多靶强流铯溅射离子源的研制

多靶强流铯溅射离子源是多种加速器中常用的离子源之一，在科学研究和工业生产领域的应用十分广泛。但是，目前商业化应用的该种离子源由欧美几个国家垄断，国内还没有厂家能够生产。为了提高加速器运行和建造中的自主化水平，研制了一种多靶强流铯溅射离子源。该离子源主要由离子源腔、换靶装置、冷却系统、控制箱等组成，根据功能需求对其关键部件进行结构设计，采用了全新的伺服电机驱动换靶方式，提供靶位微调功能和远程控制模式，并使用Opera-3D软件模拟优化结构参数和束流光路。经过测试，该离子源在中国原子能科学研究院的400 kV小型加速器质谱(AMS)装置上应用情况良好，换靶定位精准，供束稳定，束流参数达到进口离子源的参数指标，实现了预期目标。