首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   101篇
  免费   39篇
  国内免费   37篇
化学   48篇
晶体学   4篇
力学   13篇
综合类   1篇
数学   19篇
物理学   92篇
  2022年   2篇
  2021年   4篇
  2020年   2篇
  2019年   3篇
  2018年   9篇
  2017年   6篇
  2016年   10篇
  2015年   5篇
  2014年   11篇
  2013年   9篇
  2012年   5篇
  2011年   7篇
  2010年   12篇
  2009年   6篇
  2008年   11篇
  2007年   8篇
  2006年   5篇
  2005年   4篇
  2004年   10篇
  2003年   2篇
  2002年   4篇
  2001年   2篇
  2000年   4篇
  1999年   3篇
  1998年   3篇
  1997年   8篇
  1996年   3篇
  1995年   4篇
  1994年   2篇
  1993年   2篇
  1991年   1篇
  1989年   1篇
  1988年   1篇
  1987年   2篇
  1986年   1篇
  1985年   2篇
  1982年   1篇
  1980年   1篇
  1965年   1篇
排序方式: 共有177条查询结果,搜索用时 265 毫秒
71.
We report on a micro-Raman investigation of inducing defects in mono-layer, bi-layer and tri-layer graphene by γ ray radiation. It is found that the radiation exposure results in two-dimensional (2D) and G band position evolution with the layer number increasing and D and D' bands rising, suggesting the presence of defects and related crystal lattice deformation in graphene. Bi-layer graphene is more stable than mono- and tri-layer graphene, indicating that the former is a better candidate in the application of radiation environments. Also, the DC electrical property of the mono-layer graphene device shows that the defects increase the carrier density.  相似文献   
72.
双横向电光克尔效应   总被引:1,自引:0,他引:1  
理论分析了克尔(Kerr)介质在两个横向电场作用下的电光调制特性.并由此确定了具有双横向电光克尔效应的光学材料种类.采用折射率椭球方法分析可知,各向同性克尔介质和一些晶体在横向外加电场作用下,其电光相位延迟与外加电场幅值的平方成正比,与电场方向无关;而其电光双折射主轴方位角与外加电场的方向角成正比,与电场幅值无关,称这种电光调制特性为双横向电光克尔效应.理论分析结果表明,排除兼有泡克耳斯(Pockels)效应和电致旋光效应的材料,立方晶系432,m3m点群和六角晶系6/mmm点群的晶体以及所有各向同性光学介质具有双横向电光克尔效应.目前已有克尔常数较大的陶瓷玻璃材料研制成功,将有力地促进双横向电光效应在光学各领域中的广泛应用.  相似文献   
73.
连续渐变周期的一维光子带隙结构全能反射器   总被引:20,自引:7,他引:13  
采用转移矩阵法设计了一种具有连续渐变周期的一维光子带隙结构全能反射器,它在一般材料选取情况下(如TiO2/SiO2),在可见光区能达到几十甚至几百纳米量级的带隙宽度全向反射.研究表明,其带隙宽度随着周期数和渐变周期的大小改变而改变.当周期数不断增大时,带隙宽度不断增大;当渐变周期的大小在一定范围内不断增大时,带隙宽度同样不断增大.这主要是光波在各层之间的传播随着周期和渐变周期的大小不断增大而产生的相干散射和干涉效应不断增强所导致的.  相似文献   
74.
由于能源和电力供应紧张,蓄冷技术引起关注。文中从节能环保的角度,分析了制冷剂气体水合物用于蓄冷空调的必要性和优越性。概括阐述了制冷剂气体水合物的工质选择及替代、促晶技术和蓄冷系统方面的研究,为气体水合物尽快实用化提出研究重点。  相似文献   
75.
Decays of both η and η' provide very useful information in our understanding of low-energy QCD, and experimental signatures for these decays would be extremely helpful at BES-III. The rare decays of the η and η' mesons could serve as a low-energy test of the Standard Model and its beyond. The sensitivities of the measurements of η and η' decays are discussed at BES-III, in which the η and η' mesons are produced in the ψ decays.  相似文献   
76.
