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X射线衍射摇摆曲线的计算机模拟是一种获得材料晶体质量参量的有效方法,其中材料本征摇摆曲线的计算是计算机模拟的基础。用X射线动力学理论计算了Hg1-xCdxTe和Cd1-zZnzTe本征反射率曲线,并研究了组分、膜厚分别对本征反射率和半峰全宽的影响。结果表明Hg1-xCdxTe和Cd1-zZnzTe的本征反射率和半峰全宽与材料组分和厚度有明显的依赖关系,且该依赖关系取决于X射线在材料中的散射和吸收的相对强弱。薄膜的厚度也是直接影响本征摇摆曲线峰形、半峰全宽和反射率的重要因素,当薄膜厚度小于穿透深度时,表征本征反射率曲线的各个参量均与薄膜厚度有直接的关系。对于(333)衍射面,碲镉汞材料厚度大于7μm后,本征反射率和半峰全宽将不再发生明显变化。 相似文献
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3.
基于在任意坐标系内应力与应变的关系、晶体弹性理论和位错滑移理论,研究了生长方向分别为[111]和[211]晶向,HgCdTe外延薄膜临界厚度与CdZnTe衬底中Zn组分和HgCdTe外延层中Cd组分的关系. 结果表明,HgCdTe外延薄膜临界厚度依赖于CdZnTe衬底中Zn组分和HgCdTe外延层中Cd组分的变化. 对于厚度为10μm,生长方向为[111]晶向的液相外延HgCdTe薄膜,要确保HgCdTe/CdZnTe无界面失配位错的前提条件,是CdZnTe衬底中Zn组分和HgCdTe外延层中Cd组分的波动必须分别在±0.225‰和±5‰范围内;而对于相同厚度,生长方向为[211]晶向的分子束外延HgCdTe薄膜,CdZnTe衬底中Zn组分和HgCdTe外延层中Cd组分的波动范围分别为±0.2‰和±4‰.
关键词:
HgCdTe/CdZnTe
临界厚度
位错滑移理论
失配位错 相似文献
4.
高分辨率x射线衍射技术被应用于Hg1-xCdxTe分子束外延薄膜晶格 参数的测量及其晶格应变状态的研究,研究发现Hg1-xCdxTe分子束外延薄膜 内既存在正应变也存在剪切应变. 通过应用晶体弹性理论,对Hg1-xCdx Te分子束外延薄膜的应变状态进行了定量的分析与计算,获得了Hg1-xCd xTe 分子束外延薄膜在完全弛豫状态下的晶格参数,从而得到了Hg1-xCdxTe分子束外延薄膜晶格参数与组分的关系,该关系符合Vegard’s定律,而不是早期研究所给出的Hig gins公式. 研究还发现,根据对称衍射测量所得到的(224)晶面间距,可直接计算出Hg 1-xCdxTe分子束外延薄膜晶格参数,并用Vegard’s定律确定组分的方 法,可作为估算Hg1-xCdxTe分子束外延材料组分的常规技术,其 组分的测量误差在0.01左右.
关键词:
1-xCdxTe薄膜')" href="#">Hg1-xCdxTe薄膜
晶格参数
组分
应变 相似文献
5.
基于组合杆的平衡条件,分别建立了晶格失配、热失配以及由两者共同导致的异质结构应变 和应力分布模型,并获得了异质结构的晶格失配应变、热失配应变、弯曲应变以及曲率半径 的分析解. 同时,运用所建的模型,计算了HgCdTe/CdZnTe异质结构的应变和应力分布.结果 表明:应力最大值均在界面处,而中性面仅是材料厚度和弹性参数的函数,与晶格失配、晶 格弛豫、热失配等参数无关,且该异质结构的曲率半径是衬底厚度的函数,随衬底厚度的减 小而减小,而要保证HgCdTe/CdZnTe器件在液氮温度下不发生断裂,衬底的厚度必须大于临界值.
关键词:
异质结构
应变分布模型
应力分布模型
晶格失配 相似文献
6.
本征反射率是X射线衍射摇摆曲线计算机模拟的基础。用X射线动力学理论研究了组分不均匀对HgCdTe材料X射线反射率的影响。研究结果表明,横向组分不均匀性直接影响摇摆曲线的峰形,峰值反射率和半峰全宽随组分不均匀的增大而分别减小和增大,且与组分不均匀性的均方差近似成指数关系,但其积分反射率却基本保持不变;采用多层模型对具有线性组分梯度的HgCdTe半导体材料反射率的计算结果则表明,纵向组分梯度除导致反射率峰值强度下降外,还会引起摇摆曲线产生单边干涉效应,摇摆曲线的半峰全宽和干涉峰间距随组分梯度的增加而增大,而干涉峰间距与干涉周期之间的关系则随组分梯度的增加其偏离线性的程度增大。 相似文献
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