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1.
无穷限广义积分比较判敛法的明显弱点是,在判别之前要先估计积分的敛散性,而后寻找一个适当的“尺度”与之比较。如果被积函数比较复杂,要作出正确的估计和选择恰当的“尺度”都并非易事。为弥补这一不足,我们给出如下根值判敛法。定理1 若f(x)在任意区间[1,b]上恒正、 相似文献
3.
4.
本文研究了独立随机变量之和的绝对矩的几个性质, 其中包括$\ep|X+Y|-\ep|X-Y|$的表达式, 这里$X$和$Y$是相互独立的随机变量. 相似文献
5.
本文目的在于建立共形平坦黎曼流形中子流形的数量曲率截面曲率间关系的几个不等式,在流形是常曲率的情况下,这些不等式改进了B.Y.Chen和M.Okumura的结果。§1.基本公式和引理设M~(n+p)是一个n+p维的共形平坦黎曼流形,V~n是M~(n+p)的n维子流形。在M~(n+p)中选取局 相似文献
6.
Fast stepwise procedures of selection of variables by using AIC and BIC criteria are proposed inthis paper. We shall use a short name "FSP" for these new procedures. FSP are similar to the well-known stepwise regression procedures in computing steps. But FSP have two advantages. One of theseadvantages is that FSP are definitely convergent with a faster rate in finite computing steps. Anotheradvantage is that ESP can be used for large number of candidate variables. In this paper we alsoshow some asymptotic properties of FSP, and some simulation results. 相似文献
7.
本文借助文[1]除去零空间的技巧,利用L—S度数理论讨论了一类浙近线性波方程。在对非线性项不做单调性假设的前提下,给出了一个新的多解定理。 相似文献
8.
9.
10.
Fabrication and Characterization of Ni Thin Films Using Direct-Current Magnetron Sputtering 总被引:1,自引:0,他引:1 下载免费PDF全文
Ni films are deposited by using ultra high vacuum dc magnetron sputtering onto silicon substrates at room temperature, and the high-quality and high-density films are prepared. The parameters, such as thickness, density and surface roughness, are obtained by using small-angle x-ray diffraction (XRD) analyses with the Marquardt gradient-expansion algorithm. The deposition rate is calculated and the Ni single layer can be fabricated precisely. Based on the fitting results, we can find that the surface roughness of the Ni films is about 0.7nm, the densities of Ni films are around 97% and the deposition rate is 0.26nm/s. The roughness of the surface is also characterized by using an atomic force microscope (AFM). The changing trend of the surface roughness in the simulation of XRD is in good agreement with the AFM measurement. 相似文献