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采用直流磁控溅射并通过优化工艺参数,在(100)Si衬底上成功制备了高度(100)择优的MgO薄膜和MgO/TiN双层膜结构.对 (100)MgO择优取向温度影响机理做了详细讨论,并利用XRD,AFM,FESEM等手段研究了在(100)Si和(100)TiN/Si两种衬底上,不同工艺条件下MgO薄膜的表面和断面微观结构,表征了MgO薄膜的柱状生长结构和与TiN薄膜的良好外延关系.在对薄膜光学特性的研究中,利用Sellmeier模型获得了Si上MgO薄膜在可见光波段的折射率参数(550 nm处折射率为1.6
关键词:
MgO薄膜
择优取向
直流溅射
折射率拟合 相似文献
155.
利用固相反应法制备了非化学计量配比的类钙钛矿锰氧化物La0.67Sr0.33-x□xMnO3(0拟合表明样品均为单相,在x=O到x=0.33空位浓度范围内晶体对称性没有发生变化,均具有三方对称性,空间群为R(3)c.晶体结构参数随空位浓度x发生了明显变化,可能是由空位在A位和Mn位不确定的占有比例所致.Mn-O-Mn键角随X增加而发生变化,表明MnO6八面体在原有静态畸变的基础上发生了进一步的畸变.对样品电输运特性的分析表明:在s<0.25的范围内,样品随着温度的升高发生金属一绝缘体转变,外加磁场降低了样品的电阻率,同时使居里温度向高温区移动;而当0.25≤x≤O.33时,在室温到95K的温度范围内均未发现样品的金属一绝缘体转变,但是外加磁场仍然降低了样品的电阻率. 相似文献
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158.
基于特征点最小距离拟合的文档图像倾斜检测 总被引:1,自引:0,他引:1
在文档扫描输入的过程中,文档图像不可避免地会发生倾斜,而布局分析及字符识别对页面倾斜十分敏感,因此倾斜检测和矫正是文档分析预处理中的重要环节。提出了一种基于最小距离拟合的文档图像倾斜检测方法。首先通过对文档图像进行二值化、分块、膨胀运算、连通标记等一系列图像处理操作,以此找到特征点;然后采用最小距离法对这些特征点进行直线拟合,便可获得文档的倾斜角。实验结果表明,该方法能够快速、精确地检测文档的倾斜角度。 相似文献
159.
基于电介质复折射率的实验数据,采用最小二乘法结合选取的代表频率拟合得到了电介质的介电谱解析表达式,可以得到电介质在全频段的光频常数和介电常数. 研究了三个典型液态电介质,水、乙醇和甲苯的介电谱. 在实验数据可以获取的频率范围内,采用解析表达式得到的光频常数与采用Kramers-Kronig转换得到的折射率实部和实验得到的折射率虚部吻合得很好. 基于介电谱解析表达式可以预测目前实验无法测量的区域的介电谱. 相似文献
160.
20单元双压电片变形镜对Zernike像差空间拟合能力的实验研究 总被引:1,自引:1,他引:0
利用20单元双压电片变形镜和13×13阵列哈特曼波前传感器所构成的闭环自适应光学系统,实验测试了双压电片变形镜对3~20项静态Zernike像差的空间校正能力,并将实验结果与仿真计算结果进行了对比.最后分析了哈特曼传感器与双压电片变形镜之间的对准误差对实验结果的影响.研究表明,除了少数几项外,双压电片变形镜对3~20项Zernike像差的拟合误差都小于0.5,各项Zernike仿真和实验结果之差平均小于0.1.计算表明,与严格对准的理想情况相比,双压电片变形镜对3~20项Zernike像差中大多数项的拟合误差都随着失配程度的增加而增大,对准精度对于高阶像差拟合效果的影响尤其严重. 相似文献