新型四硫代富瓦烯衍生物的合成及其性质的研究

合成了3个新的含有卤素取代基的四硫代富瓦烯衍生物及6个新的相关化合物。利用溶液的电子吸收光谱对四硫代富瓦烯衍生物的性质进行了研究。研究结果表明, 四硫代富瓦烯衍生物的分子中π轨道之间的能级差较小, 因而分子具有较高的稳定性。     

基于吡咯并四硫富瓦烯结构的D-π-A型化合物的合成及其非线性光学性质的理论研究

以吡咯并四硫富瓦烯衍生物（1）为原料,经过Vilsmeier甲酰化、Wittig反应或交叉偶联反应得到D-π-A二素系化合物（4a, 5a）,为了比较以N-甲基吡咯并四硫富瓦烯衍生物（2）出发,用同样的方法合成了N-甲基化的D-π-A二素系化合物（4b, 5b）。用循环伏安法（CV）和UV-VIS研究了目标化合物的电化学和光物理性质,并进行了非线性光学性质的理论计算。     

两个四硫富瓦烯分子正离子自由基TTF·^＋之间的共价吸引作用

使用MP2／6-311G方法得到了四硫富瓦烯自由基正离子二聚体（TTF·^＋ -TTF·^＋）能量极小点的结构．这显示这种正离子间的吸引作用存在．这种新的吸引作用是望远镜形状的20中心2电子分子间共价π/π键．这种共价π/π键的键能约为-21kcal·mol^-1,它被正离子间的库伦排斥作用掩盖．有负离子围绕的四硫富瓦烯自由基正离子二聚体（TTF·^＋ -TTF·^＋）体系是稳定的．     

Eastman-AQ/四硫富瓦烯修饰碳纤维微盘电极

利用新型的阳离子聚合物膜将四硫富瓦烯修饰到电极表面上，并研究了修饰电极的电化学行为。研究了浸泡时间、扫描速度和支持电解质对修饰电极性能的影响；循环伏安法、计时电流法和交流阻抗法表明四硫富瓦烯在膜中的扩散是控制步骤。四硫富瓦烯在膜中的第一对氧化还原峰呈现可逆的、单电子反应。用循环伏安法测得了ＴＴＦ＋ＴＴＦＺＴＴＦ反应的平衡常数。     

基于吡咯并四硫富瓦烯结构的D-π-A型化合物的合成及其非线性光学性质的理论计算

以吡咯并四硫富瓦烯衍生物(1)为原料,经过Vilsmeier甲酰化、Wittig反应或交叉偶联反应得到D-π-A型化合物(6a,7a),为了比较N-甲基的影响,以N-甲基吡咯并四硫富瓦烯衍生物(2)出发,用同样的方法合成了N-甲基化的D-π-A型化合物(6b,7b). 用循环伏安法(CV)和UV-Vis研究了目标化合物的电化学和光物理性质,并进行了非线性光学性质的理论计算. 结果表明,目标化合物的紫外最大吸收波长在325～383 nm之间,具有较长共轭结构的化合物7a和7b显示出较好的三阶非线性光学性质, 它们在λ=1 064 nm基频下的三阶非线性系数γ值达5×10-33 esu.     

低聚四硫富瓦烯的合成与研究进展

概括了伸展的给体-低聚四硫富瓦烯的合成方法, 讨论了这些给体的环伏安特性及其电荷转移复合物与自由基阳离子盐的研究进展。对低聚四硫富瓦烯的发展前景进行了展望。     

富勒烯C60硫桥键联四硫富瓦烯衍生物的理论研究

利用半经验AM1法研究了富勒烯C₆₀硫桥键联四硫富瓦烯衍生物和富勒烯C₆₀键联四硫富瓦烯衍生物的几何构型,电子结构.计算结果显示,富勒烯C₆₀硫桥键联四硫富瓦烯衍生物的四硫富瓦烯(TTF)平面与C₆₀发生作用,使其弯曲的程度比富勒烯C₆₀键联四硫富瓦烯衍生物的大,从而形成一种独特的四硫富瓦烯(TTF)平面半包裹C₆₀的空间构型的D-A体系.这很可能是由于C-S单键的灵活性造成的.而且它们的HOMO轨道主要分布在四硫富瓦烯(TTF)部分,而LUMO轨道则主要分布在C₆₀上.预测了富勒烯C₆₀硫桥键联四硫富瓦烯衍生物很有可能在激发态下产生更长寿命的电荷分离态.     

