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本文引进qiqi→qjqj以及qiqi→(gg)湮没项[1],并考虑了对湮没项的SU(3)破坏效应[2],讨论了η、η′和ι的混合,得到了它们的有声有色和胶子内容.与此同时,引入EPCAC(扩充的部分守恒赝矢流)假设[3],考察了η、η′和ι的双光子衰变.本文还计算了衰变宽度比R1=Γ(J/ψ→γη′)/Γ(J/ψ→γη)以及R2=Γ(J/ψ→γη′)/Γ(J/ψ→γι),指出了实验结果对纯胶子球质量值的限制. 相似文献
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高能h-A碰撞 总被引:2,自引:0,他引:2
本文在QCD修正的Drell-Yan机制和矢量介子中间态贡献下,利用NMC组的1-A深度非弹在0.00352<90MeV2/c2测量的结构函数比值RA(x,Q2),通过重标度模型解释了WA-78组对(π-,P)+A→μμ+X过程在2mμ≤mμμ≤1.5GeV和0.1≤xF≤0.6内的测量结果.将它们与在不同的m1l和xF区间测量的CIP组结果对比,解释了为什么靶核在前者中显示遮蔽效应面在后者中则显示出反遮蔽效应.指出通过重标度模型和其合理假定后,它们都与RA(x,Q2)直接相关,从而进一步揭示了1-A深度非弹中核效应与h-A ll产生过程中核效应之间的本质联系. 相似文献
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在相场再结晶模型中提出了形式为 f(ηik,ηjk) = Es (ηide )2 (1-(ηjre)2)的冷变形储能项,并应用该模型模拟了 AZ31镁合金的再结晶过程,模拟结果和实验观测结果符合很好.研究表明, 引入储能释放模型可以实现再结晶形核物理过程的模拟; 模拟结果可以把合金在冷变形后退火的过程按照机理分为再结晶和热晶粒 长大两个阶段,模拟得出的理论再结晶时间是实验再结晶时间的2/3. 考察了冷变形应变大小对形变金属的亚晶粒尺寸和储能的影响机理和 试验结果,并将考察结果代入到改进后的再结晶模拟模型, 成功地再现了一个经典实验结果:随预先应变量的增加, 存在临界应变量对应的一个再结晶晶粒尺寸峰值.同时还给出了 这一经典实验结果的理论解释. 相似文献
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利用氧化钼(MoOx)作为p型掺杂剂,以掺杂层4,4'-bis(carbazol-9-yl)biphenyl(CBP):MoOx作为空穴注入层,制备了一种结构为ITO/MoOx/CBP:MoOx/CBP/CBP:tris(2-phenylpyridine)iridium(III)(Ir(ppy)3)/4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline(Bphen)/LiF/Al的有机电致发光器件.器件中CBP同时作为空穴注入层、空穴传输层以及发光层母体材料,这种结构具有结构简单同时能有效降低空穴注入势垒等优点.研究发现,随着空穴注入层厚度的增加,器件的电流密度增加,表明p型掺杂层的引入能够有效增强空穴的注入;通过优化器件空穴注入层与空穴传输层厚度,器件性能有所提高,最大电流效率为29.8 cd/A,可以认为合理的优化空穴注入层和空穴传输层的厚度,使载流子在发光层中的分布更加平衡是提高器件发光效率的主要原因.值得指出的是,从电流效率最大值到亮度为 20 000 cd/m2时,优化后器件的效率衰减仅为17.7%,而常规器件的效率衰减则为62.1%,优化后器件效率衰减现象得到了明显的改善.分析认为优化后的器件中未掺杂的CBP有助于展宽激子形成区宽度,进而减弱了三线态-三线态湮灭、三线态-极化子淬灭现象,激子形成区的展宽是改善效率衰减的主要原因. 相似文献
