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研究了苯乙烯 -乙烯基三乙氧基硅烷共聚物在羟基化基片上的自组装行为及聚合物超薄膜的摩擦磨损性能 .结果表明 ,自组装聚合物薄膜的厚度和均匀程度取决于聚合物成膜溶液的浓度 .与空白基底相比 ,自组装膜修饰的基底在低载荷下同钢对摩时的摩擦系数更低 ,耐磨寿命更长 .因此 ,自组装聚合物薄膜可以作为低载荷下硅基材料的减摩抗磨防护层 相似文献
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(1)设R是左连续环,则R是左Artin环当且仅当R满足左限制有限条件当且仅当R关于本质左理想满足极小条件当且仅当R关于本质左理想满足极大条件.同时给出一个左自内射环是QF环的充要条件;(2)证明了左Z1-环上的有限生成模都有Artin-Rees性质. 相似文献
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When R satisfies (strong unit) 1-stable range and M is a R-R-bimodule, theauthors calculate that K1(R ∞ M) ≌ U(R ∞ M)/L(R ∞ M). As applications, the authors also calculate some Whitehead groups for exchange rings with artinian primitive factors.Key words Whitehead group, module extension, (strong unit) 1-stable range 相似文献
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本文综述了图案化TiO2薄膜的制备技术,按图案的生成方式可分为图案的直接生成,掩膜复制法,硬质模板复制法三大类。可以通过针尖写蚀法、电子书写蚀法、激光写蚀法、自组装法、光电化学法直接制备图案。掩膜复制法包括光刻胶法、自组装膜法、光敏凝胶膜法等。硬质模板法也称软刻蚀技术,分为复制微模塑、转移微模塑、毛细管微模塑、微接触印刷法、光-盖印印刷等技术。对每类方法的优缺点作了适当评述,对今后图案化TiO2薄膜制备的研究方向提出了一些建议。 相似文献
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利用自组装技术首次将含有偶氮苯单体的肽核酸寡聚体(NH2-TNT4,N-PNAs)与DNA的杂交体(N-PNAs/DNA)定在金电极表面。以[Fe(CN)6]^4-/3-氧化还原电对为探针,利用循环伏安法、示差脉冲伏安法和电化学阻抗谱初步研究了N-PNAs修饰的金电极以及与DNA形成的杂交体在紫外光照射前后体系的电化学行为。结果表明,伴随着紫外光照射时间的增加,氧化还原电流减小,电子在电极表面的传输能力下降,据此可以推断PNAs/DNA杂交体的构象发生了转变,证明可以通过紫外光的照射来调节PNAs/DNA杂交体的结构。 相似文献
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"聚合物合成技术"通过以合成典型高分子产品为项目载体,实施理实一体项目化教学改革。通过改革,凝练两大特色:项目设计有理念,"吃出方法、吃出味道、品出文化";项目实施有特色,"情感注入、四动一定、熟能生巧"。在轻松的师生关系前提下,在充满赏识的教学氛围中,学生熟"四动",巧"一定",真正实现"做中学、学中做、学做一体"课改实效,使课改脚踏实地、落地有声。 相似文献