GaN外延层中的缺陷对光学性质的影响

用金属有机化合物气相外延（ＭＯＶＥＰ）方法生长具有不同表面形貌的非掺杂ＧａＮ，并对部分样品的外延层表面进行镜面加工．用阴极射线发光、光散射和拉曼散射方法观察ＧａＮ中深能级发光、缺陷散射光分布和拉曼散射光频移．结果表明，缺陷不但影响ＧａＮ的发光和光散射，而且影响拉曼频移     

高质量GaN外延薄膜的生长

综述了高质量ＧａＮ外延薄膜的生长研究工作的最新重要进展．主要采用的新工艺为：在较低温度下生长ＧａＮ缓冲层后再高温生长ＧａＮ外延薄膜,双气流金属有机化合物气相沉积（ＭＯＣＶＤ）,以及用开有窗口的ＳｉＯ２膜截断穿过位错后横向覆盖外延生长（ｅｐｉｔａｘｉａｌｙｌａｔｅｒａｌｏｖｅｒｇｒｏｗｔｈ）．Ｘ射线衍射和高分辨电镜研究证实,上述工艺使ＧａＮ外延薄膜质量得到显著提高．利用这种薄膜研制成的蓝色激光管即将投放市场．     

金属有机化合物气相外延生长GaN薄膜的电子微结构研究

研究了金属有机化合物气相外延(MOVPE)方法在(0001)氧化铝基底上生长的GaN薄膜的微结构,目的在于解释GaN缓冲层在二步法生长过程中的作用及其对外延层晶体质量的影响.在缓冲层中观察到了高密度的结构缺陷,并发现了两种晶体结构(立方和六角)的GaN.进而对两种结构GaN的成因进行讨论,并对缓冲层和外延层中结构缺陷的关系进行了研究.     

新型蓝光衬底材料LiAlO_2晶体的生长和缺陷分析

ＬｉＡｌＯ２和ＧａＮ的晶格失配率只有１．４％，是一种很有希望的ＧａＮ外延生长衬底材料。本文利用温度梯度法生长出了透明的ＬｉＡｌＯ２单晶，并通过化学浸蚀、光学显微镜、透射电子显微镜、同步辐射Ｘ射线貌相术对晶体中的缺陷进行了检测。结果表明：ＬｉＡｌＯ２在钼坩埚中无籽晶自由凝固结晶时，是沿（１００）方向生长。用温度梯度法生长的ＬｉＡｌＯ２晶体质量良好，晶体中无气泡和包裹物。在ＬｉＡｌＯ２（１００）晶面上测得的位错密度为（３．８～６．０）×１０４ｃｍ－２，晶体中的主要缺陷为亚晶界或镶嵌结构，可能是由于温场不稳定、生长速率太快造成的。     

新型蓝光衬底材料LiAlO2晶体的生长的缺陷分析

ＬｉＡｌＯ２和ＧａＮ的晶格失配率只有１．４％，是一种很有希望的ＧａＮ外延生长衬底材料。本文利用温度梯度法生长出透明的ＬｉＡｌＯ２单晶，并通过化学浸蚀、光学显微镜、透射电子显微镜、同步辐射Ｘ射线貌相术对晶体中的缺陷进行了检测。结果表明：ＬｉＡｌＯ２在钼坩埚中无籽晶自由凝固结日地，是沿（１００）方向生长。用温度梯度法生长的ＡｉＡｌＯ２晶体质量良好，晶体中无气泡和包裹物，在ＬｉＡｌＯ２（１００）方向晶面     

GaN外延层的拉曼散射研究

ＧａＮ外延层的拉曼散射研究１李国华１韩和相１汪兆平２段树琨３王晓亮（１半导体超晶格国家重点实验室２集成光电子学国家重点联合实验室３半导体材料科学实验室中国科学院半导体研究所北京１０００８３）ＲａｍａｎＳｃａｔｅｒｉｎｇｏｆＧａＮＥｐｉｌａｙｅｒ１Ｌ...     

GaN光学微盘的显微荧光图像探讨

研制了不同厚度的直径为５－１５μｍ的ＧａＮ光学微盘,并 学微盘的显微荧光图像进行了细致观测和数据值采集。结果表明,在同一个ＧａＮ外延样品上由于厚度的差别,微盘呈现两种不同类型的荧光图像,     

分子束外延高Mg掺杂GaN的发光特性

采用分子束外延技术在蓝宝石衬底上制备Ｍｇ掺杂的立方相ｐ－ＧａＮ,并对其不同温度下的光致发光光谱进行了研究．实验观察到高Ｍｇ掺杂ＧａＮ中施主受主对发光的反常温度行为．理论分析表明,高Ｍｇ掺杂ＧａＮ中施主受主对的发光受到陷阱与受主间竞争俘获非平衡空穴过程和空穴隧穿输运过程的影响．     

GaN异质外延的离子化氮源方法

用电离Ｎ_２产生的离子束作为外延生长氮化物的Ｎ源已获得成功，在ＧａＡｓ（１００）衬底上长出了具有立方结晶的ＧａＮ薄膜，其（２００）X射线衍射峰宽仅２３′。并用高分辨率电子能量损失谱测到立方ＧａＮ的表面光学声子出现在损失能量为８２ｍｅＶ处． 关键词：     

2000年第1期《物理》内容预告

研究快讯直立在金膜表面的单壁碳纳米管的研究（薛增泉等）;磁性隧道结Ｎｉ８０Ｆｅ２０／Ａｌ２Ｏ３／Ｃｏ的制备和物性（陈等）．评　　述介电极化新概念———边界屏蔽理论（李景德等）．知识和进展近场光学显微镜下的生物世界（沈玉民等）;金属有机化合物气相外延生长ＧａＮ薄膜的电子显微结构研究（程立森等）;ＧａＮ紫外光探测器（张德恒等）;分子整流器的共振隧道效应（周淑琴等）;具有共轭结构的导电聚合物及其应用（闻荻江等）．物理学和高新技术空间光调制器物理和大屏幕投影电视产业（宋菲君）;核医学的发展及其与相关学…