MOCVD生长的InN薄膜中In分凝现象

利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)方法不同生长条件下在c面蓝宝石衬底上制备了InN薄膜,通过不同的物理表征手段研究了InN薄膜的物理性质,结果表明:合适的生长温度可以抑制InN薄膜表面分凝现象。研究认为较低的生长温度使作为N源的NH3分解率较低,In—N的成键可能性小,导致In在表面聚集出现分凝;而较高生长温度时,InN薄膜中In—N键能较小,易发生断裂,反应活性较强的N和H原子逸离薄膜表面,In滞留在薄膜表面也导致In分凝现象的出现。相对于表面分凝的样品,未出现表面分凝的样品的薄膜晶体质量和表面形貌也得到了提高。同时,通过Raman散射谱研究了晶格振动E2声子模的应力效应。     

Synthesis of [100] Wurtzite InN Nanowires and [011] Zinc-Blende InN Nanorods

One-dimensional wurtzite InN nanowires and zincblende InN nanorods are prepared by chemical vapour deposition （CVD） method on natural cleavage plane （110） of GaAs. The growth direction of InN nanowires is [100], with wurtzite structure. The stable crystal structure of InN is wurtzite （w-InN）, zincblende structure （z-InN） is only reported for 2D InN crystals before. However, in this work, the zincblende InN nanorods [011] are synthesized and characterized. The SEM and TEM images show that every nanorod shapes a conical tip, which can be explained by the anisotropy of growth process and the theory of Ehrlich Schwoebel barrier.     

生长温度对AlGaInN四元合金薄膜性质的影响

利用金属有机物化学气相沉积（MOCVD）方法在c面蓝宝石（α-Al₂O₃）衬底上外延生长了铝镓铟氮（AlGaInN）四元合金薄膜.合金薄膜的生长温度设置为800,850,900 ℃,对获得的样品进行对比分析发现：随着生长温度的升高,合金中的In组分单调降低,而Al组分则基本保持恒定.当合金薄膜的生长温度升高到850 ℃时,薄膜表面开始出现V型缺陷;生长温度进一步升高到900 ℃时,偏析In原子的脱吸附作用加剧,V型缺陷成核被弱化,使V型缺陷的特征尺 关键词： AlGaInN 金属有机物化学气相沉积 生长温度