用非平衡磁控溅射法制备CNx薄膜

利用非平衡磁控溅射法,用一对石墨溅射靶,以N     

离子束技术和薄膜功能材料研究

总结了武汉大学物理系加速器实验室近年来在离子束技术和薄膜功能材料研究方面的主要成果，包括：大型离子束及薄膜研究设备的建造和改进，非晶合金、高温超导、Ｃ６０、β－Ｃ３Ｎ４等多种新型薄膜功能材料的离子束合成和材料改性研究．这是近１０年来薄膜功能材料最前沿的研究课题，这些研究工作具有一定的特色，并取得诸项阶段性成果     

微型永磁体冷阴极潘宁源的性能及应用

一台用于材料改性和分析测试的离子加速器，为了提高离子束能量，新设计安装了微型永磁体冷阴极潘宁离子源，对该源的性能和应用进行了研究     

C_(60)薄膜的离化团簇束沉积及离子掺杂

用离化团簇束（ＩＣＢ）沉积法在石英玻璃和云母衬底上形成了Ｃ６０薄膜，ＸＲＤ测试表明膜呈多晶结构，原位电阻测试表明膜的室温电阻率超过１０４Ωｃｍ，具有负的电阻温度系数．用８０ｋｅＶＰ＋，ＢＢｒ３＋，Ａｒ＋和Ｈｅ＋对Ｃ６０膜作剂量范围为０～１０１６ｃｍ－２的离子注入，Ｃ６０膜的电阻率随注入剂量增加而急剧下降，磷注入具有ｎ型掺杂作用，离子与Ｃ６０分子的相互作用导致Ｃ６０分子分裂，引起薄膜表面非晶化．     

含有弹性核复合材料板的应力分析

用解析与数值法分析了含有多个弹性核复合材料板的应力，将各向异性板和各向同性板的应力函数分别用劳伦斯级数和麦克劳林级数表示，并利用节点配置法，确定它们的应力函数，从而求出了复合材料板的应力分布．     

离子束材料改性、合成及辐照模拟研究的新进展

概述了离子注入,离子束混合,离子束增强沉积等离子束材料改性和合成技术的基本原理、发展趋势及当前研究动向。同时对离子束材料辐照模拟的特点和研究意义以及武汉大学加速器实验室的近期研究工作作了介绍。     

C3N4/TiN交替复合膜的微结构研究

采用双阴极封闭型非平衡磁场dc反应磁控溅射离子镀制备C₃N₄/TiN复合交替膜,用X射线光电子能谱法分析了薄膜的组成,测量了薄膜的X射线衍射谱和氮化碳的透射电子衍射图像.氮化碳经氮化钛的强迫晶化作用,生成了β-C₃N₄和c-C₃N₄. 关键词：     

氮化碳薄膜的红外吸收光谱(FTIR)研究

测量了采用ＲＦ－ＣＶＤ方法制备的氮化碳薄膜的ＦＴＩＲ曲线，膜层中的Ｃ—Ｎ键、石墨相、ＣＮ键和ＣＮ键的红外吸收峰波数分别为１２５０ｃｍ－１，１５７６ｃｍ－１，１６８７ｃｍ－１和２０５４ｃｍ－１．采用技术措施避免石墨相析出的氮化碳薄膜，其红外吸收谱只出现了Ｃ—Ｎ键的伸缩振动吸收峰（９４８ｃｍ－１）．薄膜中的其它功能基团的存在对Ｃ—Ｎ键的振动频率有一定的影响．     

加速器——电子显微镜联机及其在材料科学研究中的应用

由小型加速器产生的载能离子束作用于固体材料,可引起其成分、原子环境、电子组态以及相结构的变化,从而导致材料性能的改变,以获得新的高性能的材料和器件,在现代材料科学领域已得到广泛应用。离子注入半导体的研究,推动了微电子学工业的发展。离子束冶金学的诞生,使亚稳态合金体系的研究以及金属材料的表面加工和强化,日益走向实用。玻璃、陶瓷等绝缘体以及高分子聚合物的离子注入,又开辟了新的研究和应用天地。离子进入固体,和固体原子碰撞而损失能量,最终停止在固体内,同时还引起固体原.