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961.
Platinum and gold have the similar crystal structure but different electronic affinities, as well as different effective electron densities near the implanted ions. Both the differences favour larger decay rate of ^7 Be in Pd than that in Au. We measured the variation of the decay rate of ^7Be implanted in Pd and Au host materials. We have found that the decay rate of ^7 Be in Pd is larger than that in Au by 0.8%. 相似文献
962.
氨基膦酸树脂对钕(Ⅲ)的吸附性能 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了氨基膦酸树脂对钕(Ⅲ)的吸附行为。当pH=5.70时,氨基膦酸树脂对钕(Ⅲ)的静态饱和吸附容量为199.74 mg/g,用1moL/L HCl溶液可以定量洗脱,当T=298 K时,表观吸附速率常数为1.68×10~(-4)s~(-1),吸附热力学参数△H=60.68 kJ/mol,△G=-14.91 kJ/mol,△S=253.65 J/(mol·K),等温吸附服从Freundlich曲线,氨基膦酸树脂功能基与钕(Ⅲ)的配位比为2:1。用红外光谱探讨了氨基膦酸树脂与钕(Ⅲ)的成键情况。 相似文献
963.
《中国物理快报》2003,20(10):1752-1754
964.
965.
利用应变SiGe/Si异质pn结电容-电压(C-V)特性确定SiGe禁带宽度的技术.该技术根据SiGe/Si异质pn结C-V实验曲线,计算出 pn结接触电势差,并得到SiGe/Si的价带偏移量和导带偏移量,进而求得SiGe禁带宽度.该技术测试方法简便,其过程物理意义清晰,既适用于分立的SiGe/Si异质pn结,也可直接分析SiGe/Si异质结器件中的SiGe 禁带宽度.实验结果与理论计算及其他相关文献报道的结果符合较好.
关键词:
SiGe/Si
异质pn结
C-V
禁带宽度 相似文献
966.
本实验首次观察到用MOCVD方法在GaAs基片上外延生长AlxGa1-xAs/GaAs薄膜结构时,生长中所用的Ⅴ/Ⅲ比对外延层中Al组份x的分布的影响.当Ⅴ/Ⅲ比较低时,外延层中的Al组份出现很明显的层状阶梯形三层分布:靠近基片的一层中x值较低,而在外延层的表面层中x值较高.随着生长中所用的Ⅴ/Ⅲ比增加时,Al组份的分布趋于均匀.利用GaAs的高温热分解和Ga、As离子在晶体中的热扩散及其对外延生长的影响,对这一现象作了初步解释. 相似文献
967.
968.
We have measured the possible change of the decay rate of ^7Be implanted into hosts of natural beryllium and natural gold. No difference between the ^7 Be decay rates in the two hosts is observed within the experimental precision of 0.12%. This result implies that change of the decay rate of ^7Be implanted in different materials cannot be simply expected from the electron affinity difference consideration lonely and the lattice structure of the host materials should be taken into account. 相似文献
969.
970.
TiO2薄膜的结构和光学性质的研究 总被引:9,自引:0,他引:9
以金属钛为靶材,用反应射频溅射法制备了TiO2薄膜,并在600-900℃下进行了热处理,经XRD测量,在600-800℃下TiO2薄膜为锐钛矿和金红石两种结构的混合态,在900℃下TiO2薄膜为纯金红石结构,研究TiO2薄膜的SEM照片和UV-vis透射光谱发现,不同的热处理温度会影响TiO2薄膜中锐矿和金红石两种结构的比例,从而导致TiO2薄膜的微观形貌,折射率,禁带宽度等性质的变化。 相似文献