双（亚烷二硫基)四硫富瓦烯衍生物的合成及其电化学性质

以四(氰乙硫基)四硫富瓦烯为原料经醇钠消去氰乙基生成四硫富瓦烯四硫盐， 再与二元卤代烷烃化反应，除了得到三种文献报道的双(亚烷二硫基)四硫富瓦烯衍 生物外，还得到三种新的“四桥”双—四硫富瓦烯衍生物，为“桥式”双—四硫富 瓦烯衍生物的合成提出了一种新的方法．并研究了它们的循环伏安图、电化学性质 和紫外—可见光光谱．     

1，3，4，6－四硫代戊搭烯－2，5－二酮制备含硫取代基的四硫富瓦烯的研究

以１，３，４，６－四硫代戊搭烯－２，５－二酮为原料，经偶联、醇解、烃化或醇解、烃化、偶联等步骤，制得四甲硫基四硫富瓦烯、四乙硫基四硫富瓦烃、二喹喔啉硫醚、４－甲硫基－５－甲氧甲酰硫基－１，３－二硫环戊烯－２－酮、四甲硫基乙烯和４，４＇－二甲硫基－５，５＇－二甲氧甲酰硫基四硫富瓦烯及它的异构体混合物．提出了１，３，４，６－四硫代戊搭烯－２，５－二酮醇解机理．讨论了未得到某些预期产物的原因．报道了３种四硫富瓦烯衍生物的循环伏安图及电化学性质．     

一类新型有机给体四硫代富瓦烯插烯物的合成与研究进展

概括了一类新型的有机电子给体－四硫代富瓦烯插烯物的合成方法，讨论了给体的循环伏安特性，并对其电荷转移复合物及自由基基阳离子盐的研究进展进行了简要的评述，参考文献４５篇。     

“A-C≡C-TTF-C≡C-A”型四硫富瓦烯衍生物的合成与性质研究

四硫富瓦烯及其衍生物是性能优良的电子给体.本文利用Sonogashira反应将吡啶基团连接在四硫富瓦烯单元上,合成了"A-C≡C-TTF-C≡C-A"型四硫富瓦烯共轭体系衍生物4,4′(5′)-二-(4-吡啶乙炔基)-四硫富瓦烯(TTF4N).吸收光谱、电化学和Pb2+配位键合研究表明,三键作为桥基能够有效实现分子内的电荷转移.金属Pb2+离子与吡啶基团的配位能够引起TTF4N的吸收光谱、核磁氢谱和电化学性质的显著变化.     

四硫富瓦烯三氮唑衍生物的合成及应用研究进展

四硫富瓦烯是一类重要的电子供体化合物,在分子导体和超分子化学领域引起广泛关注.主要介绍Cu(I)催化的叠氮和炔基的环加成反应(Cu AAC)在合成四硫富瓦烯三氮唑衍生物方面的应用进展,主要涉及含端基叠氮的四硫富瓦烯化合物和含端基炔的反应底物反应以及含端基炔的四硫富瓦烯化合物和含端基叠氮的反应底物反应两类.同时,对利用Cu AAC点击反应合成的含三氮唑功能基的四硫富瓦烯衍生物在分子识别、分子组装以及分子光电和光伏器件等光电功能材料领域的应用进展进行综述.     

四硫富瓦烯衍生物修饰的银溶胶

四硫富瓦烯衍生物修饰的银溶胶;银溶胶;纳米粒子;四硫富瓦烯;氧化还原;表面修饰     

不对称四硫富瓦烯衍生物合成新方法及其电化学性质的研究

以2,3－二（2′－氰乙硫基）－6,7－亚烷硫基四硫富瓦烯为原料,在醇钠的作用下消去氰乙基生成的二元硫负离子与对－二（氯甲基）苯反应除了生成两种新的不对称四硫富瓦烯衍生物外,还得到两种新的“二桥”－双四硫富瓦烯衍生物,为四硫富瓦烯衍生物的合成提供了一种新的方法。并对不对称四硫富瓦烯衍生物和“二桥”－双四硫富瓦烯衍生物的循环伏安图、电化学性质和UV－Vis光谱进行了研究。     

