铜在氨水介质铁氰化钾抛光液中CMP的电化学行为研究

应用电化学测试技术研究了介质浓度（包括pH值）和成膜剂浓度对铜表面成膜及铜抛光过程的影响，探讨了成膜厚度及其致密性与抛光压力、抛光转速的关系，考察了压力及转速对抛光过程的作用，找出影响抛光过程及抛光速率的电化学变量。用腐蚀电位及腐蚀电流密度的变化解释了抛光过程的电化学机理，通过成膜速率及除膜速率的对比得出抛光过程的控制条件。证明了在氨水溶液介质中、以铁氰化钾为成膜剂、纳米γ-Al2O3为磨粒的抛光液配方是可行的，其抛光控制条件为压力10psi、转速300r/min。     

FeS2(100)表面原子几何与电子结构的理论研究

采用密度泛函理论研究了FeS2(100)表面原子几何与电子结构.理论计算结果表明:FeS2(100)表面无弛豫、无重构,是体相原子几何的自然终止.与体相电子结构相比,FeS2(100)表面电子特性明显不同,禁带中央产生新的表面态,且表面态局域性强,主要由Fe原子的3d分波贡献.配位场理论定性分析表明:FeS2(100)完整晶面表面态产生机制是Fe原子的配位数减少、局部对称性下降所致 关键词： 密度泛函理论 表面电子结构 FeS2     

金属的化学-机械抛光技术研究进展

介绍了近年来金属化学—机械抛光(CMP)技术的一些研究进展。内容包括CMP技术的实验方法进展与抛光效果的表征，CMP设备与消耗品的发展。分析了目前CMP技术存在的问题，提出了可能解决问题的一些建议。认为定量CMP速率方程的建立是解决好终点在线检测的关键之一。     

一个新的分子拓扑指数

通过将键参数和量子数引入原子点价,重新定义原子点价δiY,认为分子中某一原子的δiY与该原子的杨氏电负性力标、价电子数、成键电子数及最外层主量子数有关.由此提出新的分子拓扑指数mXY.并用一级指数1XY与饱和烷烃的沸点、液体热容、气体热容、蒸发热、临界温度、临界压力,卤代苯的辛醇/水分配系数,烷氧氯硅烷的气相色谱保留指数、含氮杂环化合物的毒性,碱金属卤化物的晶格焓与F心能带,卤化锡的119Sn Mossbauer等性质/活性进行相关关系的研究.结果表明,1XY与有机物和无机物的性质/活性间具有广泛良好的相关性.     

几种天然铝硅酸盐矿物的成分及结构测定

铝硅酸盐是一类重要的矿产资源。在石油炼制、塑料加工、建材工业和轻工业等行业有着广泛的用途。硅和氧是自然界中平均含量最高的元素。这两种元素主要形成络阴离子。其中的硅可以部分被铝取代,然后与其他金属阳离子结合生成铝硅酸盐矿。由于铝的取代程度不同,结合的其他金属阳离子的种类与多寡不一,加之矿物中原子间结合方式的     

苯氧乙酸类化合物的酸离解常数测定及其量子化学计算

苯氧乙酸;酸离解常数;键电荷密度;量子化学计算;苯氧乙酸类化合物的酸离解常数测定及其量子化学计算     

N-(2-氨乙基)-月桂酰胺浮选铝硅酸盐矿物的研究

研究了N (2 氨乙基) 月桂酰胺对高岭石、伊利石和叶腊石等铝硅酸盐矿物的浮选行为.发现该表面活性剂对叶腊石的浮选回收率最高可达97.7％，对伊利石和高岭石的回收率相对较低，一般不超过82％.矿浆pH对高岭石、伊利石和叶腊石的回收率影响较小.酸性矿浆中表面活性剂通过静电引力吸附在矿粒表面；碱性矿浆中，表面活性剂通过氢键吸附在矿粒表面.红外吸收光谱证明，三种矿物表面中均存在－OH；在一个较宽的pH范围内，三种矿物矿浆的Zeta电位均为负值，表明矿粒表面荷负电.矿粒的扫描电镜（SEM）照片（×15000）表明，叶腊石主要呈薄片状颗粒，高岭石和伊利石颗粒呈不规则形状.     

电化学研究DDTC在脆硫锑铅矿表面的吸附

通过循环伏安法、交流阻抗法研究了二乙基二硫代氨基甲酸钠(以D表示)与脆硫锑铅矿的相互作用,在不同的电位条件下呈现出不同的电极过程,从-178—472mV(相对于标准氢电极),脆硫锑铅矿表面主要是DDTC,PbD2,S^0等疏水性物质的吸附,界面电容也比较小,当电极电位高于472mV时,由于PbD2,S^0等疏水性物质被氧化成Pb^2 ,SO3^2-,SO4^2-,PbSO4等亲水性产物,脆硫锑铅矿表面是亲水的,由此推测用DDTC做捕收剂浮选脆硫锑铅矿的电位范围为-178—472mV,最佳电位范围为60—222mV。     

铜在甲胺介质铁氰化钾化学-机械抛光液中的电化学行为

二甲氧基苯胺;铜在甲胺介质铁氰化钾化学-机械抛光液中的电化学行为     

1,2,3-苯三氧基三乙酸的浮选抑制性能

抑制剂;1;2;3-苯三氧基三乙酸的浮选抑制性能