一种新颖的高灵敏度光纤光栅带宽调谐机构

设计了一种由一直梁和两个半圆拱组成的开口环结构,并将均匀光纤布拉格光栅斜贴于直梁中间的表面处。对两半圆拱施加与直梁方向平行的应力作用时,光纤光栅受到线性应力场的作用,光纤布拉格光栅即转化为啁啾光纤光栅。该机构实现了光纤光栅带宽的线性调谐,线性度高达0．9982,实验结果与理论分析一致。与以往的带宽调谐机构相比,该机构具有很高的应力灵敏度,在20N力的作用下,可产生约7nm的带宽反射,灵敏度达0．34nm／N。利用环境温度对带宽调谐无影响的特性,采用带宽编码技术,研制出具有温度自动补偿特性、高灵敏度的带宽调谐装置。     

抗坏血酸在聚阿魏酸修饰玻碳电极上的电化学行为研究

研究了抗坏血酸(AA)在聚阿魏酸修饰电极上的电化学性质。在AA存在的条件下,电极过程由扩散控制,测得扩散系数为8.18×10-8cm2/s。AA浓度在0.01~5.0 mmol/L范围内与峰电流呈现良好的线性关系。通过计时安培法测得催化速率常数为8.6×103mol-1.L.s-1。     

分析用标准样品氟铃脲的合成、纯化及表征

合成了氟铃脲农药粗品,通过活性炭吸附、重结晶进行初步纯化;然后采用柱层析分离技术,以硅胶为填料,乙酸乙酯／石油醚（30～60℃）（1：3,V／V）为展开剂（Rf≈0．5）进行提纯。用紫外光谱（UV）、红外光谱（IR）、核磁共振（^1H NMR,^13C NMR）及质谱（MS）进行了结构表征;以高效液相色谱法测得该试样纯度在99％以上。     

在均匀磁场中旋转的导体厚球壳上电荷的分布--证明在磁场中转动的导体表面电荷分布无普遍公式

用简单方法求出了在均匀磁场中旋转的导体厚球壳上电荷的分布,证明了在磁场中转动的导体表面电荷分布无普遍公式。     

5-芳基-2-呋喃甲醛腙的NMR谱研究

利用变温实验和DPFGSE-NOE实验,确定了5-(3-氯苯基)-2-呋喃甲醛-N-4-甲基苯氧乙酰腙和5-(3-氯苯基)-2-呋喃甲醛-N-4-硝基苯氧乙酰腙两个新化合物25 ℃时在二甲基亚砜中的空间构型,并对这两个新化合物在25 ℃和90 ℃时的质子的化学位移进行了全归属。     

聚合物前驱体衍生SiC纳米棒的光学性质

采用聚硅氮烷前驱体热裂解方法制备SiC纳米棒,并利用SEM、XRD和EDX表征了SiC纳米棒的结构和组成,表明得到的SiC的组分比C：Si接近1：1。用微区Raman和光致发光方法研究了纳米棒的光学性质。观测到SiC的TO模式对应的Raman峰和相邻肩峰。对SiC纳米棒观测到其紫外3．25eV附近强的光致发光峰,我们认为它归结为α型SiC带间的跃迁。通过XRD、Raman和光发射谱,我们推测前驱体热裂解得到的SiC纳米棒是一个混晶,纳米棒的表层是立方晶,而内层主要为a—SiC。     

像增强器信噪比测试方法的分析与研究

通过对像增强器信噪比常用测试方法的研究与分析,提出了一种对CCD摄像机采集的图像进行处理的新的信噪比测试方法,解决了在常用信噪比测试方法中待测参数多、采用测试仪器多的问题。利用新的测试方法和搭建的实验系统不仅实现了数据的统一处理,而且还可以分析照度与信噪比的关系。     

ICCD系统中对像增强器制冷降噪效果的分析

在ICCD摄像机上加装一个半导体制冷器,对像增强器进行实时降温处理,以降低系统时空域噪声。为了评价半导体制冷器对ICCD系统噪声的影响,运用三维噪声模型对制冷前后系统的时空域噪声和信噪比进行了分析,发现半导体制冷器能够有效地降低像管的噪声。     

化学发光酶免疫方法检测克伦特罗残留

建立了间接竞争化学发光酶免疫法(competitive indirect chemilumine scent enzyme immunoassy,ic-CLEIA)检测猪尿中残留克伦特罗(clenbuterol,CLB)的方法,并优化了竞争反应时间,Tween-20含量,PBS离子强度与pH4个参数。优化后的ic-CLEIA检出限可达0．01μg/L,检测范围为0．04～25．8μg/L,ED50为0．54μg/L;尿样检测的平均回收率为98％～120％,批内与批间相对标准偏差(variation of coefficent,CV)均小于10％。这些参数均优于目前广泛使用的ELISA方法,说明本CLEIA方法可替代ELISA法,用于实际尿样的检测。     

金溶液pH值及浸泡处理对Au/Al2O3催化剂上CO氧化反应活性的影响

 采用阴离子浸渍法制备了Au/Al2O3催化剂,考察了溶液pH值及浸泡处理对催化剂上CO氧化反应的影响. 结果表明,催化剂的活性随着浸渍液氯金酸溶液pH值的升高而升高. 对于经300 ℃下H2还原处理的Au/Al2O3催化剂,无论用水浸泡还是用氨水浸泡,室温下CO转化率均可达到100%, 且催化剂具有良好的稳定性. 用氨水浸泡的催化剂经氧化处理后依然保持高活性,但用水浸泡的催化剂活性大幅度下降. XPS结果表明,用氨水浸泡的Au/Al2O3催化剂表面含有Al, O, C, N, Na和Au原子,但没有Cl原子存在. 这说明用氨水浸泡催化剂可有效除去Cl-离子而提高其催化活性.