,基于矩阵运算模型,提出了SBB(Subspace Barzilai and Borwein)最小非负二乘与自适应Tikhonov正则化相结合的驻留时间快速求解方法。同时,在一次收敛中采用双去除函数优化螺旋线轨迹下光学元件的加工,保证中心区域与全口径面形精度一致。仿真表明该算法与常用Lawson-Hanson最小非负二乘法相比,计算精度一致且求解效率大幅提高。对Φ600mm以彗差为主的光学表面模拟加工,峰谷(PV)值和均方根(RMS)值从初始的2.712λ与0.461λ中心区域全局一致收敛到0.306λ和0.0199λ(λ=632.8nm)。因此,提出的算法能够在有效保证面形收敛精度的同时快速获得稳定可靠的驻留时间分布,为磁流变抛光应用于大口径光学元件提供有力支持。  相似文献   
15.
磁流变液体的流变力学特性试验和建模   总被引:12,自引:0,他引:12  
从唯象角度讨论磁流变液体的流变力学特性。基于对磁流变液体的试验 ,讨论了磁感强度、温度和剪切应变速率等对磁流变液剪切应力的影响 ;建立了描述磁流变液剪切应力的 Bingham模型、广义 Bingham模型和非线性模型。  相似文献   
16.
从磁流变液的流变机理及其性能指标出发,探讨了磁流变液组分母液、磁性颗粒、表面活性剂的选择原则及其对磁流变液性能的影响;及磁流变液的分散工艺;并在此基础上,研制成功了一种性能优良的磁流变液,其沉降稳定性较好,长时间(一个月左右)存放基本不沉降.  相似文献   
17.
采用球磨法,能成功地直接从高聚物与金属铁的混合研磨中,获得微米级由聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯等高聚物包埋型金属羰基铁复合粒子.详细讨论制备条件包括不同高聚物比例、球磨时间对复合粒子形貌和粒径的影响及其复合粒子的热稳定性,还简要研究了由这些粒子组成的浓有机悬浮溶液的磁流变效应及其粒子的沉降稳定性.  相似文献   
18.
设计了一种转子振动控制用的剪切式磁流变液阻尼器,建立了磁流变液阻尼器-悬臂转子系统的分析模型,理论和实验研究了转子系统的不平衡响应特性.研究表明,随着施加磁场强度的增加,磁流变液阻尼器的阻尼和刚度增大,转子系统的临界振幅明显下降,系统的临界转速也明显提高.通过简单的开关控制,可抑止转子通过临界转速过程中的振动.  相似文献   
19.
磁流变减振器控制研究   总被引:23,自引:0,他引:23  
从混合工作模式推导出了磁流变减振器的阻尼力与控制电流之间的关系,并以此为依据设计出磁流变减振器的控制器,经实验测试控制器具有响应速度快、输出精度高等特点,对磁流变减振器的控制效果令人满意。  相似文献   
20.
磁流变体流变学特性研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
对所研制的矿物油介质和硅油介质磁流变体样品的零场粘度、磁流变性能、示功及速度特性进行了系统的测试和分析,并对其影响因素进行了详细的讨论。研制的磁流变体零场粘度小于0.5Pas(γ=81s^-1)且具有良好的粘温特性;磁流变体的剪切应力接近和超过70kPa(B=6000Gs);在智能减振器的应用试验中获得理想的示功特性曲线。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号