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1.
采用磁控溅射法在ITO玻璃上制备了CdZnTe薄膜,探究机械磨抛对CdZnTe薄膜阻变特性的影响。通过对XRD图谱、Raman光谱、AFM显微照片等实验结果分析阐明了机械磨抛影响CdZnTe薄膜阻变特性的物理机制。研究结果表明,磁控溅射制备的薄膜为闪锌矿结构,F43m空间群。机械磨抛提高了CdZnTe薄膜的结晶质量;CdZnTe薄膜粗糙度(Ra)由磨抛前的3.42 nm下降至磨抛后的1.73 nm;磨抛后CdZnTe薄膜透过率和162 cm-1处的类CdTe声子峰振动峰增强;CdZnTe薄膜的阻变开关比由磨抛前的1.2增加到磨抛后的4.9。机械磨抛提高CdZnTe薄膜质量及阻变特性的原因可能是CdZnTe薄膜在磨抛过程中发生了再结晶。 相似文献
2.
3.
Zhi Sun Mengfan Zhao Lihua Zuo Shengnan Zhou Feng Fan Qingquan Jia Lianping Xue Hanbing Li Jian Kang Xiaojian Zhang 《Journal of separation science》2022,45(2):518-528
Juglandis Mandshuricae Cortex is the bark of Juglans mandshurica Maxim., which has been used as a folk medicine plant in China and India. In this study, an ultra-high performance liquid chromatography–quadrupole/orbitrap high-resolution mass spectrometry method was developed to clarify and quantify the chemical profiling of Juglandis Mandshuricae Cortex rapidly. A total of 113 compounds were characterized. Among them, seven flavonoids were simultaneously quantified in 15 min, including myricetin, myricetrin, taxifolin, kaempferol, quercetin, quercitrin, and naringenin. The method was validated for accuracy, precision, and the limits of detection and quantification. All calibration curves showed a good linear relationship (r > 0.9990) within test ranges. The intra- and inter-day relative standard deviations were less than 2.16%. Accuracy validation showed that the recovery was between 95.6 and 101.3% with relative standard deviation values below 2.85%. The validated method was successfully applied to determine the contents of seven flavones in Juglandis Mandshuricae Cortex from seven sources and the contents of these places were calculated respectively. This method provides a theoretical basis for further developing the medicinal value of Juglandis Mandshuricae Cortex. 相似文献
4.
掺杂是调控金刚石性能的一种重要手段。本文采用温度梯度法,在5.6 GPa、1 312 ℃的条件下,选用Fe3P作为磷源进行磷掺杂金刚石大单晶的合成。金刚石样品的显微光学照片表明,随着Fe3P添加比例的增加,金刚石晶体的颜色逐渐变深,包裹体数量逐渐增加,晶形由板状转变为塔状直至骸晶。金刚石晶形的变化表明Fe3P的添加使生长金刚石的V形区向右偏移,这是Fe3P改变触媒特性的缘故。红外光谱分析表明,Fe3P的添加使金刚石晶体中氮含量上升,这说明磷的进入诱使氮原子更容易进入金刚石晶格中。激光拉曼光谱测试表明,随着Fe3P添加比例的增加,所合成的掺磷金刚石的拉曼峰位变化不大,其半峰全宽(FWHM)值变大,这说明磷的进入使得金刚石晶格畸变增加。XPS测试结果显示,随着Fe3P添加比例的增加,金刚石晶体中磷相对碳的原子百分含量也会增加,这意味着添加Fe3P所合成的金刚石晶体中有磷存在。 相似文献
5.
Acta Mathematicae Applicatae Sinica, English Series - In this paper, we consider the statistical inferences in a partially linear model when the model error follows an autoregressive process. A... 相似文献
6.
Journal of Algebraic Combinatorics - Highly nonlinear functions (bent functions, perfect nonlinear functions, etc.) on finite fields and finite (abelian or nonabelian) groups have been studied in... 相似文献
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8.
Experimental Mechanics - Temperature gradients significantly affect the material fatigue process. A reliable and robust test procedure is needed for quantifying the effects of temperature gradients... 相似文献
9.
高中物理学习过程中,在学习运动的合成与分解时,教师和学生都会遇到一些经典的关联速度问题.学生解决此类问题时也常常出错,教师的讲解往往看似合理,实质还是有背逻辑思维.文章分析了关联速度中的经典例题:绳拉船的问题,并且指出了许多教师的解法存在的争议,还讨论了更合理的常规解法和适于中学生理解的方法.文章中的"关联速度问题的中学生解法"便于学生理解和解决此类问题. 相似文献
10.
CdS/Si nanofilm heterojunctions based on amorphous silicon films:Fabrication,structures,and electrical properties 下载免费PDF全文
Shortening the distance between the depletion region and the electrodes to reduce the trapped probability of carriers is a useful approach for improving the performance of heterojunction.The CdS/Si nanofilm heterojunctions are fabricated by using the radio frequency magnetron sputtering method to deposit the amorphous silicon nanofilms and Cd S nanofilms on the ITO glass in turn.The relation of current density to applied voltage(I-V)shows the obvious rectification effect.From the analysis of the double logarithm I-V curve it follows that below~2.73 V the electron behaviors obey the Ohmic mechanism and above~2.73 V the electron behaviors conform to the space charge limited current(SCLC)mechanism.In the SCLC region part of the traps between the Fermi level and conduction band are occupied,and with the increase of voltage most of the traps are occupied.It is believed that Cd S/Si nanofilm heterojunction is a potential candidate in the field of nano electronic and optoelectronic devices by optimizing its fabricating procedure. 相似文献