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使用直流磁控溅射法在玻璃基底上沉积Mo薄膜,采用X射线衍射仪、原子力显微镜和四探针测试系统研究了溅射工艺对Mo薄膜的结构、形貌和电学性能的影响.结果表明:当基片温度为150 ℃时,薄膜获得(211)晶面择优取向生长,而在低于250 ℃的其它温度条件下,样品则表现为(110)晶面择优取向生长.进一步的表面形貌分析显示:薄膜的粗糙度随基片温度变化不明显,其值大约为0.35 nm,随溅射功率密度的增大而变大|电学性能方面:随着溅射功率密度的升高,薄膜导电性能迅速增强,电阻率呈现近似指数函数衰减|随着基底温度的升高,薄膜的电阻率先减小后增大,当基底温度为150 ℃时,薄膜电阻率降低至最小值2.02×10-5 Ω·cm. 相似文献
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用磁控溅射法在Si（111）基片上以不同溅射功率沉积LaNiO3（LNO）薄膜，基片温度370℃，对沉积的薄膜样品进行快速热退火处理（500℃，10min）。使用电感耦合等离子体原子发射光谱（ICP-AES）精确测量不同溅射功率沉积的LNO薄膜退火前后的组分情况。分析发现：LNO薄膜经退火处理后，其中的Ni／La的比值随着溅射功率增大而越接近理想比1：1，其导电性能也越好。另外，我们以相同工艺制备了不同厚度的LNO薄膜顶电极，四探针电阻测试仪和红外椭圆偏振光谱仪测试其电学与红外吸收性能，实验发现：（1）LNO薄膜的电阻率随膜厚的增加而降低，在大约300nm厚时略又有增加趋势；（2）LNO薄膜的红外吸收系数随其厚度的增加而增加，且随红外波长的增大而减小。 相似文献
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介绍爬行式弧焊机器人三维视觉信息的传感原理。研究了拉普拉斯锐化、细化等措施对图像处理的效果。给出型坡口多层多道焊边缘坐标的确定以及纠偏量和深度值的计算方法，实验说明效果较好。 相似文献
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利用傅里叶变换轮廓术的基本原理测量小电流钨极氩弧焊熔池表面高度,需要获得数量足够,调制度好的熔池变形光栅条纹。钨极氩弧焊熔池面积小,液态金属表面反射性能复杂,有强烈电弧光干扰,要综合考虑光栅节距、熔池表面反射、弧光干扰与光学系统参数之间的关系,设计好投影系统。研究表明,小电流钨极氩弧焊熔池振荡造成液态金属表面各微面元法线方向动态变化,对光束有散射效应,对于投射的结构光束,可以通过随机表面散射的镜面反射光拍摄熔池图像。将节距为0.4mm的矩形光栅以30°左右的掠射角离焦投射到钨极氩弧焊熔池表面,可获得较好的熔池变形光栅条纹,经后续处理,可初步测量出熔池表面高度。 相似文献
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