产品需求种类不确定条件下制造柔性价值研究

将Karsak＆Ozogul的产品需求数量不确定条件下的制造柔性价值模型推广为产品需求种类不确定性条件下的制造柔性价值模型，并把不确定源服从几何布朗运动的假设条件放松到服从随机微分方程的一般情形。通过构建产品需求种类不确定性条件下制造柔性价值的数学模型，对不确定性因素进行了比较静态分析，并给出了一个实例分析。结果表明：制造柔性价值随着产品需求种类不确定性增加而增加。     

现代测试测量及仪器技术的发展

近10余年来，由于信息技术快速、密集的渗透和扩展使测试测量及其仪器受到广泛的影响和严峻的挑战。测试系统中的新原理、新方法和新制造工艺在信息学的影响下不断涌现，特别是测试技术、仪器技术与软件技术之间的响应日益快速、交融日益紧密，使得测试系统在大型、复杂、高精确度、多功能等方面出现了一次义一次的跨越。从目前世界趋势看，工程系统的测量测试手段正在被快速发展的智能测试和虚拟测试技术逐渐取代。     

面向原子制造的框架核酸研究进展

框架核酸是核酸分子通过自组装形成的一维到三维的框架结构,不仅能精准定位功能基元,还可实现在纳米甚至原子级尺度上进行力学、光学和电学等物理性质,以及单分子水平化学与生化反应的精准调控.利用框架核酸对物质进行原子级的人工自组装,可实现基本构筑单元的精准物理排布与功能化集成,进而实现器件制造,有望推动从原子到宏观的精确功能化的制备.本文围绕框架核酸和原子制造两大前沿的交叉领域,阐述框架核酸在原子级精准构筑方面的可行性和优势,首先介绍了具有原子级精准性的框架核酸的构建,以及利用框架核酸进行功能化组装的一般策略,然后着重探讨框架核酸在器件构筑方面的研究进展,最后就面向原子制造的未来发展方向进行了展望.     

面向单晶SiC原子级表面制造的等离子体辅助抛光技术

目前Si基半导体由于其自身材料特性的限制,已经越来越难以满足高速发展的现代电力电子技术对半导体器件的性能要求.SiC作为新一代半导体材料具有显著的性能优势,但由于其属于典型的难加工材料,实现SiC晶圆的高质量与高效率加工成为了推动其产业化应用进程的关键.本综述在回顾近年来SiC超精密加工技术研究进展的基础上,重点介绍了一种基于等离子体氧化改性的SiC高效超精密抛光技术,分析了该技术的材料去除机理、典型装置、改性过程及抛光效果.分析结果表明,该技术具有较高的去除效率,能够获得原子级平坦表面,并且不会产生亚表面损伤.同时针对表面改性辅助抛光技术加工SiC表面过程中出现的台阶现象,探讨了该台阶结构的产生机理及调控策略.最后对等离子体辅助抛光技术的发展与挑战进行了展望.     

不抛弃，不放弃

智利矿难救援奇迹关键词 [政府不抛弃生命。积极营救] 救援人员为矿工提供了用灭菌铜纤维制造的短袜,以防止感染脚气。 救援人员向矿工输送太空食品,并制定了特殊的食谱,控制矿工体重,避免因体态臃肿无法通过救援巷道。     

全密度功能性复杂金属零件的激光直接快速制造

 针对具有复杂结构的全密度功能性金属零件快速制造难题,探讨了该类零件的选区激光熔化直接快速制造方法,并结合实验,重点对同步保证选区激光熔化快速制造金属零件成型密度及精度的工艺进行了研究。结果表明：同步消除球化、飞溅及气孔对成型件致密性及精度的影响是实现选区激光熔化快速制造全密度功能性复杂金属零件的难点及关键;在维持良好的抗氧化气氛条件下,可采用尽可能薄的铺粉厚度及恰当调节其它成型参数的方法,以保证对上一层有足够的重熔量来消除球化及气孔现象;同时,采用合适的扫描策略,可弱化飞溅对成型质量的影响来解决工艺难题。采用该工艺方案可快速制造全密度功能性复杂金属零件,所成型的316L不锈钢叶轮零件相对密度为99.8%,硬度为HB192,表面粗糙度约为40 μm,尺寸精度在±0.1 mm以内,稍经打磨后即可投入使用。     

多光束激光干涉光刻图样

利用电磁理论,研究了多光束激光干涉图样的产生原理,结合计算机数值模拟和相关实验结果,分析了干涉图样的影响因素.研究结果表明:多光束激光干涉图样可以看成是多组余弦分布的平行线条纹的叠加;相干光束的偏振方向、入射方向、光束间相位差是干涉图样的重要影响因素,改变这些因素,余弦分布的平行线条纹的振幅、位置、周期和方向发生变化,...     

Transport in graphene nanostructures

Graphene nanostructures are promising candidates for future nanoelectronics and solid-state quantum information technology. In this review we provide an overview of a number of electron transport experiments on etched graphene nanostructures. We briefly revisit the electronic properties and the transport characteristics of bulk, i.e., two-dimensional graphene. The fabrication techniques for making graphene nanostructures such as nanoribbons, single electron transistors and quantum dots, mainly based on a dry etching ??paper-cutting?? technique are discussed in detail. The limitations of the current fabrication technology are discussed when we outline the quantum transport properties of the nanostructured devices. In particular we focus here on transport through graphene nanoribbons and constrictions, single electron transistors as well as on graphene quantum dots including double quantum dots. These quasi-one-dimensional (nanoribbons) and quasi-zero-dimensional (quantum dots) graphene nanostructures show a clear route of how to overcome the gapless nature of graphene allowing the confinement of individual carriers and their control by lateral graphene gates and charge detectors. In particular, we emphasize that graphene quantum dots and double quantum dots are very promising systems for spin-based solid state quantum computation, since they are believed to have exceptionally long spin coherence times due to weak spin-orbit coupling and weak hyperfine interaction in graphene.     

浅谈Greber对PCB设计制作之应用

尽管Gerber资料格式问世几十年了，但在其使用上问题却时有发生，这种用以描述PCB（印制线路板）结构的电子方式，往往因为人们对资料的属性和最终用户的确切要求理解不全而“卡壳”，本人结合自己在CAM方面的一些初浅认识和经验，对Gerber在用途方面容易遇到的一些问题进行探讨。