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101.
刘小青  谢芳森 《光子学报》2002,31(10):1178-1183
导出了类Kerr介质中双模SU(1,1)相干态场与Λ型三能级原子相互作用系统的态函数,研究了Kerr效应对Λ型三能级原子布居概率、双模SU(1,1)相干态场的互关联函数、Cauchy-Schwartz不等式及二阶相干度的影响.结果表明:Kerr效应使原子与光场的耦合减弱,原子布居的崩塌与复苏的周期缩短;在初始光场较弱和较强两种情况下,类Kerr介质对双模SU(1,1)相干态场两模间的相关性、相关程度以及光子的聚束与反聚束效应产生的作用有明显的区别.  相似文献   
102.
ICP-AES测定饮用水源中的Cu、Mn、Pb、Cd、Zn   总被引:7,自引:2,他引:5  
用ICP-AES法同时测定饮用水源中的Cu、Mn、Pb、Cd、Zn等重金属元素,具有基体效应小、测量范围宽等优点。检出限为0.2-4.0μg/L,回收率为91.5%-103.9%,相对标准偏差为0.29%-1.5%,测定密码样与实际样品,结果令人满意。  相似文献   
103.
关于PFI-代数与剩余格   总被引:10,自引:0,他引:10  
朱怡权  曹喜望 《数学进展》2006,35(2):223-231
本文提出了一种强FI代数-PFI代数,并且深入研究了它的性质,借此进一步揭示了FI-代数和剩余格之间更加密切的联系,进而以FI-代数为基本框架建立了R0-代数、正则剩余格等逻辑系统的结构特征(包括对隅结构)及其相互关系.这种以FI-代数为基础来统一处理剩余格和R0-代数的方法,同样适合于格蕴涵代数和MV代数等代数结构,而且从中更能清楚地看出它们之间的密切联系,也将有助于对相应形式逻辑系统与模糊推理的研究.  相似文献   
104.
测量了19F+27Al耗散反应产物B,C,N,O,F和Ne的激发函数,入射束流的能量从110.25MeV到118.75MeV, 能量步长为250keV. 从产物的 能量自关联函数中提取了反应中所形成的中间双核系统的转动惯量, 与相粘模型计算的刚体转动惯量相比较, 结果表明形成的双核系统有大的形变.  相似文献   
105.
本文得到两个实的ιp(Γ,E)型空间单位球面之间满等距映射的表现定理(这里,1≤p<+∞,p≠2,E为内积空间),并导出上述映射可延拓为全空间上的实线性等距算子.  相似文献   
106.
Bridged bis(β-cyclodextrin)s (CDs), as a very important family of CD derivatives, have been known that they can significantly alter the molecular binding ability and selectivity toward a variety of guests in comparison with parent cyclodextrin. Their two…  相似文献   
107.
以己二酸酐和邻羟基苯甲酸为原料,制备了己二酸单(2-羧苯酚)酯,并以它为单体聚合得到了相应的聚酯酸酐.研究了温度、真空度对聚合物分子量的影响,得到了最佳的聚合条件:真空度66.66Pa,聚合温度200℃.在此条件下聚合2.5h,得到的聚己二酸单(2-羧苯酚)酯重均分子量达6498.另外,还对聚合物在不同pH值条件下的体外降解行为进行了研究.  相似文献   
108.
正在研制的上海激光电子γ源是MeV量级的高品质γ光束线站,基于该装置可以开展一系列核天体物理实验, 从而更准确的确定各天体核合成反应的反应率. 本文研究了天体核合成中的关键反应12C(α,γ)16O的反应率. 根据多组实验和理论截面数据分别计算了反应率, 并给出了这些反应率计算结果的平均值和统计误差. 根据该结果拟合了理论反应率的解析形式, 确定了新的参数. 进而给出俘获反应12C(α,γ)16O在He燃烧环境下的反应率和误差, 并讨论了电子屏蔽效应对天体反应率的修正.  相似文献   
109.
杨炜铖  许传炬 《数学研究》2005,38(4):403-411
考虑非线性守恒方程的高阶数值解法,介绍了基于谱元法的两种稳定性方法,一种是谱粘性消去法(SVV),另一种是过滤法.在SVV方法中,我们推广并分析了传统的基于单区域的SVV算子的定义.在过滤法中,我们分析了SVV-H elm holtz过滤算子的性质.文中从分析和计算两方面对两种方法进行了比较,建立了两者之间的关系.最后通过一系列数值试验说明方法的有效性.  相似文献   
110.
将稀土配合物Eu(asprin)_3phen掺杂到导电聚合物PVK中,制成结构分别为ITO/PVK:RE配合物/LiF/AI(1),ITO/PVK:RE配合物/PBD/LiF/AI(2)的电致发光(EL)器件。发现二者的电致发光谱存在着较大的差别:在器件(1)中,来自Eu~(3 )的位于594nm(~5D_0→~7F_1)和614nm(~5D_0→~7F_2)处的发光强度大致相当,而在器件(2)中,EL主要来自Eu~(3 )位于614nm的发光,594nm处的发光很弱,与薄膜状态下的光致发光谱(PL)一致。并针对此现象进行了初步讨论。  相似文献   
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