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61.
用锌有机源和CO2/H2混合气源PECVD沉积ZnO薄膜   总被引:2,自引:0,他引:2  
在等离子体作用下,以CO2/H2混合气为氧源,Zn(C2H5)2锌为锌源,在单晶硅上生长出高度择优取向的氧化锌薄膜。X射线衍射分析表明,薄膜为六方结构,c轴高度择优;原子力显微镜观察到晶粒是有规律地按六方排布,薄膜的表面粗糙度较小;从光致发光谱还发现在380 nm处有非常强的紫外峰。  相似文献   
62.
500.8 nmNd∶YAG青光激光器光学薄膜的设计与制备   总被引:5,自引:2,他引:3  
从双波长激光运转及和频的机理出发,对LD泵浦Nd∶YAG,LBO腔内和频500.8 nm〖JP2〗青光激光器所使用的光学薄膜进行了设计和制备.在激光反射镜的设计上,为了达到最佳的和频输出,对膜系要求进行了深入分析.采用对谐振腔一端面反射率固定不变并通过对另一腔镜基频光的透射率进行调谐的方法, 在给出合理初始结构后,利用计算机对膜厚进行了优化.并采用双离子束溅射沉积的方法,通过时间监控膜厚法成功制备出青光激光器所使用的全介质激光反射膜, 在室温下实现946 nm和1064 nm双波长连续运转,并通过Ⅰ类临界相位匹配LBO晶体腔内和频在国内首次实现500.8 nm青色激光连续输出.当泵浦注入功率为1.4 W时和频青光最大输出达20 mW.  相似文献   
63.
 利用掺钛的蓝宝石飞秒激光系统输出的单脉冲和多脉冲飞秒激光(中心波长800 nm,脉宽50 fs,靶面聚焦直径Ф 40 μm),分别对BK7玻璃基底上厚约500 nm的单层HfO2和单层ZrO2薄膜进行辐照,得到了这两种薄膜在1-on-1和1 000-on-1测试方法下的激光损伤阈值。实验发现,两种方法下HfO2单层膜的阈值均比ZrO2单层膜的阈值高。从简化的Keldysh多光子离化理论出发,认为HfO2薄膜材料的带比ZrO2的宽是导致上述结果的主要原因。同时,同一种薄膜的多脉冲下的阈值比单脉冲下的低,原因是多脉冲下,飞秒激光对光学薄膜的损伤存在累积效应。  相似文献   
64.
p型未掺杂富锌ZnO薄膜的形成和性能研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
以高纯ZnO为靶材,氩气为溅射气体,利用射频磁控溅射技术在石英衬底上生长出纤锌矿结构的富锌ZnO薄膜.薄膜沿(002)择优取向生长,厚约为1.2μm,呈现电绝缘特性.将溅射的ZnO薄膜在10-3Pa,510~1 000 K的温度范围等温退火1 h,室温Hall测量结果表明ZnO薄膜的导电性能经历了由绝缘—n型—p型—n型半导体的变化.XPS测试表明ZnO薄膜的Zn/O离子比随退火温度的升高而降低,但一直是富锌ZnO,说明未掺杂的富锌ZnO也可以形成p型导电.p型未掺杂富锌ZnO薄膜的形成可归因于VZn受主浓度可以克服VO和Zni本征施主的补偿效应.  相似文献   
65.
利用原子力显微镜分析了ZnO薄膜在具有本征氧化层的Si(100)和Si(111)基片上的表面形貌 随沉积时间的演化. 通过对薄膜生长形貌的动力学标度表征,研究了射频反应磁控溅射条件 下,ZnO薄膜的成核过程及生长动力学行为. 研究发现,ZnO在基片表面的成核过程可分为初 期成核阶段、低速率成核阶段和二次成核阶段. 对于Si(100)基片,三个成核阶段的生长指 数分别为β1=1.04,β2=0.25±0.01,β3=0.74;对 于Si(11 关键词: ZnO薄膜 磁控溅射 生长动力学 成核机制  相似文献   
66.
