PEG200改性SiO_2溶胶制备光学增透膜的研究

采用ＴＥＭ、ＳＤＰ 等分析手段对ＰＥＧ２００ 改性的ＳｉＯ２ 溶胶制备参数与光学增透膜的性质进行了研究。结果表明：ＰＥＧ２００ 改性后的ＳｉＯ２ 溶胶簇团粒度分布与交联状况发生显著变化,形成不同的网络结构特征,由此影响膜层的光学增透性能。     

氧化硅包敷对铁黄脱水过程的影响

本文采用ＤＴＡ、ＴＧ、ＨＴＸＴＤ和ＴＥＭ研究了ＳｉＯ２包敷ａ－ＦｅＯＯＨ粒子的脱水过程。从ＤＴＡ和ＴＧ曲线算得的动力学参数表明，ＳｉＯ２包敷ａ－ＦｅＯＯＨ粒子的脱水过程近似为一级反应，其活化能大于未处理的ａ－ＦｅＯＯＨ粒子的活化能。     

在小硅化物SiX~m（X＝Be、B、C、N、O、F、Ne，m＝～4－＋2）中分子成键倾向的从头算研究

此文用从头计算法，在ＨＦ、ＭＰ２、ＭＰ３水平下，使用基组６—３１Ｇ、６—３１＋Ｇ对ＳｉＯ的等电子分子ＳｉＸｍ（Ｘ＝Ｂｅ、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｐ、Ｎｅ，ｍ＝－４～＋２）进行了几何优化，并计算了相应的平衡几何构型下的振动频率，对ＳｉＯ分子，使用ＱＣＩＳＤ（Ｔ）方法考虑了不同水平下的电子相关效应，并考虑了不同基函数６－３１＋Ｇ和６－３１１＋Ｇ的影响。计算结果表明，所有分子的势能曲线都有稳定的极小值，并且键长与频率在ＨＦ、ＭＰ２、ＭＰ３水平上都呈现出明显的规律性，通过与实验上存在的稳定分子ＳｉＯ相比较，可以预言ＮＳＩｉ－和ＳｉＦ＋比其它分子有较明显的成键可能性，所以，ＮＳｉ－和ＳｉＦ＋有可能形成稳定的分子。     

化学复合镀Ni-P-SiO2镀层的XPS和AES分析

本文运用ＸＥＭ、ＡＥＳ和ＸＰＳ分析了Ｎｉ－Ｐ－ＳｉＯ２镀层的表面形貌及镀层组成。研究显示：Ｎｉ－Ｐ－ＳｉＯ２镀层表面光滑、均匀、光洁度好;其相对原子百分数为Ｎｉ７４．５６％,Ｐ１２．３８％,Ｓｉ２．７７％,Ｆｅ２．３２％,Ｏ６．６５％,镀层厚度为６．４０ｕｍ,镀层耐１０％ＮａＣｌ溶液和１％Ｈ２Ｓ气体的腐蚀能力较强。     

H8Si8O12和H8Si7TiO12 团簇的几何构型和电子结构的从头算研究

应用ＨＦ、ＭＰ２和杂化的Ｂ３ＬＹＰ方法,使用３－２１Ｇ基组,对Ｈ２Ｓｉ８Ｏ１２和Ｈ８Ｓｉ７ＴｉＯ１２团簇的几何构型,总能进行了计算,并在Ｂ３ＬＹＰ／３－２１Ｇ的水平上对硅原子的核磁共振化学位移进行了研究,得到的几何构型,以及核磁共振化学位移与实验结果进行了比较,发现吻合得很好。计算了Ｈ８Ｓｉ８Ｏ１２和Ｈ８Ｓｉ７ＴｉＯ１２团簇的Ｍｕｌｌｉｋｅｎ布居数的大小。并对Ｓｉ原子被Ｔｉ原子取代前后的Ｈ８ＳｉＯ１２体系的几何构型、Ｍｕｌｌｉｋｅｎ布居数的变化进行了比较和研究。     

THERMAL INSTABILITY OF D-T BURNING PLASMAS

ＴＨＥＲＭＡＬＩＮＳＴＡＢＩＬＩＴＹＯＦＤ－ＴＢＵＲＮＩＮＧＰＬＡＳＭＡＳ￥Ｂ．Ｒ．ＳＨＩＹ．Ｘ．ＬＯＮＧＨ．Ｇ．ＺＨＡＯ（ＳｏｕｔｈｗｅｓｔｅｒｎｉｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＰｈｙｓｉｃｓ，Ｐ．Ｏ．Ｂｏｘ４３２，Ｃｈｅｎｇｄｕ６１００４１，Ｓｉｃｈｕａｎ...     

