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相似文献
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1.
高潭华 《物理学报》2014,63(4):46102-046102
采用基于自旋极化密度泛函理论的第一性原理计算,研究了在氟化石墨烯中少量C原子被M原子(M=B,N,Si,P)替代后原子片的磁性和电子性质.结果表明:不同原子掺杂后的氟化石墨烯的电子结构会发生很大的变化,并有很大的不同.掺杂B和P原子后,纳米原子片由半导体转变为金属,并且由非磁性转变为磁性;掺杂N原子后,材料则仍为半导体,但具有磁性;进一步讨论了掺杂原子浓度与磁性的关系.对于Si原子掺杂的氟化石墨烯原子片,其半导体性质不变,但禁带宽度也会发生改变.  相似文献   

2.
金掺杂锯齿型石墨烯纳米带的电磁学特性研究   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
胡小会  许俊敏  孙立涛 《物理学报》2012,61(4):47106-047106
本文采用基于密度泛函理论的第一性原理计算了金原子填充锯齿型石墨烯纳米带 (ZGNRs)中双空位结构的电磁学特性. 计算结果表明: 边缘位置是金原子的最稳定掺杂位置, 杂质原子的引入导致掺杂边缘的磁性被抑制, 不过掺杂率足够大时, 掺杂边缘的磁性反而恢复了. 金掺杂纳米带的能带结构对掺杂率敏感: 随着掺杂率的增大, 掺杂纳米带分别表现半导体特性、半金属特性以及金属特性. 本文的计算表明金原子掺杂可以调制ZGNR的磁性以及能带特性, 为后续实验起指导作用, 有利于推动石墨烯材料在自旋电子学方面的应用.  相似文献   

3.
采用基于密度泛函理论的第一性原理方法计算了存在Ga空位缺陷和掺杂B原子的二维GaAs的能带结构、态密度和光学性质.计算结果表明空位缺陷二维GaAs显示出金属特性,B原子的引入使体系变为间接带隙半导体,禁带宽度为0.35 eV.态密度计算发现体系低能带主要由Ga的s态、p态、d态和As的s态、p态构成;高能带主要由Ga和As的s态、p态构成.掺杂B原子与存在空位缺陷的二维GaAs相比,静态介电常数相对较低,变为8.42,且易于吸收紫外光,在3.90~8.63 eV能量范围具有金属反射特性,反射率达到52%.  相似文献   

4.
Al掺杂和Zn空位在ZnO中或Al掺杂和O空位在ZnO中的磁性来源和机理的认识频有争议.为了解决本问题,本文采用基于自旋密度泛函理论框架下的广义梯度近似(GGA+U)平面波超软赝势方法,用第一性原理对其进行了研究,发现Al掺杂和O空位共存在ZnO中没有磁性;Al掺杂和Zn空位在ZnO中有磁性,并且,磁性来源主要由Zn空位产生的空穴为媒介,使得Zn空位附近O 2p态和Zn 4s态电子交换作用形成的.其次,Al掺杂和Zn空位在ZnO中或Al掺杂和O空位在ZnO中,Al掺杂和Zn空位或O空位相对位置较近时,掺杂体系形成能最低,掺杂和空位越容易,稳定性越高.  相似文献   

5.
采用基于密度泛函理论的第一性原理方法观察修饰不同原子(Mo,Pt,Si)来调控BC_3体系的表面结构和反应活性.研究发现:单个原子吸附在BC_3表面具有不同的稳定位,Pt和Si原子吸附在H1位稳定,而Mo原子吸附在H2位稳定.单个原子在完整结构BC_3表面的扩散势垒较小,而掺杂的原子在单空位缺陷BC_3体系中具有极高的稳定性( 6.5 eV),这些掺杂原子显正电性能够有效地调制BC_3体系的电子结构、磁性以及影响二氧化硫(SO_2)的吸附强弱.与Pt原子掺杂的BC_3体系(Pt-BC_3)相比,单个SO_2分子在Si-和Mo-BC_3体系上的吸附能较大,表现出较高的灵敏特性.该研究为设计类石墨烯基功能纳米材料提供参考.  相似文献   

6.
侯振桃  李彦如  刘何燕  代学芳  刘国栋  刘彩池  李英 《物理学报》2016,65(12):127102-127102
采用基于密度泛函理论的第一性原理结合投影缀加平面波的方法,研究了GaN中Ga被稀土元素Gd替代以及与邻近N或Ga空位组成的缺陷复合体的晶格常数、磁矩、形成能以及电子结构等性质.结果发现,Gd掺杂GaN后禁带宽度变窄,由直接带隙半导体转为间接带隙半导体;单个Gd原子掺杂给体系引入大约7μB的磁矩;在Gd与Ga或N空位形成的缺陷复合体系中,N空位对引入磁矩贡献很小,大约0.1μB,Ga空位能引入约2μB的磁矩.随着Ga空位的增多,体系总磁矩增加,但增加量与Ga空位的位置分布密切相关.当Ga空位分布较为稀疏时,Gd单原子磁矩受影响较小,但当Ga空位距离较近且倾向于形成团簇时,Gd单原子磁矩明显增加,而且这种情况下空位形成能也最小.  相似文献   

