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低温沉积Cu膜的晶体结构及摩擦磨损性能的初步研究
引用本文:高晓明,孙嘉奕,胡明,翁立军,刘维民.低温沉积Cu膜的晶体结构及摩擦磨损性能的初步研究[J].摩擦学学报,2007,27(4):308-312.
作者姓名:高晓明  孙嘉奕  胡明  翁立军  刘维民
作者单位:1. 中国科学院兰州化学物理研究所,固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000;中国科学院,研究生院,北京,100039
2. 中国科学院兰州化学物理研究所,固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000
基金项目:国家自然科学基金,国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:采用离子镀技术于45#钢基体表面在低温(164~115 K)和常温(291 K)条件下沉积Cu膜,通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜研究Cu膜的晶体结构及其表面形貌,采用划痕试验法测量Cu膜的临界载荷(Lc),在真空球-盘摩擦磨损试验机上考察其摩擦磨损性能并探讨其磨损机理.结果表明:基体温度对Cu膜的择优取向影响明显,在常温(291 K)下沉积的Cu膜为(200)择优取向,基体温度降至164 K以下所沉积的Cu膜呈现出明显的(111)择优取向;低温沉积Cu膜的表面较为光滑,其Lc值明显高于常温沉积的Cu膜;低温沉积Cu膜的磨损率明显低于常温沉积Cu膜,表现出良好的耐磨性,这主要是由于低温沉积Cu膜具有(111)择优取向和良好的膜-基结合力的缘故.

关 键 词:Cu膜  低温沉积  择优取向  摩擦磨损性能
文章编号:1004-0595(2007)04-0308-05
修稿时间:2006-11-282007-01-21

Crystal Structure and Friction and Wear Properties of Cu Films Deposited at Low Temperatures by Ion Plating
GAO Xiao-ming,SUN Jia-yi,HU Ming,WENG Li-jun,LIU Wei-min.Crystal Structure and Friction and Wear Properties of Cu Films Deposited at Low Temperatures by Ion Plating[J].Tribology,2007,27(4):308-312.
Authors:GAO Xiao-ming  SUN Jia-yi  HU Ming  WENG Li-jun  LIU Wei-min
Institution:1. State Key Laboratory of Solid Lubrication, Lanzhou Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences, Lanzhou 730000, China ; 2. Graduate School of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100039, China
Abstract:
Keywords:Cu films  low temperature deposition  preferred orientation  friction and wear properties
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