绿色环保化学机械抛光液的研究进展

原子级加工制造是实现半导体晶圆原子尺度超光滑表面的有效途径.作为大尺寸高精密功能材料的原子级表面制造的重要加工手段之一,化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)凭借化学腐蚀和机械磨削的耦合协同作用,成为实现先进材料或器件超光滑无损伤表面平坦化加工的关键技术,在航空、航天、微电子等众多领域得到了广泛应用.然而,为了实现原子层级超滑表面的制备,CMP工艺中常采用的化学腐蚀和机械磨削方法需要使用具有强烈腐蚀性和高毒性的危险化学品,对生态系统产生了不可逆转的危害.因此,本文以绿色环保高性能抛光液作为对象,对加工原子量级表面所采用的化学添加剂进行分类总结,详尽分析在CMP过程中化学添加剂对材料表面性质调制的作用机理,为在原子级尺度下改善表面性质提供可参考的依据.最后,提出了CMP抛光液在原子级加工研究中面临的挑战,并对未来抛光液发展方向作出了展望,这对原子尺度表面精度的进一步提升具有深远的现实意义.     

固相萃取–气相色谱法测定水中三卤甲烷

建立固相萃取–气相色谱法测定水中三卤甲烷的含量。考察了固相萃取柱、洗脱剂、氯化钠加入量和水样p H值对待测物萃取效果的影响。水样经C18固相萃取柱富集,乙酸乙酯和二氯甲烷洗脱,经气相色谱电子捕获检测器检测,三卤甲烷各组分分离良好。三卤甲烷的质量浓度在0.00~40.0μg/L范围内与对应的色谱峰面积均呈良好线性关系,线性相关系数大于0.999,三卤甲烷加标回收率为91.4%~104.0%,测定结果的相对标准偏差均小于1.5%(n=6)。该方法操作简便,准确度、精密度好,灵敏度高,检出限低,适用于水中三卤甲烷的测定。