详细介绍用等效折射率概念设计短波通滤光片的原理和计算方法。根据原理和方法,选择二氧化钛(TiO2)作为高折射率材料、二氧化硅(SiO2)作为低折射率材料。首先从理论上计算出用这2种材料设计的波长λ=950~1150nm的短波通滤光片所需要的周期数,然后给出短波通滤光片的主膜系和光谱曲线。由于据此周期数设计出的膜系光谱曲线在750~810nm处的透过率不符合要求,因此对该膜系进行了改进。依照改进的设计进行多次制备,最终制备出了符合要求的短波通滤光片,找到了最佳制备工艺和方法。最后,对制备出来的短波通滤光片薄膜进行了各种环境实验。实验结果表明,膜层的各项指标符合设计要求。  相似文献   
67.
Au nanoparticles, which were photoreduced by a Nd:YAG laser in HAuCl4 solution containing TiO2 colloid and accompanied by the TiO2 particles, were deposited on the substrate surface. The film consisting of Au/TiO2 particles was characterized by the absorption spectra, scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction (XRD) analysis. The adhesion between the film and substrate was evaluated by using adhesive tape test. It was found that the presence of TiO2 dramatically enhanced the adhesion strength between the film and the substrate, as well as the deposition rate of film. The mechanism for the deposition of Au/TiO2 film was also discussed.  相似文献   
68.
薄原子蒸汽膜的单光子Dcike窄化吸收光谱可以拓展到双光子情形,以级联三能级系统为例,从理论上得到了亚多普勒结构的双光子吸收光谱,其线型表现出和单光子过程相似的与膜厚和探测光波长的比值(L/λ)相关的周期性.当L/λ=(2n+1)/2(膜厚为半波长的奇数倍)时,吸收谱线窄化现象明显.当L/λ=2n/2(膜厚为半波长的偶数倍)时,单光子情形的谱线窄化现象消失,而双光子情形的谱线仍表现为亚多普勒结构,尤其在异侧入射的情形下,可以获得极窄的双光子谱线结构. 这种结构来自原子与腔壁碰撞的消激发效应和双光子过程的抽运-探测机制的贡献. 关键词: 薄原子蒸汽膜 双光子光谱 Dicke窄化  相似文献   
69.
高效透明导电膜荧光屏的研究   总被引:8,自引:8,他引:0  
介绍了一种新型荧光屏结构,采用透明导电膜代替传统荧光屏中的铝膜作电极.分别测试了新型荧光屏和传统荧光屏的加电特性.实验结果表明新型荧光屏具有较高的耐压性能,对提高X射线变像管的空间分辨率有重要作用,而且能延长变像管的寿命.采用透明导电膜制作荧光屏还具有工艺简单,成本低和成品率高的优点.  相似文献   
70.
A para-sexiphenyl monolayer of near up-right standing molecules (nominal thickness of 30 Å) is investigated in-situ by X-ray diffraction using synchrotron radiation and ex-situ by atomic force microscopy. A terrace like morphology is observed, the step height between the terraces is approximately one molecular length. The monolayer terraces, larger than 20 μm in size, are extended along the [0 0 1] direction of the TiO2(1 1 0) substrate i.e. along the Ti-O rows of the reconstructed substrate surface. The structure of the monolayer and its epitaxial relationship to the substrate is determined by grazing incidence X-ray diffraction. Extremely sharp diffraction peaks reveal high crystalline order within the monolayer, which was found to have the bulk structure of sexiphenyl. The monolayer terraces are epitaxially oriented with the (0 0 1) plane parallel to the substrate surface (out-of-plane order). Four epitaxial relationships are observed. This in-plane alignment is determined by the arrangement of the terminal phenyl rings of the sexiphenyl molecules parallel to the oxygen rows of the substrate.  相似文献   
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