SEELFS对几种物质表面原子键长的研究

表面 (或电子 )扩展的能量损失精细结构 (ＳｕｒｆａｃｅｏｒＥｌｅｃｔｒｏｎＥｘｔｅｎｄｅｄＥｎｅｒｇｙＬｏｓｓＦｉｎｅＳｔｒｕｃｔｕｒｅ ,即ＳＥＥＬＦＳ或ＥＥＬＦＳ)谱是近二十年来新发展起来的一种表面分析技术 ,文献中已大量报导过有关ＥＥＬＦＳ在不同体系中应用的研究结果［１ -５］．ＥＥＬＦＳ技术具有设备简单 ,无热效应 ,收谱时间短 ,且不要求固体表面长程有序等优点［６］,但是国内关于ＥＥＬＦＳ技术的报导还不多见．为此 ,我们对本实验室现有的俄歇电子能谱仪作了一些改进 ,并以此作为实验设备 ,用ＥＥＬＦＳ技术分析…     

XPS中Tougaard法本底扣除初探

介绍了XPS(X-ray photoelectron spectroscopy)谱图中本底产生的机理以及Tougaard法本底扣除原理的简略推导过程,提出了可供编程的约化形式,使用VC语言编写程序试对不同样品(含金属、过渡金属及非金属)的谱图进行本底扣除,并与Shirley法、直线法本底扣除进行准确性的比较,提出了Tougaard方法试用于非金属粉末化合物样品的测试分析结果.     

SEELFS对Mg-Al复合氧化物结构的研究

应用EXAFS类似原理,对MgO和Mg-Al复合氧化物[Mg(Al)O]中Mgk-边的SEELFS(SurfaceExtendedenergyLossFineStructure)一阶微分谱进行数据处理,得到了Mg近邻原子的配位距离。研究发现,同MgO比较,由于Al^3^+的引入,使[Mg(Al)O]中的Mg－mg配位距离增加,配位数降低,而Mg－O的配位环境基本不变。     

曝光-显影的时间间隔对重铬酸盐明胶全息性能影响的研究

本文从X射线光电子能谱和衍射效率两个方面研究了曝光-显影间的间隔时间对重铬酸盐明胶(DCG)全息的影响。结果发现,DCG中的Cr2P_3/2的X射线光电子能谱和DCG全息图的衍射效率受曝光-显影间的间隔时间影响较大。DCG中的Cr2P_3/2的X射线光电子能谱中的576.4eV附近的峰的相对强度和DCG全息图的衍射效率随这个间隔时间的变化趋势基本相同。即:它们在较长的曝光-显影的时间间隔里,都经历了上升、达到最大值、然后又下降。这些实验结果表明了DCG全息图的衍射率和DCG中的576.4eV附近状态的铬的相对强度的相互依赖性     

SSIMS表征催化剂的表面状态和结构层次

自Benninghoven。A 提出静态二次离子质谱(Static Secondary Ion Mass Spectrometry或SSIMS)方法以来,它就成为一种极灵敏的表面分析技术。近年来,SSIMS技术在多相催化研究中的应用日益广泛。我们曾成功地用SSIMS表征过MoO_3-NiO-P_2O_5/γ-Al_2O_3催化剂的表面结构层次.本工作中,我们应用SSIMS,并结合XPS对新型催化剂MoO_-CoO/TiO_2-Al_2O_3的表面结构层次和表面状态作了研究.实验结果和我们原先用PASCA(Positron     

APPLICATION OF XPS TO STUDYING DISPERSION AND SURFACE STATE FOR MoO_3 SUPPORTED ON THE SURFACE OF TiO_2, γ-Al_2O_3 AND SiO_2

In MoO_3/TiO_2, MoO_3/γ-Al 2O_3 and MoO_3/SiO_2 systems, the relationships between I_(Mo3d)/I_(Ti2p), I_(Mo3d)/I_(Al2p), I_(Mo3d)/I_(Si2p) and added amount of MoO_3(g/g carrier) were studied by XPS. Experiments showed that all the curves obtained had a turning point each, corresponding to the monolayer dispersion threshold by XRD in our previous paper. This means that both methods are successful for studying the maximum dispersion amount and surface state of supported metal oxides (or salts) catalysts. Although the two methods are not from the same principle, they are verifiable and complementary to cach other in studying dispersion problems.     

用金沉积量校准曲线法校准XPS结合能测定中的荷电位移

应用XPS测定不良导体样品的结合能时,首先要解决样品的荷电问题。本文结合对负载型催化剂结合能测定工作,提出甩金沉积量校准曲线法,以Au4f_(7,2)为基准,对荷电效应进行校准,测量准确度为≤0.2eV。     

用ISS研究负载型催化剂中活性组分与载体间的相互作用

用惰性离子作射体与固体表面原子相互作用,在低能区(0.5～3keV),一般认为,主要是弹性碰撞。由电子云交迭所产生的电子效应往往可以忽略,或者说这类非弹性碰撞效应与弹性碰撞能量损失相比往往很小,实验上的能量分辨不足以探测这类非弹性效应即电子效应。本文选择氧化物和卤化物负载型催化剂体系并从实验上采取了一些方法,使由于电子效应而引起的散射惰性离子的能量损失可以得到分辨。众所周知,电子效应与化学键力密切相关。有人虽曾对由于电子效应等而引起被测元素原子的“质量”变化提出过“有效质量”的概念,但未发表过有关化学方面的工作。本文对MoO_3/TiO_2,MoO_3/γ-Al_2O_3,MoO_3/SiO_2,CuO/γ-Al_2O_3,CuCl/γ-Al_2O_3等催化剂体系进行了研究,发现由于电子效应而     

应用XPS研究MoO_3在TiO_2,λ-Al_2O_3和SiO_2等载体表面上的分散量和表面状态

本文应用XPS法测定了MoO_3/TiO_2,MoO_3/γ-Al_2O_3和MoO_3/SiO_2等体系的I_(Mo3d)/I_(Ti2p),I_(Mo3d)/I_(Al2p),I_(Mo3d)/I_(Si2p)随MoO_3加入量(g/g载体)递变的关系。测定结果表明MoO_3在这几种载体上都有一分散阈值,阈值前MoO_3在载体上呈单层分散,阈值后剩余的MoO_3以晶粒形式分布在载体上。这些结果都与X射线相定量外推所得的结果吻合良好。说明这两种方法在研究氧化物负载型催化剂的分散量和表面状态上都是有效的。     

硅表面上构筑具有化学特性的图形的新方法

为了在硅基底上得到不同化学基团修饰的图形,在氢终止硅（111）表面运用光刻技术和光化学反应结合来控制表面成膜反应的位置,并用AFM、XPS、接触角测定等验证了这种方法的可行性.