全文获取类型
收费全文 | 6710篇 |
免费 | 1624篇 |
国内免费 | 1621篇 |
专业分类
化学 | 4235篇 |
晶体学 | 399篇 |
力学 | 647篇 |
综合类 | 71篇 |
数学 | 95篇 |
物理学 | 4508篇 |
出版年
2024年 | 4篇 |
2023年 | 48篇 |
2022年 | 140篇 |
2021年 | 169篇 |
2020年 | 148篇 |
2019年 | 134篇 |
2018年 | 161篇 |
2017年 | 230篇 |
2016年 | 296篇 |
2015年 | 252篇 |
2014年 | 332篇 |
2013年 | 532篇 |
2012年 | 501篇 |
2011年 | 592篇 |
2010年 | 522篇 |
2009年 | 600篇 |
2008年 | 538篇 |
2007年 | 591篇 |
2006年 | 607篇 |
2005年 | 486篇 |
2004年 | 454篇 |
2003年 | 330篇 |
2002年 | 311篇 |
2001年 | 269篇 |
2000年 | 260篇 |
1999年 | 219篇 |
1998年 | 196篇 |
1997年 | 188篇 |
1996年 | 164篇 |
1995年 | 152篇 |
1994年 | 116篇 |
1993年 | 81篇 |
1992年 | 87篇 |
1991年 | 68篇 |
1990年 | 54篇 |
1989年 | 28篇 |
1988年 | 28篇 |
1987年 | 21篇 |
1986年 | 8篇 |
1985年 | 9篇 |
1984年 | 5篇 |
1983年 | 5篇 |
1982年 | 7篇 |
1981年 | 3篇 |
1979年 | 3篇 |
1978年 | 1篇 |
1976年 | 1篇 |
1975年 | 2篇 |
1974年 | 1篇 |
1966年 | 1篇 |
排序方式: 共有9955条查询结果,搜索用时 265 毫秒
51.
热丝辅助裂解法是结合气相沉积制备聚对二甲苯薄膜和热丝化学气相沉积而形成的一种制-CH薄膜的新方法。热丝辅助裂解法的最大特点就是在保持低衬底温度情况下可以获得高沉积速率,而热丝加热电流对薄膜沉积速率和薄膜表面形貌具有重要影响。研究表明,热丝加热电流越大,薄膜沉积速率越高,在加热电流9A时,薄膜沉积速率可达0.002mm/min,同时薄膜表面粗糙度随之增加,薄膜表面也开始出现其它元素污染,因此,一般热丝加热电流选择为7A附近。 相似文献
52.
53.
为了使光盘获得优良的记录/读出性能并能够长期稳定地使用,必须优化设计相变光盘的多层膜结构。采用自行设计的模拟分析相变光盘读出过程设计软件,从光学角度出发模拟计算了蓝光(405nm)相变光盘的膜层结构,研究了多层膜系的反射率和反射率对比度等光学参量与各层膜厚度和槽深的关系。研究得出的最佳多层膜结构为:下介电层/记录层/上介电层/反射层的厚度对于台记录为100nm/10nm/25nm,/60nm,而对于槽记录则为140nm/15nm/30nm,/60nm,槽深为50nm。模拟计算结果对于将来高密度蓝光相变光盘的制备具有一定的指导意义。 相似文献
54.
N. Nishi J. Nishijo K. Judai C. Okabe O. Oishi 《The European Physical Journal D - Atomic, Molecular, Optical and Plasma Physics》2007,43(1-3):287-290
UV photoexcitation of (t-butylethynyl copper)24
cluster films induces segregation of the crystals into metallic and organic
phases and leads to evolve the metallic sheets sandwiched by organic
polymers. The growth of the metallic crystals in the plane of the
photo-electromagnetic field is attributed due to plasmon-plasmon interaction
among nanoparticles embedded in dielectric polymer matrices. The surface
enhanced photochemical reaction of residual cluster molecules on the photon
incident direction is expected to take an important role for joining the
metal particles to produce a metallic sheet. We can apply this phenomenon
for photolithographic copper pattern generation on a flexible base plate. 相似文献
55.
56.
57.
In photochemical vapor deposition of aluminum film on silicon using dimethylaluminum hydride, (CH3)2AlH, a surface reaction dominated below a (CH3)2AlH pressure of 0.3 m Torr at 200°C, which was induced only with the 160 nm band emitted from a deuterium lamp. A gas-phase reaction occurred above 0.3 mTorr at 200°C, which could be induced by both 160 nm and 240 nm emission bands from the lamp. To distinguish between surface ad gas-phase reactions, a thickness profile was used. At 240°C the surface reaction could be induced even by the 240 nm band, while the deposits formed under illumination of the two bands were thinner than those obtained with only the 240 nm band, indicating occurrence of vacuum ultraviolet (VUV)-enhanced desorption. The mechanism responsible for the observed wavelength dependence in unclear. The electrical resistivity of the films deposited at 200°C was 4.5 μΩ cm, which did not change with wavelength. 相似文献
58.
本文论述应用光学薄膜技术对汽车窗口玻璃和塑料的若干性能进行改进的技术发展水平,这些性能包括塑料表面的硬化,红外区的反射,紫外区的吸收,偏振化作用,双折射,憎水性以及光学角度选择性等,评论等离子体处理和物理蒸汽淀积薄膜工艺近来应用的一些例子。对于物理蒸汽淀积薄膜所提供的异常功能连同实际使用中它们的耐久性作了特殊的强调。 相似文献
59.
60.
Yunshan Dong 《Applied Surface Science》2006,252(14):5057-5062
A series of Zr-Si-N composite films with different Si contents were synthesized in an Ar and N2 mixture atmosphere by the bi-target reactive magnetron sputtering method. These films’ composition, microstructure and mechanical properties were characterized by energy dispersive spectroscopy, X-ray diffraction, scanning electron microscopy, atomic force microscopy and nanoindentation. Experimental results revealed that after the addition of silicon, Si3N4 interfacial phase formed on the surface of ZrN grains and prevented them from growing up. Zr-Si-N composite films were strengthened at low Si content with the hardness and elastic modulus reaching their maximum values of 29.8 and 352 GPa at 6.2 at% Si, respectively. With a further increase of Si content, the crystalline Zr-Si-N films gradually transformed into amorphous, accompanied with a remarkable fall of films’ mechanical properties. This limited enhancement of mechanical properties in the Zr-Si-N films may be due to the low wettability of Si3N4 on the surface of ZrN grains. 相似文献