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1.
Hydrogen ions were implanted into separation by implantation of oxygen (SIMOX) silicon-on-insulator (SOI) wafers near the oxygen-implantation-induced damage peak under different conditions of energy and dose. It was found that the implanted hydrogen ions not only accelerate the diffusion of oxygen atoms from the annealing ambience into the wafer but also cause an outward diffusion of oxygen atoms in the buried oxide (BOX) layer. Thus, greatly broadened buried oxygen-rich (BOR) layers were formed in our experiments, which are 18%-79% broader than the BOX layer of standard SIMOX SOI wafers under the same conditions of oxygen implantation. The mechanism was discussed. A potential low cost method to fabricate SIMOX SOI wafers is proposed. 相似文献
2.
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4.
3520ICP发射光谱仪维修二例房毅卓,原力(中国科学院青海盐湖研究所西宁810008)3520型电感耦合等离子顺序扫描发射光谱仪,是由瑞士应用研究实验室(ARL)生产的高速自动分析装置,主要应用于冶金、地质、石油、卫生和科研等部门的元素分析。以下介... 相似文献
5.
用自由生长系统研究了三硼酸锂LiB_3O_5(LBO)晶体的实际生长形态。实验表明,它的各晶面簇的重要性的顺序为:{110}>{011}>{201}>{111}。讨论了LBO晶体的生长习性与内部结构之间的关系并应用负离子配位多面体理论模型解释了LBO晶体的生长形态。 相似文献
6.
7.
两亲性聚酯配体及其钆(Ⅲ)配合物的合成和驰豫性能研究 总被引:2,自引:0,他引:2
通过二乙三胺五乙酸二酐分别与L-N,N-双(2-羟乙基)取代的丙氨酸、苯丙氨酸、缬氨酸,亮氨酸、异亮氨酸和N,N-双(2-羟乙基)甘氨酸共聚,制备了六个大分子聚酯配体及其钆(Ⅲ)配合物。 相似文献
8.
9.
MnCl2-H4SiW12O40/SiO2催化氧化二甲醚制取甲缩醛 总被引:5,自引:0,他引:5
采用浸渍法制备了H4SiW12O40/SiO2杂多酸催化剂,分别使用MnCl2, SnCl4和CuCl2对其进行修饰,并在常压连续流动固定床反应器中考察了催化剂对二甲醚选择氧化制取甲缩醛的催化活性. 结果表明, MnCl2修饰的H4SiW12O40/SiO2催化剂的活性和甲缩醛选择性均高于SnCl4和CuCl2修饰的催化剂. 进一步考察了不同MnCl2含量及反应温度对反应的影响. 在MnCl2含量为5%, 反应温度为593 K时, MnCl2-H4SiW12O40/SiO2催化剂的活性和甲缩醛选择性最佳,二甲醚转化率为8.6%, 甲缩醛选择性为36.3%. X射线衍射结果显示, MnCl2与H4SiW12O40相互作用并均匀地分散在载体上. 用红外光谱研究了MnCl2-H4SiW12O40/SiO2催化剂的结构,发现改性后的催化剂基本保持了杂多酸的Keggin结构. NH3程序升温脱附结果显示, MnCl2的加入较明显地降低了催化剂的酸强度和酸中心数目. 相似文献
10.
工业固定床Fe-Cu-K催化剂浆态床F-T合成适应性研究 总被引:2,自引:3,他引:2
采用连续搅拌釜式反应器,在接近F-T合成实际工况下考察了工业固定床Fe-Cu-K催化剂浆态床F-T合成反应性能,研究反应温度、压力、原料气空速和氢碳摩尔比等操作参数对催化剂反应活性、产物选择性和稳定性的影响,实验总运转时间达2 500 h;同时采用扫描电镜技术(SEM)对催化剂的抗磨损性能进行了研究,结果表明,操作参数对催化剂的活性、选择性和目标产物产率有较大的影响,工业固定床Fe-Cu-K催化剂具有一定的抗磨损性能,F-T合成烃产物分布合理;催化剂具有较高的稳定性,在589 h的稳定条件运行内,催化剂的失活速率为0.23%/d(以CO转化率的降低计);在整个运行期间CH4选择性维持在较低的水平。 相似文献