利用单块钼酸铅(PbMo_O4,PMO)晶体,实验验证了法拉第磁光效应与电致旋光效应的互补特性.该实验的教学意义在于使学生通过实验理解这两个光学效应的共同本质属性,即它们均属于外场致偏振旋光调制.实验装置主要包括两个偏振器、钼酸铅晶体及其调制电压源和电流源;当将相位相反的交流调制电流和电压同时施加于钼酸铅晶体时,实验观测到磁光调制和电致旋光调制具有相互补偿的特性,其补偿电压约为0.541 kV/A.  相似文献   
77.
X射线探测器是X射线天文观测及脉冲星导航的核心器件,受发射振动、高能粒子辐射损伤及元器件老化等影响,X射线探测器空间观测性能会逐渐变化,X射线探测器在轨标定有利于观测天体X射线辐射信息的准确获取及精确建模.研究利用了脉冲星辐射能谱标定X射线探测器性能的方法,能较好地消除探测器本底及空间环境噪声的影响,通过处理脉冲星导航试验卫星(XPNAV-1卫星)的Crab脉冲星观测数据,评估了我国首款聚焦型X射线探测器的在轨性能.计算结果表明,XPNAV-1卫星上聚焦型X射线探测器的有效面积在0.6-1.9 keV能段内优于2 cm~2,其中在0.7 keV能量处取得最大值3.06 cm~2,探测效率约10%;有效面积随着探测能量增大而减小,在2—3.5 keV能段内有效面积约为1 cm~2,而大于5 keV能段的有效面积约为0.1 cm~2,且此能段估计精度明显受光子统计误差影响.同时研究了考虑能量响应矩阵的探测器有效面积标定新方法,利用地面性能测试中五个特征能谱处的能量分辨率重构其能量响应矩阵,重新标定了聚焦型X射线探测器有效面积,发现该能量响应矩阵对结果影响较小.最后建议观测某些超新星遗迹监测能量分辨率及能量线性等指标的变化.  相似文献   
78.
为了适应矿井、大坝对渗压监测的需要,提出一种活塞和菱形传压结构相结合的光纤布喇格光栅渗压传感器,活塞把测试压力传递到菱形传压结构,菱形传压结构拉动其上下对称连接的弹性钢片,导致粘贴在弹性钢片上的光纤布喇格光栅中心波长产生变化.利用有限元方法在500kPa的测试环境中对顶角分别为90°、110°、130°、150°情况下菱形传压结构的应力特性进行分析,根据仿真参量研制了渗压传感器,并对该传感器进行了压力标定试验和温度补偿试验.实验结果表明:传感器对渗压的灵敏度为2.04nm/MPa,拟合度为0.997,重复性为0.9%,两个测压光栅温度灵敏度分别为0.023 33nm/℃、0.021 68nm/℃,温补光栅为0.009 916nm/℃.  相似文献   
79.
李长胜  陈佳  王伟岐  郑岩 《中国光学》2017,10(4):514-521
利用ZnS…Cu电致发光粉末与环氧树脂胶混合,设计制作了一种梯形电极结构的电压传感单元,实现了电致发光电压传感器输出信号的温度漂移补偿。电致发光电压传感信号通过2根塑料光纤传输到2个硅光电探测器,并选择其开路电压作为传感器的输出信号。在同一外加电压条件下,梯形电极区域内的电场分布是不均匀的,因而不同场点的发光亮度不同。通过测量梯形电极区域内2个不同发光点的发光强度随外加电压的变化,并对两路输出电压传感信号进行数据拟合与计算,可获知被测电压的有效值,并可实现对输出信号温度漂移的补偿。在-40~60℃范围内,采用上述温度漂移补偿方法测量了有效值在0.7~1.5 k V范围内的工频电压,传感器输出信号的非线性误差低于1.6%,验证了该温度漂移补偿方法的有效性。  相似文献   
80.
This paper reports a procedure of soft x-ray lithography for the fabrication of organic crossbar structure. Electron beam lithography is employed to fabricate the mask for soft x-ray lithography, with direct writing technology to lithograph positive resist, polymethyl methacrylate on the polyimide film. Then Au is electroplated on the polyimide film. Hard contact mode exposure is used in x-ray lithography to transfer the graph from the mask to the wafer. The 256-bits organic memory is achieved with the critical dimension of 250~nm.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号