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1.
发光多孔硅的X射线光电子能谱深度剖析   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
用X射线光电子能谱测量了经电解腐蚀后硅片表面的发光物质.发现发光膜中与发光有关的物质为硅氧化合物,其成分与二氧化硅接近,但O/Si小于2,并含有约百分之一数量级的氟,由氩离子刻蚀条件估算发光膜的厚度为微米数量级.随氩离子束的轰击,发光膜的发光强度下降,波长红移. 关键词:  相似文献   
2.
王幼文  许宇庆  丁予上  姚鸿年 《物理学报》1992,41(10):1627-1631
本文报道了用高分辨电子显微术(HREM)观察辉光放电汽相淀积制备的Si:H薄膜,和热化学气相合成法制备的超细SiC粉末时发现的原子密排面呈旋涡状排列的旋涡现象,描述了这种旋涡现象的结构特点,分析了旋涡结构的形成原因,及其能保留下来的条件,讨论了这种旋涡现象与微晶形核生长过程的联系。 关键词:  相似文献   
3.
杨柳  姚鸿年 《物理学报》1989,38(6):991-994
本文讨论了样品表面层有微观应变梯度时X射线衍射线形分析的方法.设样品表面层微观应变随深度t的变化满足关系式<εL2>=∑am(L)tm,从而改进了Warren-Averbacb方法,使之可以应用到表面层存在微观应变梯度的情形.若<εL2>=a0(L)+a1(L)t,则分析二种波长不同的X射线同一衍射方向的衍射线形,可以得到微观应变随深度的变化规律. 关键词:  相似文献   
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