大焦深成像系统仿真实验研究

如何增大非相干光学成像系统的焦深是应用光学研究领域的热点问题.本文对采用高次非球面光学掩模板与图像处理相结合增大成像光学系统焦深的新方法进行了深入分析,建立了大焦深成像系统仿真实验模型,并进行了大焦深成像系统仿真实验.实验结果证明了该方法在维持原相对孔径的同时使光学系统在较大的离焦范围内有好的成像质量.实际应用中还要综合考虑模板参量、信噪比等关键因素.     

Suomi NPP卫星可见光红外成像辐射仪的改进动态阈值云检测算法

基于可见光红外成像辐射仪多波段、宽覆盖、长重访周期的特点,以及云层在可见光到热红外通道的分布及变化特性,提出了一种适用于可见光红外成像辐射仪数据的改进的动态阈值云检测算法;通过遥感目视解译的方法对云检测结果进行精度验证,并与通用动态阈值云检测算法、可见光红外成像辐射仪云掩膜产品的结果进行对比。结果表明:所提算法能以较高的精度识别不同地表上空的云层,平均总体精度为93.23%,平均Kappa系数为0.821,对薄、碎云的整体识别精度得到了明显提高,错分和漏分误差明显减小;所提算法的云检测结果整体优于通用动态阈值云检测算法和可见光红外成像辐射仪云掩膜产品的云检测结果。     

软X射线投影光刻技术及其发展(续)

为了提高反射率,软X射线投影光刻中使用的掩膜是制备在多层膜上的反射式掩膜,由于有微缩光学系统,它有相对较大的特征尺寸;同时由于它是制备在镀有多层膜的较结实基片上,使用中有能力避免软X射线照射引起的掩膜热变形,便于实现高精度的光刻复制。在反射式掩膜技术中,需要着重考虑的是掩膜缺陷修复和降低多层膜的损伤。     

确定性相位掩膜可压缩双透镜成像

压缩成像是压缩传感理论的一个重要应用领域.本文将确定性测量引入压缩成像,提出一种确定性相位掩膜可压缩双透镜成像方法.模拟实验结果表明,新的成像方法可以在显著地降低物理实现成本的同时,有效地捕获图像信息来重建原始图像.此方法改变了经典的模拟-数字转换的光学成像思路,减少模数转换开销,并有利于图像的传输和存储,可以为照相机的设计提供若干理论、计算和技术支撑.     

无铬相移掩模光刻技术

本文论述了相移掩模(PSM)提高光刻分辨率的基本原理、主要类型、无铬PSM的制作方法,简述了曝光实验和实验结果.用NA=0.28的g线光刻机得到了0.5μm的实际分辨率.     

普通单模光纤传输系统的光纤光栅色散补偿研究

通过系统分析光纤光栅的耦合模理论 ,探索、优化光纤光栅的制作过程 ,研制了满足ITU T建议波长的优质光纤光栅。用双透镜和扫描移动平台结合相位掩膜板研制的光纤光栅分别成功实现了 4× 10Gb/s 4 0 0km和4× 10Gb/s 80 0km普通单模光纤传输系统的色散补偿 ,功率代价均小于 2dB ,且最佳功率代价为负值。同时对4× 10Gb/s 80 0km普通单模光纤传输系统的偏振模色散实施长时间的监测 ,系统偏振模色散小于 10 ps,提出了发展 10Gb/s的光通信系统更符合目前我国国情的见解。     

氧化锌纳米点阵列体系的制备及发光性能

A novel nano-masking technique based on porous alumina membrane as mask was developed for preparing ZnO nanodots on Si substrate. The as-deposited nanodots with uniform size were in two-dimensional, regular array, whose regular structure and diameter were closely related to the mask used. Photoluminescence results show that the ZnO nanodot array have a strong UV light emission peak around 380 nm and a wide blue-green light emission peak at 460～610 nm at room temperature. The former corresponds to the near band edge emission of the wide band-gap ZnO and the latter could be attributed to the recombination of a photogenerated hole with singly ionized oxygen vacancy.     

制备波导光栅的相位掩膜技术

制备波导光栅的相位掩膜技术＊马少杰李燕徐迈林久令（中国科学院长春物理研究所，长春１３００２１）（中国科学院激发态物理开放研究实验室，长春１３００２１）关键词光波导，光栅耦合器，全息光栅自从７０年Ｄａｋｓｓ等人首次报道了集成光波导光栅器件以来［１］，波...     

New type X—ray mask fabricated using inductvely coupled plasma deepetching

The fabrication of X-ray masks is a critical and challenging process in LIGA technique.As inductively coupled plasma(ICP) deepetching appears to be the most suitable source for deep silicon etching,we fabricated a new type X-ray mask using this technique.In comparison with other types of X-ray masks,the mask we fabricated has the advantages of its low cost and its simple fabrication process.Besired microstructures have also been fabricated using this new type X-ray mask in LIGA technique.