7.
利用平面波超软赝势方法研究了B/N原子单掺杂和共掺杂对双层石墨烯电子特性的影响.对掺杂双层石墨烯进行结构优化,并计算了能带结构、态密度、分波态密度等.分析表明,层间范德瓦尔斯相互作用对双层石墨烯的电子特性有比较明显的影响;B/N原子单掺杂分别对应p型和n型掺杂,会使掺杂片层的能带平移,使得体系能带结构产生较大分裂;双层掺杂的石墨烯能带结构与掺杂原子的相对位置和距离有关,对电子特性有明显的调控作用.其中特别有意义的是,B/N双层共掺杂在不同位置情况下会得到金属性或禁带宽度约为0.3 eV的半导体能带.  相似文献   

8.
基于密度泛函理论的第一性原理计算方法,我们研究了氢化、氟化及氢氟化五边形石墨烯双层对其电子性能的调控.计算结果表明,氢化和氟化的五边形石墨烯双层可分别在价带顶及导带底形成局域的电子态而显著降低带隙.基于这一特性,我们进一步研究氢氟化的五边形石墨烯双层结构对电子能带的影响,并且发现通过调控氢氟化覆盖度能够有效调节带隙,进而实现五边形石墨烯双层从半导体到金属态的转变.  相似文献   

9.
采用基于密度泛函理论(DFT)框架下广义梯度近似(GGA)的PBE平面波超软赝势方法,计算了本征ZnO,Al掺杂ZnO(ZnAlO)和Ga掺杂ZnO(ZnGaO)的能带结构、态密度、复介电函数和复电导率. 其中Al或Ga是以替位杂质的形式进入ZnO晶格. 计算结果表明纤锌矿型ZnO,ZnAlO和ZnGaO都是直接带隙半导体材料,掺杂后ZnO的带隙变小,且ZnAlO的带隙略大于ZnGaO. 掺杂后ZnO的电子结构发生变化,费米能级由本征态时位于价带顶上移进入导带,ZnO表现为n型掺杂半导体材料,掺杂后在导带底出现大量由掺杂原子贡献的自由载流子—电子,明显提高了电导率和介电函数,改善了ZnO的导电性能,并且ZnAlO的导电性能要略好于ZnGaO.  相似文献   

10.
采用基于密度泛函理论(DFT)框架下广义梯度近似(GGA)的PBE平面波超软赝势方法,计算了本征ZnO,Al掺杂ZnO(ZnAlO)和Ga掺杂ZnO(ZnGaO)的能带结构、态密度、复介电函数和复电导率. 其中Al或Ga是以替位杂质的形式进入ZnO晶格. 计算结果表明纤锌矿型ZnO,ZnAlO和ZnGaO都是直接带隙半导体材料,掺杂后ZnO的带隙变小,且ZnAlO的带隙略大于ZnGaO. 掺杂后ZnO的电子结构发生变化,费米能级由本征态时位于价带顶上移进入导带,ZnO表现为n型掺杂半导体材料,掺杂后在导带底出现大量由掺杂原子贡献的自由载流子—电子,明显提高了电导率和介电函数,改善了ZnO的导电性能,并且ZnAlO的导电性能要略好于ZnGaO.  相似文献   

11.
The electronic and structural properties of substitutional and doped phosphorene with B, N and Si were studied using first principles calculations based on density functional theory. Moreover, electronic and structural properties of functionalized phosphorene slowly increasing the concentration of doping was investigated. Phosphorene strongly binds with doped functionalization; B doped phosphorene is the most stable configuration studied. Si doped phosphorene maintains the semiconductor characteristic. B and N doped phosphorene present n-type and p-type semiconductors, respectively. Doped phosphorene with odd number of Si is a semiconductor material, doped phosphorene with an odd number of B has n-type semiconductor characteristic, and doped phosphorene with odd number of N atoms has a p-type semiconductor behaviour. Doped phosphorene with even number of Si has a metallic characteristic, while B and N doped phosphorene with even number present a semiconductor behaviour. This work reveals that phosphorene electronic properties could be changed by introducing the dopants on the system, and the properties are affected by the increasing number of dopants on phosphorene sheet.  相似文献   

12.
廖建  谢召起  袁健美  黄艳平  毛宇亮 《物理学报》2014,63(16):163101-163101
基于密度泛函理论的第一性原理计算,研究了横截面为五边形和六边形的核壳结构硅纳米线的过渡金属Co原子替代掺杂.通过比较形成能发现,核心位置掺杂、壳层单链掺杂以及外壳层全替代掺杂的硅纳米线都具有稳定性,其中核心位置掺杂结构的稳定性最高.掺杂体系均呈现金属性,随着掺杂浓度的增加,电导通道数增加.Co原子掺杂的硅纳米线呈现铁磁性,具有磁矩.Bader电荷分析表明,电荷从Si原子转移至过渡金属Co原子.与自由态时过渡金属Co原子的磁矩相比,体系中Co原子的磁矩有所降低,这主要是由Co原子4s轨道向3d/4p轨道的电荷转移以及4s,3d,4p的上自旋电子转移至下自旋导致的.  相似文献   

