一种用于检测PO43-离子、Fe3+离子和硝基芳香爆炸物的水稳定发光Zn-配合物传感器

基于3-（2,4-二羧基苯基）-6-羧基吡啶配体（H₃dpcp）,利用溶剂热法制备了发光配合物[Zn（H₂dpcp）₂（H₂O）₂]·H₂O（1）。配合物1具有新颖的单核蝴蝶状结构,通过π…π相互作用延伸成三维超分子结构。实验结果表明,配合物1在pH=1~10的水溶液中表现出优异的发光稳定性。值得注意的是,配合物1不仅可以利用荧光增强效应高选择性和可循环性地检测PO₄^3-离子,并且Fe³⁺离子可以使配合物1的发光显著猝灭。对硝基芳香族爆炸物的荧光传感实验表明,配合物1可以作为发光探针高选择性、灵敏性地检测2,4,6-三硝基苯酚（TNP）,同时具有较低的检测限。此外,还详细探究了配合物1对上述分析物的发光传感机理。     

Ab-initio density functional theory study of a WO3 NH3-sensing mechanism

WO 3 bulk and various surfaces are studied by an ab-initio density functional theory technique.The band structures and electronic density states of WO 3 bulk are investigated.The surface energies of different WO 3 surfaces are compared and then the (002) surface with minimum energy is computed for its NH 3 sensing mechanism which explains the results in the experiments.Three adsorption sites are considered.According to the comparisons of the energy and the charge change between before and after adsorption in the optimal adsorption site O 1c,the NH 3 sensing mechanism is obtained.     

大功率磁控管用新型Y2Hf2O7陶瓷阴极研究

为了提高大功率磁控管的输出功率,延长其使用寿命,首次采用稀土氧化物Y2O3和过渡金属氧化物热发射测试结果显示该阴极在1300,1350,1400,1450,1500,1550,1600℃br亮度温度,300 V阳极电压下即可分别提供0.15,0.2,0.5,1.1,1.8,2.5,3.5 A/cm2的发射电流密度.利用理查森直线法求得该阴极的绝对零度逸出功为1.26 eV,理查森-道舒曼公式法求得该阴极在1450,1500,1550,1600℃br亮度温度下的有效逸出功分别为3.10,3.15,3.21,3.26 eV.寿命实验结果显示,该阴极在工作温度为1400℃br,直流负载为0.5 A/cm2的条件下,寿命超过4000 h.最后,利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、X射线能谱分析仪、俄歇电子能谱仪以及结合氩离子刻蚀技术的深度俄歇能谱仪等分别对该阴极活性物质的分子结构,阴极表面微观形貌、元素成分及含量等进行了研究.结果表明,高温烧结合成了单一的铪酸钇物相,高温烧结过程中当一种Y3+价稀土氧化物Y2O3掺入Hf4+价的过渡金属氧化物HfO2时,会发生离子置换固溶,为了保持铪酸钇晶格的电中性,晶格中就会产生一个氧空位.当阴极在激活、老练、热发射测试时,会加速氧空位的生成,产生的氧空位越多,阴极表面导电性就会越好,这间接降低了逸出功,从而提高了阴极的热发射能力.     

纳米二氧化钒薄膜的制备及红外光学性能

采用双离子束溅射方法在Si3N4/SiO2/Si基底表面沉积氧化钒薄膜, 在氮气气氛下热处理获得二氧化钒薄膜. 利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线光电子能谱(XPS)研究了热处理温度对氧化钒薄膜晶体结构、表面形貌和组分的影响, 利用傅里叶变换红外光谱(FT-IR)对二氧化钒薄膜的红外透射性能进行了测试分析. 结果表明, 所制备的氧化钒薄膜以非晶态V2O5和四方金红石结构VO2为主, 经400 ℃、2 h热处理后获得了(011)择优取向的单斜金红石结构纳米VO2薄膜, 提高热处理温度至450 ℃, 纳米结构VO2薄膜的晶粒尺寸减小. FT-IR结果显示,纳米VO2薄膜透射率对比因子超过0.99, 高温关闭状态下透射率接近0. 小晶粒尺寸纳米VO2薄膜更适合在热光开关器件领域应用.     

