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Collector optimization for tradeoff between breakdown voltage and cut-off frequency in SiGe HBT 下载免费PDF全文
As is well known, there exists a tradeoff between the breakdown voltage BVCEOand the cut-off frequency fTfor a standard heterojunction bipolar transistor(HBT). In this paper, this tradeoff is alleviated by collector doping engineering in the SiGe HBT by utilizing a novel composite of P+and N-doping layers inside the collector–base(CB) space-charge region(SCR). Compared with the single N-type collector, the introduction of the thin P+layers provides a reverse electric field weakening the electric field near the CB metallurgical junction without changing the field direction, and the thin Nlayer further effectively lowers the electric field near the CB metallurgical junction. As a result, the electron temperature near the CB metallurgical junction is lowered, consequently suppressing the impact ionization, thus BVCEOis improved with a slight degradation in fT. The results show that the product of fT×BVCEOis improved from 309.51 GHz·V to326.35 GHz·V. 相似文献
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宽温区大电流下的热不稳定性严重制约着功率SiGe 异质结双极晶体管 (HBT) 在射频和微波电路中的应用.为改善器件的热不稳定性, 本文利用SILVACO TCAD建立的多指功率SiGe HBT模型, 分析了器件纵向结构中基区Ge组分分布对微波功率SiGe HBT电学特性和热学特性的影响. 研究表明, 对于基区Ge组分为阶梯分布的HBT, 由于Ge组分缓变引入了少子加速电场, 使它与均匀基区Ge组分HBT相比, 具有更高的特征频率fT, 且电流增益β和fT随温度变化变弱, 这有利于防止器件在宽温区工作时电学特性的漂移.同时, 器件整体温度有所降低, 但器件各指温度分布均匀性较差.考虑多指HBT各发射极指散热能力存在差异, 在器件纵向结构设计为基区Ge组分阶梯分布的同时, 对其横向版图进行发射极指间距渐变结构设计, 用于改善器件各指温度分布的均匀性, 进而提高HBT的热稳定性.结果表明, 与基区Ge组分为均匀分布的等发射极指间距结构HBT相比, 新器件各指温度分布均匀性明显改善, fT保持了较高的值, 且β和fT 随温度变化不敏感, 热不稳定性得到显著改善, 显示了新器件在宽温区大电流下工作的优越性.
关键词:
SiGe 异质结双极晶体管
Ge组分分布
发射极指间距渐变技术
热稳定性 相似文献
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针对常规多波束测量中由于远距离目标信号未到达接收基阵而不能再次发射探测信号,导致测深帧率下降的问题,提出了基于Kasami编码的浅水多波束高帧率测深方法。首先讨论了频分复用高帧率测深方法、基于Kasami编码的并行高帧率测深方法和串行高帧率测深方法的原理,然后通过仿真对比了三种方法的条带间干扰和测深精度的性能,最后分析表明基于Kasami编码的串行高帧率测深方法具有较低的条带间干扰能力和较高的测深精度。最后采用国产首套浅水宽覆盖多波束测深系统进行了水池实验验证,结果表明该方法在保证测量精度的情况下,可有效的提高测量帧率。 相似文献
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