新型I型五聚四硫富瓦烯衍生物的合成和性质

利用2,3-二(2'-氰乙基硫基)-6,7-二烷硫基四硫富瓦烯在甲醇钠的作用下消除一个保护基团生成四硫富瓦烯单钠盐,与1,4-二(氯甲基)苯反应,形成单桥-双(四硫富瓦烯)衍生物,生成的单桥-双(四硫富瓦烯)衍生物再次在甲醇钠的作用下消除剩下的保护基团,形成单桥-双(四硫富瓦烯)衍生物二钠盐,最后与四(3'-碘丙硫基)四硫富瓦烯反应形成新型I型五聚TTF衍生物,并通过循环伏安法和化学氧化法分别对其氧化还原性质和紫外光谱进行了研究.     

多金属氧酸盐有机-无机杂化材料

本文总结并评述了多金属氧酸盐 (POMs)有机 无机杂化材料领域的研究进展 ,包括POM有机或有机金属衍生杂化材料 ,电荷转移 (CT)盐和有机 无机复合膜。POM有机或有机金属衍生杂化材料分为四类 ,即 ( 1 )配体作抗阳离子 ,( 2 )配体直接与POM骨架配位 ,( 3)配体与杂金属配位 ,和 ( 4)有机金属作配体。此外 ,本文还描述了POMCT杂化材料 ,它们含有不同的有机p 电子给体 ,例如取代酰胺、芳香胺或富含电子的四硫富瓦烯 (TTF)、双 (乙烯二硫基 )四硫富瓦烯 (BEDT TTF或ET)及二茂铁 ;以及POM装法和电化学生长法。最后 ,本文对这些杂化材料的理性合成与潜在应用进行了展望     

新型I型五聚四硫富瓦烯衍生物的合成和性质

利用2,3-二(2'-氰乙基硫基)-6,7-二烷硫基四硫富瓦烯在甲醇钠的作用下消除一个保护基团生成四硫富瓦烯单钠盐,与1,4-二(氯甲基)苯反应, 形成单桥-双(四硫富瓦烯)衍生物, 生成的单桥-双(四硫富瓦烯)衍生物再次在甲醇钠的作用下消除剩下的保护基团, 形成单桥-双(四硫富瓦烯)衍生物二钠盐, 最后与四(3'-碘丙硫基)四硫富瓦烯反应形成新型I型五聚TTF衍生物, 并通过循环伏安法和化学氧化法分别对其氧化还原性质和紫外光谱进行了研究.     

新型四四硫富瓦烯环蕃的合成和性质

利用2,3-二(2-氰基乙硫基)-6,7-二烷硫基四硫富瓦烯在甲醇钠的作用下消除一个保护基团生成四硫富瓦烯单钠盐, 与1,4-二氯甲基苯反应, 形成“单桥”-双(四硫富瓦烯)衍生物, 生成的“单桥”-双(四硫富瓦烯)衍生物再次在甲醇钠的作用下消除剩下的保护基团, 形成“单桥”-双(四硫富瓦烯)衍生物二钠盐, 最后与二溴代烷反应形成新型四四硫富瓦烯环蕃, 并通过循环伏安法和化学氧化法分别对其氧化还原性质和紫外光谱进行了研究.     

氧化作用控制“四硫富瓦烯-蒽”二元体系的荧光开关行为

利用Wittig反应将高荧光量子产率的蒽基团通过双键连接在四硫富瓦烯单元上,合成了二元共轭体系化合物TTFan.在氧化作用的控制下,四硫富瓦烯单元的给电子能力降低,TTFan的荧光发射强度增大至原来的十几倍,实现了荧光的“off-on”过程.     

新型三(四硫富瓦烯)环蕃的合成和性质

利用四(3'-碘丙硫基)四硫富瓦烯和四硫富瓦烯二钠盐反应合成新的三(四硫富瓦烯)环蕃, 并通过循环伏安法和化学氧化法分别对其氧化还原性质和紫外光谱进行了研究.