地方二本院校应用物理学专业人才培养研究

为了解决地方性二本院校应用物理学专业在人才培养过程中的诸多问题,以六盘水师范学院应用物 理专业为例,通过对新形势下应用物理学的发展状况、学生入学情况,以及公司和企业人才需求进行分析. 结果表 明,为了培养出应用型高级专门人才,地方二本院校培养应用物理学专业人才亟需改革,增加实践课程比例,降低 课程难度,深化课程体系改革,修订教学大纲成为当今面临的主要问题     

NiO/Ni纳米线阵列紫外光电探测器的设计

设计了一种基于MSP430的NiO/Ni纳米线阵列紫外光电探测器。选用MSP430F149单片机作为主控芯片,液晶显示器作为输出端口,具有高光电探测灵敏性的新材料NiO/Ni纳米线阵列为探头,制作了信号采集、信号处理转换以及显示于一体的NiO/Ni纳米线阵列紫外光电探测器。本文NiO/Ni光电探测器以实用、可靠为目的,为研制更完善的光电探测系统奠定良好的基础。     

First principles study of stability,mechanical, and electronic properties of chromium silicides

Through the first principles calculations, the chemical stability, mechanical, and electronic properties of chromium silicides are predicted. Estimating enthalpies and binding energies, density state density and electron density distribution are combined to analyse the thermodynamic stability and physical properties of chrome-silicon binary compounds. The chromium silicide includes Cr_3 Si, Cr_5 Si_3, CrSi, and CrSi_2. The chemical stability and the information about electronic structure, mechanical properties, Debye temperature, and anisotropy properties are obtained by density functional theory and Debye quasi-harmonic approximation. Meanwhile, the calculation of elastic modulus shows that Cr_3 Si has the highest body modulus value(251 GPa) and CrSi_2 possesses the highest shear modulus(169.5 GPa) and Young's modulus(394.9 GPa). In addition, the Debye temperature and the speed of sound of these Cr–Si compounds are also calculated.Since the calculated bulk modulus is different from Young's modulus anisotropy index, and also different from Young's modulus of a three-dimensional surface shape, the different mechanical anisotropies of all the compounds are obtained.     

基于纳米压痕法的多孔硅硬度及杨氏模量与微观结构关系研究

采用电化学腐蚀制备多孔硅，利用场致发射扫描式电子显微镜(field emission scanning electron microscope，FESEM)观测多孔硅的二维微观形貌，利用Nano Indenter XP中的纳米轮廓扫描仪组件(nano profilometry, NP)得到其三维拓扑分析图像，分析了微观结构差异的原因并讨论了多孔硅内部微观结构对其机械性能的影响；利用MTS Nano Indenter XP纳米压入测量仪器，研究了多孔硅的显微硬度和杨氏模量随压入深度的变化规律，比较了不同孔隙率多孔硅的机械性能差别.实验结果测得40mA/cm²，60mA/cm²，80mA/cm²和100mA/cm²四个不同腐蚀电流密度条件下制备多孔硅样品的孔隙率在60%—80%范围内，孔隙率随着腐蚀电流密度的增加而增大；在氢氟酸(HF)浓度为20%的条件下制备出多孔硅样品的厚度在40μm—50μm范围内；测得多孔硅的平均硬度、平均杨氏模量分别在0.478GPa—1.171GPa和10.912GPa—17.15GPa范围内，并且其数值随腐蚀电流密度的增加而减小，在纳米硬度范围内随压入深度的增加而减小，在显微硬度范围内其数值保持相对恒定，分析了样品表面、厚度、微观结构，及环境对其机械性能的影响，得到了多孔硅力学性能随其微观尺度形貌的变化规律. 关键词： 多孔硅 微观结构 硬度 杨氏模量     

低温沉积Cu膜的晶体结构及摩擦磨损性能的初步研究

采用离子镀技术于45#钢基体表面在低温(164～115 K)和常温(291 K)条件下沉积Cu膜,通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜研究Cu膜的晶体结构及其表面形貌,采用划痕试验法测量Cu膜的临界载荷(Lc),在真空球-盘摩擦磨损试验机上考察其摩擦磨损性能并探讨其磨损机理.结果表明:基体温度对Cu膜的择优取向影响明显,在常温(291 K)下沉积的Cu膜为(200)择优取向,基体温度降至164 K以下所沉积的Cu膜呈现出明显的(111)择优取向;低温沉积Cu膜的表面较为光滑,其Lc值明显高于常温沉积的Cu膜;低温沉积Cu膜的磨损率明显低于常温沉积Cu膜,表现出良好的耐磨性,这主要是由于低温沉积Cu膜具有(111)择优取向和良好的膜-基结合力的缘故.