13.
First-principles computations are performed to investigate phosphorene monolayers doped with 30 metal and nonmetal atoms. The binding energies indicate the stability of all doped configurations. Interestingly, the magnetic atom Co doping induces the absence of the magnetism while the magnetism is realized in phosphorene with substitutional doping of nonmagnetic atoms (O, S, Se, Si, Br, and Cl). The magnetic moment of transition metal (TM)-doped systems is suppressed in the range of 1.0-3.97 μB. The electronic properties of the doped systems are modulated differently; O, S, Se, Ni, and Ti doped systems become spin semiconductors, while V doping makes the system a half metal. These results demonstrate potential applications of functionalized phosphorene with external atoms, in particular to spintronics and dilute magnetic semiconductors.  相似文献   

14.
The electronic structure and magnetic properties of nonmagnetic phosphorus doped ZnO are investigated using first-principles calculation. Both generalized gradient approximation (GGA) and GGA + U calculations show that each substitutional P atom in ZnO induces a magnetic moment of about 1.0 μB, which come mainly from the partially filled p orbitals of the substitutional P and its 12 second neighboring O atoms. The magnetic coupling between the moments induced by P doping is ferromagnetic. The calculated electronic structures indicate that the ferromagnetic coupling can be explained in terms of the two band coupling model.  相似文献   

15.
Density-functional theory in combination with the nonequilibrium Green's function formalism is used to study the effect of substitutional doping on the electronic transport properties of hydrogen passivated zig-zag graphene nanoribbon devices. B, N and Si atoms are used to substitute carbon atoms located at the center or at the edge of the sample. We found that Si-doping results in better electronic transport as compared to the other substitutions. The transmission spectrum also depends on the location of the substitutional dopants: for single atom doping the largest transmission is obtained for edge substitutions, whereas substitutions in the middle of the sample give larger transmission for double carbon substitutions. The obtained results are explained in terms of electron localization in the system due to the presence of impurities.  相似文献   

16.
汤沛哲  刘海涛  朱洁  王山鹰  段文晖 《中国物理 B》2012,21(2):27104-027104
The structural and magnetic properties of Fen-mGam (n=3~6, m=0~2; n=13, m=0~3) alloy clusters have been studied using density functional theory. The substitutional doping is favourable for small clusters with up to six atoms at low Ga concentration and substitutional Ga atoms in 13-atom clusters prefer surface sites. The Ga-doping generally could reduce the energetic stability but enhance the electronic stability of Fe clusters, along with a decrease of the local magnetic moments of Fe atoms around Ga dopants. These findings provide a microscopic insight into Fe-Ga alloys which are well-known magnetostriction materials.  相似文献   

17.
BN链掺杂的石墨烯纳米带的电学及磁学特性   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
王鼎  张振华  邓小清  范志强 《物理学报》2013,62(20):207101-207101
基于密度泛函理论第一性原理系统研究了BN链掺杂石墨烯纳米带(GNRs)的电学及磁学特性, 对锯齿型石墨烯纳米带(ZGNRs)分非磁态(NM)、反铁磁态(AFM)及铁磁性(FM)三种情况分别进行考虑. 重点研究了单个BN链掺杂的位置效应. 计算发现: BN链掺杂扶手椅型石墨烯纳米带(AGNRs) 能使带隙增加, 不同位置的掺杂, 能使其成为带隙丰富的半导体. BN链掺杂非磁态ZGNR的不同位置, 其金属性均降低, 并能出现准金属的情况; BN链掺杂反铁磁态ZGNR, 能使其从半导体变为金属或半金属(half-metal), 这取决于掺杂的位置; BN链掺杂铁磁态ZGNR, 其金属性保持不变, 与掺杂位置无关. 这些结果表明: BN链掺杂能有效调控石墨烯纳米带的电子结构, 并形成丰富的电学及磁学特性, 这对于发展各种类型的石墨烯基纳米电子器件有重要意义. 关键词: 石墨烯纳米带 BN链掺杂 输运性质 自旋极化  相似文献   

18.
Using the local-density approximation method we have investigated a cluster model of the Al/Si(111) interface. P atoms were placed in the fifth silicon double-atomic layer (DAL) counting from the interface. The second DAL was doped with either Ga or As. The Schottky barrier height was found to be 0.75 eV at the Al/Si(intrinsic) system and 0.73 eV at the Al/Si(P-doped) case. The additional doping of the near-interface layer by Ga increased the barrier to 0.90 eV while the As doping decreased it to 0.5 eV.  相似文献   

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