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详细介绍用等效折射率概念设计短波通滤光片的原理和计算方法。根据原理和方法,选择二氧化钛(TiO2)作为高折射率材料、二氧化硅(SiO2)作为低折射率材料。首先从理论上计算出用这2种材料设计的波长λ=950~1150nm的短波通滤光片所需要的周期数,然后给出短波通滤光片的主膜系和光谱曲线。由于据此周期数设计出的膜系光谱曲线在750~810nm处的透过率不符合要求,因此对该膜系进行了改进。依照改进的设计进行多次制备,最终制备出了符合要求的短波通滤光片,找到了最佳制备工艺和方法。最后,对制备出来的短波通滤光片薄膜进行了各种环境实验。实验结果表明,膜层的各项指标符合设计要求。 相似文献
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针对唐晋发、郑权老师在《应用薄膜光学》一书中介绍的采用低折射率材料做间隔层,用16个λ/4层完成红外双半波滤光片的设计方法制作的薄膜易发生断裂,该文给出该膜系另一种设计计算方法,即采用高折射率材料做间隔层,用12个λ/4完成膜系设计。与前者相比,该方法节省了材料和时间。同时给出了镀制该膜系的工艺要点,并对镀膜过程中的初始真空度、蒸镀温度和2种材料的蒸发速率做了说明。指出在该工艺实施过程中,首先使用离子源对基底进行活化轰击,然后在蒸镀硫化锌和锗的过程中用离子源进行辅助蒸镀,可得到非常牢固的膜层。 相似文献
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对0.4μm-1.1μm超宽带增透膜的镀制工范进行了研究。根据长期从事该工作的经验和对膜料性能的研究,结合国产设备的实际情况,在膜料的选取上主要考虑其透明光谱区域、折射率、材料的蒸发方式、机械特性、化学稳定性及抗高能辐射等因素;最终选择用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁3种常用膜料镀制0.4μm-1.1μm超宽带增透膜。涉及该膜系的膜层共有8层,结构为:│玻璃│H│M│H│M│H│M│H│L│空气│。制作工艺方便简单、稳定,制做的膜层具有较好的光谱和机械性能,满足光电仪器实际使用要求。 相似文献
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用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁膜料镀制0.4μm~1.1μm超宽带增透膜 总被引:1,自引:0,他引:1
对0.4μm~1.1μm超宽带增透膜的镀制工艺进行了研究。根据长期从事该工作的经验和对膜料性能的研究,结合国产设备的实际情况,在膜料的选取上主要考虑其透明光谱区域、折射率、材料的蒸发方式、机械特性、化学稳定性及抗高能辐射等因素;最终选择用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁3种常用膜料镀制0.4μm~1.1μm超宽带增透膜。涉及该膜系的膜层共有8层,结构为:玻璃■H■M■H■M■H■M■H■L■空气■。制作工艺方便简单、稳定,制做的膜层具有较好的光谱和机械性能,满足光电仪器实际使用要求。 相似文献
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