一类新颖含C60复合材料的合成及其光限制效应的研究

报道了在Ｃ６０与ＮＨ２（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３中的胺基反应生成Ｃ６０－ＮＨ２（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３物质后引入ｒ－缩水甘油醚基丙基三甲氧基硅烷「ＣＨ２ＯＣＨＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３，３－Ｇｌｙｃｉｄｏｘｙｐｒｏｐｌｔｒｉｍｅｔｈｏｘｙｓｉｌａｎｅ，简称ＫＨ５６０」与二甲基二乙氧基硅烷「（ＣＨ３）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）２，Ｄｉｅｔｈｏｘｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｅ     

在小硅化物SiX^m（X=Be,B,C,N,O,F,Ne,m=～4—＋2）中分子成…

此文用从头计算法，在ＨＦ，ＭＰ２，ＭＰ３水平下，使用基组６－３１Ｇ，６－３１＋Ｇ对ＳｉＯ的等电子分析ＳｉＸ＾ｍ（Ｘ＝Ｂｅ，Ｂ，Ｃ，Ｎ，Ｆ，Ｎｅ，ｍ＝－４～＋２）进行了几何优化，并计算了相应的平衡几何构型下的振动频率，对ＳｉＯ分子，使用ＱＣＩＳＤ（Ｔ）方法考虑了不同水平下的电相关效应，并考虑了不同其函数６－３１＋Ｇ和６－３１１＋Ｇ的影响。计算结果表明，所有分子的势能曲线都有稳定的极小值，并且键长与频     

在硅酸盐矿物,玻璃和熔体中Si和Al的配位与局部结构：K—边 …

本文采用步辐射的ＳｉＫ－边Ｘ－射线吸收近边结构（ＸＡＮＥＳ）谱研究了Ｓｉ在ＳｉＯ２－Ｐ２Ｏ５和Ｎａ２Ｏ－ＳｉＯ２－Ｐ２Ｏ５的低压磷硅酸盐玻璃中结构与配位,以及Ｓｉ的配位几何随玻璃中Ｐ２Ｏ５含量而变化：同步辐射的Ａｌ Ｋ－边ＸＡＮＥＳ谱研究了Ａｌ在铝硅酸盐成分为ＮａＡｌＳｉ２Ｏ６－ＮａＡｌＳｉ３Ｏ８的玻璃和熔体中的配位和局部结构,并提供了直接的实验证据该成分的玻璃体系中由于压力的变化所诱导Ａｌ配位的     

KrF Laser-induced Damage to ZrO_2/SiO_2 Coatings

ＫｒＦＬａｓｅｒ－ｉｎｄｕｃｅｄＤａｍａｇｅｔｏＺｒＯ_２／ＳｉＯ_２Ｃｏａｔｉｎｇｓ￥ＷＡＮＧＮａｉｙａｎ；ＧＡＯＨｕａｉｌｉｎ（ＣｈｉｎａＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＡｔｏｍｉｃＥｎｅｒｇｙ，Ｐ．Ｏ．Ｂｏｘ２７５－７，Ｂｅｊｉｊｎｇ１０２４１３，Ｃｈｉｎ...     

碳氢碳氟表面活性剂混合胶束的NMR和ESR研究

用ＮＭＲ，ＥＳＲ和表面张力测量研究了３－十二烷氧基－２－羟丙基磺酸钠（ＳＤＥＨＳ）与全氟辛酸钠（ＳＰＦＯ）混合溶液微环境性质，表面张力测定表明长链烷基磺酸盐中嵌入羟丙基后，其表面活性提高，而与ＳＰＦＯ混合溶液的表面活性高于单一的ＳＤＥＨＳ和ＳＰＦＯ，ＮＭＲ和ＥＳＲ研究表明，ＳＤＥＨＳ的碳氢链与ＳＰＦＯ的碳氟链之间有强烈的相互作用，ＳＤＥＨＳ与ＳＰＦＯ形成混合胶束，混合胶束“界面”的微观粘度较ＳＤＥ     

GIANT MAGNETO-IMPEDANCE IN Fe-BASED SOFT FERROMAGNETIC RIBBONS

ＧＩＡＮＴＭＡＧＮＥＴＯ－ＩＭＰＥＤＡＮＣＥＩＮＦｅ－ＢＡＳＥＤＳＯＦＴＦＥＲＲＯＭＡＧＮＥＴＩＣＲＩＢＢＯＮＳＣｈｅｎＣｈｅｎＭｅｉＬｉａｎｇｍｏＤｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆＰｈｙｓｉｃｓ，ＳｈａｎｄｏｎｇＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，Ｊｉｎａｎ２５０１００...     

ICP—AES法测定高纯二氧化锆中痕量杂质

介绍了高纯二氧化锆中痕量杂质元素Ｆｅ，Ｎａ，Ｓｉ，Ｔｉ的ＩＣＰ－ＡＥＳ测定方法。样品以浓Ｈ２ＳＯ４及（ＮＨ４）２ＳＯ４溶解，采用空白背景校正法消除基体Ｚｒ的光谱干扰，以基体匹配法补偿基体效应。各元素平均回收率为９５％－１０６％，相对标准偏差为１．３％－３．０％。     

