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81.
磁共振成像诊断术   总被引:2,自引:2,他引:0  
杨庆余 《物理实验》2002,22(5):41-46
利用人体组织中某种原子核的核磁共振现象所得射频信号,经电子计算机处理,重建人体某一层面的图像,并据此作出诊断。  相似文献   
82.
离焦散斑错位干涉术的逐点滤波分析与应用   总被引:1,自引:1,他引:0  
张朝晖  李恩普 《光子学报》1993,22(4):342-345
通过相关计算,分析了离焦散斑错位干涉术的逐步滤波方法,得到了杨氏条纹的形成及分布特性。讨论了逐点滤波法的实用意义并给出了在缺陷检测中的应用实例。  相似文献   
83.
84.
用正交光路全息干涉CT技术重建电弧等离子体三维温度场   总被引:3,自引:3,他引:0  
本文利用正交光路全息干涉技术和计算机有限角层析算法,借助电弧等离子体物理方程,对非对称电弧等离子体三维温度场的诊断进行了研究.  相似文献   
85.
用椭偏术研究与接触介质有关的贵金属的介电函数   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
为了研究接触介质对金属光学性质的影响,实验中使用具有不同折射率的梯形棱镜作为衬底,将金和银蒸发到棱镜底部,用椭偏术分别测量了薄膜在金属-空气、金属-衬底界面的介电函数.结果表明:无论在Drude区,还是在带间跃迁区,金属-衬底界面处薄膜介电函数不仅与金属-空气界面处的测量值不同,而且随衬底折射率改变而改变.在固体接触条件下获得的结果与其他作者在液体接触条件下获得的结果相一致,但尚难被现有机制所解释. 关键词:  相似文献   
86.
 一、引言分子束外延技术(简称MBE)是制备超薄多层晶体膜的技术之一.它制做的薄膜厚度可以薄到单原子层或单分子层的厚度,这就意味着如同用砖砌墙一样,可以用各种分子或原子“垒”出新的晶体材料,使其具有人们希望的性质,有人称其为“能带工程”,还有人比拟为生物学中的遗传工程、MBE技术已在半导体材料,器件和物理几方面都引起了巨大变化,取得很多重要成果,形成了新的研究领域.  相似文献   
87.
利用非等强度、等脉冲相关技术测量甲酚紫染料吸收恢复时间。实验结果给出了甲酚紫染料吸收恢复时间为158ps。  相似文献   
88.
三维面形测量技术的新进展   总被引:20,自引:0,他引:20  
苏显渝  李继陶 《物理》1996,25(10):614-620
三维面形测量是获取物质形态特征的一种重要手段,也是记录,比较,复制物体形态特征 的基础,三维面形测量技术在机器视觉,自动加工,工业检测,产品质量控制,实物仿形,生物和医学等领域具有重要意义和广阔的应用前景。  相似文献   
89.
基于模拟退火的相位展开方法   总被引:10,自引:3,他引:7  
二维相位展开技术被广泛应用于光学精密测量、自适应光学、合成孔径雷达、图像处理等领域中。提出了一种基于模拟退火的相位展开方法。此方法对主值相位图采用局部平面近似,用模拟退火算法求出最优化平面参量,从而得到去除噪声和2π相位跳变的真实相位图。计算机模拟和实验结果均证明,此方法能有效地去除相位图中的噪声,实现带噪声的主值相位图的相位展开,可靠地重建被测物体的表面形貌。详细介绍了这一方法的原理及实验结果。  相似文献   
90.
紫外光刻术     
云中客 《物理》2003,32(5):301-301
随着科技的发展 ,集成电路芯片上的插口与记忆元件会愈来愈多 ,所以在硅或金属底板上的空间显得极其拥挤 .现有的短波光刻技术能生产 6 5nm宽的连线以及 90nm的连线间距 ,因此微型芯片的制造商们都力图寻找能雕刻更加精细连线的光刻技术 .为此 ,美国政府 (以加洲劳伦斯伯克利国家实验室的近代光源研究所为主 )和跨国工业财团 (如AMD ,IBM ,微软 ,摩托罗拉等 )携手合作 ,现在以P .Naullear教授为首的研究组已开发出了紫外波段的光刻技术 ,这种紫外光刻术能在芯片底板上生产出 39nm的线宽和 70nm的线间距 .他们计划在 2 0 0 7年以前生产出…  相似文献   
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