LiNd(PO3)4晶体的热分析研究

对LiNd(PO₃)₄晶体分别在N₂气和空气下进行了TG和DTA热分析研究,给出TG和DTA曲线,讨论了LNP晶体在N₂气和空气下不同的热分解机理.得到分解产物分别为Nd₄(P₂O₇)₃和NdP₂O₇.     

KTiOAsO4晶体的铁电畴与位错的多种实验方法研究

利用原子力显微镜,同步辐射X射线形貌术和化学腐蚀光学显微等方法深入研究了KTiOAsO4晶体缺陷中的铁电畴和位错.首次用原子力显微镜给出了用两种腐蚀剂腐蚀过的KTA晶体表面的铁电畴和位错蚀坑的照片及定量信息,如发现铁电畴的明区要高于暗区,且两者的粗糙度明显不同.这为研究各种晶体的生长缺陷开辟了一条新的途径.     

LiNdP4O12晶体的生长缺陷

LiNdP4O12(LNP)晶体是一种新型的激光材料.本文报道了用同步辐射X射线白光形貌术和光学显微法研究由助熔剂籽晶旋转法生长的LNP晶体的生长缺陷,观察到了圆形生长台阶及精细的系列台阶结构,对晶体中的包裹物和位错缺陷等进行了详细的观察描述,还发现了一种比较奇特的腐蚀沟槽,分析了这种腐蚀沟槽的形成机理及各种缺陷的成因和克服办法.     

具有两种不同配位隔室的含酚桥基'N~5O~2' Schiff碱大环铜钠 异双核配合物的 合成及结构

以Cu^2^+和Na^+同时作为模板,用2,6-二甲酰基对甲苯酚直接与一定比例的乙二胺,二-1,2-亚乙基-三胺发生[2+2]型Schiff碱缩合,合成了含两个不同隔室Schiff碱大环配体(L^2^-)的铜钠异双核配合物[CuNaL(ClO~4)]。并对它进行了元素分析,UV-Vis,IR,^1HNMR,摩尔电导和ESR谱等项表征。ESR谱显示三个g值峰,对应的g~x,g~y,g~z值分别为1.987,2.168,2.233。单晶X射线四圆衍射分析表明,该配合物为单斜晶系,空间群P2~1/n,晶胞参数a=0.9255(3),b=1.7689(2),c=1.6055(2)nm,β=101.69(2)ⅲ,Z=4,V=2.574nm^3。Cu原子和Na原子分别位于大环配体L^2^-的'N~2O~2'四配位和'N~3O~2'五配位隔室。Cu^2^+的配位数为4,基本保持平面构型。Cu-O和Cu-N平均键长分别为0.1911,0.1926nm。Na^+除与L^2^-配位外,还与单齿高氯酸根结合,配位数为6。Na-O和Na-N的平均键长分别为0.2379,0.2468nm。Cu...Na间距离为0.3227nm。     

含吡啶基15员内酯大环及其高氯酸钠配合物的研究

本文合成和表征了一种新的标题大环Ｌ和它的配合物［ＮａＣｌＯ４·Ｌ］２．配合物的晶体结构表明，两Ｌ分别与两钠原子直接配位，并通过两高氯酸根的两μ２－Ｏ桥形成了夹心型双聚结构单元．     

显示KTiOAsO4晶体表面缺陷的实验方法研究

用化学腐蚀法和光学显微法对KTiOAsO4晶体缺陷进行了研究。发现不同的腐蚀剂对显示KTiOAsO4晶体的缺陷效果不同,用第一种腐蚀剂磷酸腐蚀后观察到了KTiOAsO4晶体的铁电畴和菱形位错蚀坑,用第二种腐蚀剂氢氧化钾和硝酸钾水溶液观察到了生长条纹、扇形界和钏形位错蚀坑等缺陷。两种腐蚀剂的作用不能相互替代。对这一现象有待于进一步探讨。     

利用原子力显微镜研究KTiOAsO4晶体的铁电畴

利用原子力显微镜研究了KTiOAsO4晶体的铁电畴,发现了这一实验方法的诸多特点,如放大倍数高,可以得到晶体表面的定量信息等,得到了KTiOAsO4晶体铁电畴的原子力显微镜照片,并结合化学腐蚀光学显微法的实验结果进行了研究,最后对铁电畴的机制与消除进行了理论讨论。     

利用同步辐射形貌术研究晶体缺陷的实验方法探讨

利用同步辐射X射线形貌术研究晶体缺陷,是近年来发展起来的一种优良的实验方法,本文在研究LNP等晶体缺陷的同时,对这种实验方法进行了系统的探讨,讨论了散射光的消除,焦距的选择,样品的透明度与厚度,曝光的时间,底片的冲洗等问题,以及在缺陷研究中对晶体衍射的劳厄斑点的选取依据。     

具有两种不同配位隔室的含酚桥基''N~5O~2'' Schiff碱大环铜钠 异双核配合物的 合成及结构

以Cu~(2+)和Na~+同时作为模板,用2,6-二甲酰基对甲苯酚直接与一定比例的乙二胺,二-1,2-亚乙基-三胺发生[2+2]型 Schiff碱缩合,合成了含两个不同隔室Schiff碱大环配体(L~2-)的铜钠异双核配合物[CuNaL(ClO_4)].并对它进行了元素分析,UV-Vis,IR,1H NMR,摩尔电导和ESR谱等项表征.ESR谱显示三个g值峰,对应的gx,gy,gz值分别为1.987,2.168,2.233.单晶X射线四圆衍射分析表明,该配合物为单斜晶系,空间群P2_1/n,晶胞参数a=0.9255(3)b=1.7689(2),c=1.6055(2)nm,β=101.69(2)°,Z=4,V=2.574nm.Cu原子和Na原子分别位于大环配体V~2-的‘N_2O_2’四配位和‘N_3O_2’五配位隔室.Cu~(2+)的配位数为4,基本保持平面构型、Cu—O和Cu—N平均键长分别为0.1911,0.1926nm,Na~+除与L~2-配位外,还与单齿高氯酸根结合,配位数为6.Na——O和Na——N的平均键长分别为0.2379,0.2468nm.Cu…Na间距离为0.3227nm.