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第Ⅱ种强度不等的非对称两态叠加多模叠加态光场的偶数阶等阶N次方Y压缩 总被引:5,自引:0,他引:5
本文构造了由多模复共轭相干态的相反态|{-Zj(a)*}>q与多模虚共轭相干态的相反态|{-iZj(b)*}>q这两者的线性叠加所组成的第Ⅱ种强度不等的非对称两态叠加多模叠加态光场|ΨⅡ(ab)>q,利用多模压缩态理论研究了态|ΨⅡ(ab)>q的任意偶数阶等阶N次方Y压缩特性.结果发现:1)在压缩阶数N取偶数,即N=2p的条件下,无论p=2m(m=1,2,3,…,…),还是p=2m+1(m=0,1,2,3,…,…),只要构成态|ΨⅡ(ab)>q的两个不同的量子光场态中各对应模的强度(即平均光子数)和初始相位都不相等,亦即Rj(a)≠Rj(b)和φj(a)≠φj(b)(j=1,2,3,…,q),并且
,则当满足一定的量子化条件(或者在一些闭区间内连续取值)时,态|ΨⅡ(ab)>q总可呈现出周期性变化的、任意偶数阶的等阶N次方Y压缩效应.2)在N=2p且p=2m+1(m=0,1,2,3,…,…)的条件下,若Rj(a)=Rj(b)和φj(a)=φj(b)(j=1,2,3,…,q),态|ΨⅡ(ab)>q则可呈现出等阶N次方Y压缩简并现象. 相似文献
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第Ⅵ类两态叠加多模叠加态光场的广义非线性等阶N次方H压缩 总被引:3,自引:3,他引:0
本文根据量子力学中的线性叠加原理,构造了由多模相干态|{Zj}〉q与多模虚相干态|{iZj}〉q这两者的线性叠加所组成的第类两态叠加多模叠加态光场|φ6(2)〉q.利用多模压缩态理论,研究了态|φ6(2)〉q的广义非线性等阶N次方H压缩特性.结果发现:1)在腔模总数q与压缩阶数N这两者之积取偶数亦即qN=2p的条件下,如果p=2l(l=1,2,3,…,…),则无论各模的初始相位和∑j=1qφj、态间的初始相位差(θpq(R)-θpq(I))以及各单模相干态光场的平均光子数之和∑j=1qRj2等如何变化,态|φ6(2)〉q总是恒处于等阶N-H最小测不准态.2)在qN=2p的条件下,如果p=2l+1(l=0,1,2,3,…,…),则当∑j=1qφj、(θpq(R)-θq(I))、∑j=1qRj2、[(θpq(R)-θq(I))-∑j=1qRj2]等分别满足一定的量子条件(或者在一些特定的闭区间内连续取值)时,态|φ6(2)〉q总可呈现出周期性变化的等阶N次方H压缩效应. 相似文献
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这篇短文的内容是:(i)对於量子场论中的i(δψ[σ])/(δσ(x))=V(x,σ)ψ[σ] 如何由寻常的“曲面上的薛定谔方程”导出,作一个较严格的讨论,以及 (ii)讨论上式中的V(x,σ)在什么条件下不包含有σ。我们证明了所需的条件是 (?LI)/(?φμ) (?LI)/(?φν)=(?2L)/(?φμ?φν)F(φ,φρ),式中L,LI代表总拉格朗日及作用拉格朗日,φ代表场量,φμ代表φ/xμ,F(φ,φρ)代表φ及φμ的一个任意函数。 相似文献
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第Ⅱ种强度不等的非对称两态叠加多模叠加态光场的任意奇数阶等阶N次方Y压缩 总被引:2,自引:0,他引:2
