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992.
993.
区间Bézier曲线和曲面的升阶 总被引:2,自引:0,他引:2
把Bézier曲线、曲面的升阶公式推广到区间Bézier曲线、曲面,证明了在不断升阶的过程中,区间控制顶点的并集收敛到原区间Bézier曲线、曲面.这里的升阶公式可用于将低次的区间Bézier曲线、曲面转换成高次形式,并且升阶可以增加控制顶点的数目,便于更加灵活地对这些区间曲线、曲面作形状控制.由升阶公式和升阶的收敛性可得到一种简洁有效的区间Bézier曲线、曲面的几何作图方法. 相似文献
994.
许兴业 《高校应用数学学报(A辑)》2004,19(2):181-188
该文以Schauder-Tychonoff不动点定理为工具,建立了一类R^n上带奇异性的非线性多重调和方程正整解的存在性定理,并给出了解的有关性质,所得的结果丰富和发展了已有的理论和应用。 相似文献
995.
无限维项链李代数是新的一类无限维李代数,本文重点讨论了由六个顶点的箭图诱导的项链李子代数,研究了这类李子代数的子代数,同构和同态,这类李代数是Virasoro-like李代数的推广,并讨论了它的其他一些性质. 相似文献
996.
本文提出了一种求解流动与传热问题的高效稳定的分离式算法-IDEAL(Inner Doubly-iterative EfficientAlgorithm for Linked-equations).在IDEAL算法中每个迭代层次上对压力方程进行两次内迭代计算,第一次内迭代过程用于克服SIMPLE算法的第一个假设,第二次内迭代过程用于克服SIMPLE算法的第二个假设.这样在每个迭代层次上充分满足了速度和压力之间的耦合,从而大大提高了计算的收敛速度和计算过程的稳定性.本文通过2个三维不可压缩流动和传热的算例对IDEAL算法与其它三个被广泛使用的算法(SIMPLER、SIMPLEC和PISO)进行了比较.通过分析比较得出IDEAL算法在收敛性和健壮性上均优于SIMPLER、SIMPLEC和PISO算法.在这2个算例中IDEAL算法几乎可以在任意的松弛因子下获得收敛的解,并且IDEAL算法所需最短计算时间较SIMPLER算法减少12.9%~52.6%;较SIMPLEC算法减少48.3%~79.1%;较PISO算法减少10.7%~46.5%. 相似文献
997.
LIU Yan-Ming CHEN Yong 《理论物理通讯》2009,51(4):581-587
Combining Adomian decomposition method (ADM) with Pade approximants, we solve two differentiaidifference equations (DDEs): the relativistic Toda lattice equation and the modified Volterra lattice equation. With the help of symbolic computation Maple, the results obtained by ADM-Pade technique are compared with those obtained by using ADM alone. The numerical results demonstrate that ADM-Pade technique give the approximate solution with faster convergence rate and higher accuracy and relative in larger domain of convergence than using ADM. 相似文献
998.
Electrical Characteristics of Co/n-Si Schottky Barrier Diodes Using I-V and C-V Measurements 下载免费PDF全文
Electrical characteristics of Co/n-Si Schottky barrier diodes are analysed by current- voltage (I- V) and capacitancevoltage (C- V) techniques at room temperature. The electronic parameters such as ideality factor, barrier height and average series resistance are determined. The barrier height 0. 76 eV obtained from the C - V measurements is higher than that of the value 0. 70 eV obtained from the I - V measurements. The series resistance Rs and the ideality factor n are determined from the d ln( I) /dV plot and are found to be 193.62 Ω and 1.34, respectively. The barrier height and the Rs value are calculated from the H(I) - I plot and are found to be 0.71 eV and 205.95Ω. Furthermore, the energy distribution of the interface state density is determined from the forward bias I - V characteristics by taking into account the bias dependence of the effective barrier height. The interface state density Nss ranges from 6.484×10^11 cm^-2eV^-1 in (Ec - 0.446) eV to 2.801×10^10 cm^-2eV^-1 in (Ec - 0.631) eV, of the Co/n-Si Schottky barrier diode. The results show the presence of a thin interracial layer between the metal and the semiconductor. 相似文献
999.
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