MPEG-2先进音频编码(AAC)的研究和软件仿真

ＭＰＥＧ－２ＡＡＣ是ＩＳＯ／ＩＥＣ ＭＰＥＧ组织继 ＭＰＥＧ－１、ＭＰＥＧ－２音频编解码标准后,制定 的最新国际标准（ＩＳＯ／ＩＥＣ １３８１８－７）,在６４ｋｂｐｓ／每声道低码率时能提供全透明音质。本文对其编 解码算法进行了简要介绍。论文作者对ＭＰＥＧ－２ＡＡＣ进行了软件仿真,文中介绍了仿真结果,仿 真时对ＡＡＣ标准所附编码范例中的一些不妥之处,作了改进,文中列举了６方面的修正。     

纳米晶Y_2SiO_5∶Eu的浓度猝灭研究

报道了分别用溶胶－凝胶法合成的Ｙ２ＳｉＯ５∶Ｅｕ纳米晶和用高温固相法合成常规尺度的Ｙ２ＳｉＯ５∶Ｅｕ材料的光致发光光谱和猝灭浓度的实验研究．结果表明：纳米Ｙ２－ｘＥｕｘＳｉＯ５比常规尺度的Ｙ２－ｘＥｕｘＳｉＯ５有更高的猝灭浓度和更高的发光亮度．理论分析认为这是由于在纳米材料中能量共振传递被阻断和猝灭中心在各个纳米晶内分布的涨落造成的．这个结果为高亮度的Ｙ２ＳｉＯ５∶Ｅｕ纳米材料的实际开发应用展示了广阔前景．     

类小硅化物SiXm（X—H,F,Cl;m=1—4）中平衡几何和振动频率…

本文使用分子轨道从头算方法，在ＨＦ／６－３１Ｇ和ＭＰ２／６－３１Ｇ水平下，计算了小硅化物ＳｉＸｍ的平衡几何和谐振子振动频率。理论值和实验值的比较表明，对于ＳｉＨｍ分子，实验的键长位于ＨＦ键长和ＭＰ２键长之间，而ＭＰ２振动频率更接近于实验的振动频率。对于ＳｉＣｌｍ分子，无论是键长还是振动频率ＨＦ值和ＭＰ２值都比较接近。以于ＳｉＦｍ分子，处于这两类的中间情况，关联作用随着Ｘ原子的原子序数的增加而减弱。     

One Dimensional Kinetic Study on E-Beam-Excited KrF Laser Including the Vibrational Relaxation

ＯｎｅＤｉｍｅｎｓｉｏｎａｌＫｉｎｅｔｉｃＳｔｕｄｙｏｎＥ┐Ｂｅａｍ┐ＥｘｃｉｔｅｄＫｒＦＬａｓｅｒＩｎｃｌｕｄｉｎｇｔｈｅＶｉｂｒａｔｉｏｎａｌＲｅｌａｘａｔｉｏｎＦＥＮＧＧｕｏｇａｎｇＧＡＯＪｕｎｓｉＳＨＡＮＹｕｓｈｅｎｇ（Ｐ．Ｏ．Ｂｏｘ２７５...     

富电子膦硫混配钴簇合物Co6S8[P（OCH3）3]6的电化学研究

利用循环伏安法研究了膦硫混配原子簇化合物Ｃｏ６Ｓ８「Ｐ（ＯＣＨ３）３」６的电化学行为,结果表明Ｃｏ６Ｓ８「Ｐ（ＯＣＨ３）３」６在ＣＨ２Ｃｌ２训可观察到三个可逆氧化还原过程,其电子转移过程为;Ｃｏ６Ｓ８「ｐ（ｏｃｈ３）３」６－＝＾（－Ｅ,＋Ｅ）Ｃｏ６Ｓ８「Ｐ（ＣＯＨ３０３」６ｙ０＝（＾－ｅ,＋ｅ）Ｃｏ６Ｓ８「Ｐ（ＯＣＨ３）３」６＾＋＝＾（－ｅ,＋ｅ）Ｃｏ６Ｓ８「Ｐ（ＯＣＨ３）３」６＾２＋并探讨了其电     

Design of Metal-clad Ti: LiNbO_3 Polarizer

ＤｅｓｉｇｎｏｆＭｅｔａｌ－ｃｌａｄＴｉ：ＬｉＮｂＯ＿３ＰｏｌａｒｉｚｅｒＨＵＨ．Ｚ．，ＣＨＥＮＧＧ．（ＤｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆａｐｐｌｉｅｄＰｙｓｉｃｓ，ＴｉａｎｊｉｎＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，Ｔｉａｎｊｉｎ３０００７２，Ｃｈｉｎａ）ＧＥＮＦ；ＳＯＮＧ...     

激光诱发SiH4＋CH4等离子体的发射光谱

本工作采用光学发射谱方法测量了ＴＥＡ ＣＯ２脉冲激光辐射ＳｉＨ４＋ＣＨ４系统产生的等离子体反应过程中的发射谱特性，探测到了Ｓｉ，Ｓｉ＾＋，Ｓｉ＾２＋，Ｃ，Ｃ＾＋，Ｃ＾２＋，ＣＨ，ＳｉＨ，ＳｉＨ＾＋，Ｓｉ２和Ｈ的特征辐射，研究了含Ｃ，Ｓｉ碎片粒子光谱随实验条件的变化规律，并讨论了反应条件对ＯＥＳ的影响。