本文利用多模压缩态理论,研究了第Ⅱ种强度不等的非对称两态叠加多模叠加态光场|ΨⅡ(ab)>q的任意奇数阶等阶N次方Y压缩特性.结果发现:在压缩阶数N=2p+1的条件下,无论p=2m还是p=2m+1(m=0,1,2,3,…,…),只要构成态|ΨⅡ(ab)>q的两个不同的量子态|{-Zj(a)*}>q与|{-iZj(b)*}>q的各对应模的强度(即平均光子数)和初始相位都不相等,亦即Rj(a)≠Rj(b)和φj(a)≠φj(b)(j=1,2,3,…,q),并且 Rj(a)(2p+1)= Rj(b)(2p+1),则当各对应模的初始相位φj(a)与φj(b)、各对应模的初始相位差(φj(a)-φj(b)),态间的初始相位差(θnq(aR)-θnq(bI))以及光子干涉项的幅度 =Rj(a)Rj(b)等分别满足一定的量子化条件时,态|ΨⅡ(ab)>q的第一及第二这两个正交分量总可分别呈现出周期性变化的、任意奇数阶等阶N次方Y压缩效应.这一结果,与现有报道的结果截然不同. 相似文献
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本文考虑在N→SA相变中,当T→Tc+(相交点)时,声在液晶中传播引起的压力效应。使用模-模耦合方法计算了声的衰减和色散,得到在高频区间,声的衰减有反常发散行为,在低频极限声衰减的临界指数为2.5.当T→Tc+时,本文的理论曲线大体上与实验结果相一致。 相似文献
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原子核电荷半径Rc所有的实验数据都表明, Rc系统偏离A1/3律, 即随A增大Rc/A1/3系统地递减, 而Rc/Z1/3则比较接近于一个常量. 原子核巨单极共振能量Ex ∝ R-1的大量实验数据也支持这一结论. 根本原因在于A1/3律与同位旋无关, 而Z1/3律已部分反映了同位旋的影响. 基于壳模型, 给出了Z1/3律的微观诠释. 壳模型中质子和中子谐振子势强度参数ωp和ωn的差异, 可以用Z1/3律说明. 基于与Wigner的原子核同位旋多重态质量公式(IMME)相似的理论考虑, 提出了核电荷半径改进的Z1/3律. 相似文献
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利用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si(100)衬底上制备了Nd掺杂Bi4Ti3O12(Bi4-xNdxTi3O12, x=0.00,0.30,0.45,0.75,0.85,1.00,1.50)铁电薄膜样品.研究了Nd掺杂对Bi4Ti3O12薄膜的微结构和铁电性能的影响.研究结果表明:Nd掺杂未改变Bi4Ti3O12薄膜的基本晶体结构.在掺杂量x<0.45时,Nd3+只取代类钙钛矿层中的A位Bi3+.当x=0.45时,样品剩余极化强度达最大值,在270kV·cm-1的电场下为32.7μC·cm-2.掺杂量进一步增加时,结构无序度开始明显增大,Nd3+开始进入(Bi2O2)2+层,削弱其绝缘层和空间电荷库的作用,导致材料剩余极化逐渐下降.当掺杂量x达到1.50时,掺杂离子最终破坏(Bi2O2)2+层的结构,材料发生铁电-顺电相变. 相似文献
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本文在Thomas-Fermi势能基础上,导出了全射程R的解析解:R=2/a[E1/2-A1(arctg(2E1/2-f)/△1/2+arctg f/△1/2)+B1ln((E1/2-f)2)/(E-fE1/2+d) ·d/f2],其中A1,B1,f,d和△均为与离子及靶的质量、原子序数有关的常数。结合导出的η=R/(Rp)(Rp指投影射程)比值的双曲线函数关系 η=F(μ)[A2(μ)+(B2(μ))/(ε1/2+C)],和ω=Rp/△Rp(△Rp指投影射程的标准偏差)比值的线性关系ω=A3(μ)ε1/21/2+B3(μ),可简便而又准确地计算R,△Rp,Rp.这里F(μ),A2(μ),B2(μ), B3(μ)和A3(μ)为μ的代数函数,μ为离子与靶的质量比,C是经验常数.并对η等关系式的物理意义作了讨论。上述公式的计算结果与Gibbons的数值解结果及有关实验结果作了比较,表明可用于元素半导体如Si、二元化合物如GaAs以及三元化合物如SiO2等;既对较轻离子适用,也对重离子适用,具有一定的普适范围。 相似文献