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991.
992.
利用同位素跳跃技术,对CO/Rh体系详细研究了不同温度下,气相压强使表面达饱和吸附时的绝对脱附速度与表面覆盖度的关系以及表面饱和覆盖度与表面温度的关系。首次找到了此条件下表面饱和覆盖度与表面温度的函数关系。发现了绝对脱附速度随饱和覆盖度的降低而增加的经验规律。由于在此条件下,绝对脱附速度等于绝对吸附速度,从而推导出绝对脱附速度与表面饱和覆盖度的关系。文献中未曾报导过把脱附动力学与化学吸附平衡相关联的实验结果。获得的经验规律对探讨吸附过程中的吸脱附以及交换机理提供了强有力的实验依据。 相似文献
993.
994.
针对铁路枢纽地方货物流小运转作业系统,研究一类带能力限制的混合形专用线非直达车流取送优化问题。以在站停留车小时费用和调机取送成本之和最小化为目标,考虑装卸站装卸能力、调机牵引能力、瓶颈区段能力、调机日走行时长等能力限制条件,构建问题模型。鉴于模型直接求解较为困难且效率低下,故设计三阶段综合优化策略。该策略首先利用基于作业编码、顺序调整与批次划分的TPA过程完成初始取送作业方案生成,进而基于迭代寻优思路设计FPUA更新过程完成取送作业方案的优化,最后考虑批次时间窗、空闲原则与调机走行利用EAA过程完成调机分配。设计实验场景,对所提出的方法进行过程验证,并设计不同规模问题,对算法进行测试对比与性能评估。 相似文献
995.
基于平面波展开法,理论分析了晶格结构、填充率、介电常数比等因素对fcc,diamond,woodpile三种三维光子晶体典型结构完全禁带的影响.三种结构中,fcc结构由于高对称性导致的能级简并,只适用于密堆积排列的反蛋白石结构;diamond结构非常容易产生高带隙率的完全禁带,并且可以通过调节多项参数得到所需的完全禁带;woodpile结构参数调节范围比较宽,为实验制备带来方便.对于不同的三维光子晶体结构,随着介电常数比的增大,完全禁带的宽度和带隙率也会随着增大.还发现了一些以前未引起注意的现象.
关键词:
三维光子晶体
完全禁带
介电常数比
带隙率
平面波展开法 相似文献
996.
997.
998.
本文在绝对损失下构造了双边截断型分布族参数的经验Bayes估计,并在合适的条件下证明了该估计的渐近最优性.最后,给出两个有关本文主要结果的例子. 相似文献
999.
Absolute Generalized Oscillator Strength Profile of Negative Ion Resonance at 8.9 eV in C2F6 下载免费PDF全文
A temporary negative ion resonance at 8.9eV in C2F6 has been clearly identified using angle-resolved electron energy loss spectroscopy at 2.5 keV impact energy, and can be attributed to electron capture into 1^2a1u, 1^2a1g, 2^2a2u, and 1^2eg ,yirtual molecular orbitals. The corresponding absolute generalized oscillator strength profile is found to have a shape characteristic of non-dipole interaction with the maximum K - 0.8 a.u. of momentum transfer. 相似文献
1000.
Raid A. Ismail Ibrahim Ramadhan Aseel Mustafa 《中国物理快报》2005,22(11):2977-2979
Cu2O thin films with (111) preferred orientation have been grown on glass and Cu substrates by rapid thermal oxidation of Cu at 500℃ for 45s. The optical band gap energy was determined by spectral data of transmittance and absorbance to be 2.04eV. The electrical conductivity of grown films was measured around (1:1 × 10^-5Ω^-1cm^-1) at 300K. Thermoelectric power measurements of the film were carried out. Furthermore, the properties of these films are compared with properties of Cu2O obtained by other methods. 相似文献