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利用激光拉曼散射技术,对剪切作用下受限于钢球与石英盘之间的纳米级液晶5 CB的分子排列取向进行研究. 结果表明,在特定的实验条件下,可以得到高信噪比的纳米级润滑膜的拉曼散射信号(20∶1). 同时发现,当激光偏振方向与剪切运动方向平行(垂直)时,所得拉曼信号强度达到最大(小)值,表明纳米级液晶5 CB分子在剪切诱导作用下,沿剪切运动方向趋于定向排列. 另外,当钢球与石英盘之间的剪切速度逐渐增大时,受限的纳米级液晶5 CB的拉曼信号强度也逐渐增大. 最后,利用根据相对光强干涉原理研制的纳米膜厚测量仪对纳米级
关键词:
薄膜润滑
分子排列取向
拉曼散射 相似文献
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本文引入的差分发射探针技术,主要用于测量等主子体电势。其中主要采用了直流加热探针和反馈环控制偏压电路,使等离子体电势的直接、连续和自动指示成为可能。与比较成熟的单探针测量技术相比,本文给出的方法测量结果正确,操作简单,能自动跟踪批示。 相似文献
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利用柠檬酸体系抛光液研究了苯并三氮唑(BTA)缓蚀剂对铜化学机械抛光过程和抛光效果的影响,并通过X射线光电子能谱仪、紫外可见吸收光谱仪及表面电位测试和电化学分析等手段分析了抛光液中BTA缓蚀剂在铜化学机械抛光过程中的作用机理.结果表明,当H2O2存在时,抛光液中BTA作为阳极缓蚀剂吸附在抛光表面,提高了阳极铜溶解的平衡电位,并通过缩合反应生成保护膜,减小了抛光后的表面粗糙度,提高了表面质量,同时在一定程度上增加了抛光过程中的摩擦系数.另外,BTA对SiO2抛光磨粒具有一定的吸附作用,进而对抛光效果产生一定的影响,抛光磨粒表面吸附层的存在会减小抛光过程中的摩擦系数. 相似文献
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We study the photon statistics of pulse-pumped four-wave mixing in fibers with weak coherent signal injection by measuring the intensity correlation functions of individual signal and idler fields. The experimental results show that the intensity correlation function of individual signal(idler) field g_(s(i))~(2) decreases with the intensity of signal injection. After applying narrow band filter in signal(idler) band, the value of g_(s(i))~(2) decreases from 1.9 ± 0.02(1.9 ± 0.02) to 1.03 ± 0.02(1.05 ± 0.02) when the intensity of signal injection varies from 0 to 120 photons/pulse. The results indicate that the photon statistics changes from Bose–Einstein distribution to Poisson distribution. We calculate the intensity correlation functions by using the multi-mode theory of four-wave mixing in fibers. The theoretical curves well fit the experimental results.Our investigation will be useful for mitigating the crosstalk between quantum and classical channels in a dense wavelength division multiplexing network. 相似文献
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氨基乙酸-H2O2体系抛光液中铜的化学机械抛光研究 总被引:1,自引:0,他引:1
在CP-4型CMP试验机上采用5μm厚的铜镀层片研究了氨基乙酸-H2O2体系抛光液中铜的化学机械抛光行为,分别采用Sartorius 1712MP8型电子天平和WYKO MHT-Ⅲ型光干涉表面形貌仪检测抛光去除率和抛光后表面粗糙度,用CHI660A型电化学工作站的动电位极化扫描技术和PHI-5300ESCA型X射线光电子能谱仪分析抛光液中氧化剂和络合剂等化学组分对铜的作用机制.结果表明,由于氧化剂H2O2对铜的氧化作用使得氨基乙酸对铜的络合速率从1.4 nm/min提高到47 nm/min,进而提高了铜的化学机械抛光去除率.当抛光压力≤10.35 kPa时,抛光后铜表面出现腐蚀坑,腐蚀坑面积比率随抛光过程相对运动速度的增大而减小;当抛光压力≥17.25 kPa时,铜表面腐蚀坑消失,在相对运动速度≥1 m/s条件下,表面粗糙度为3-5 nm;当抛光压力〉6.9 kPa,在相对运动速度≤1 m/s条件下,随着相对运动速度增大,机械作用增强,抛光去除率增大;当相对运动速度〉1 m/s时,抛光界面区抛光液润滑效应增强,抛光去除率有所降低,化学机械抛光过程中这一临界相对运动速度为1 m/s. 相似文献
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对演示实验最基本的要求是直观,现象鲜明,学生便于观察。但教师在讲台上做试管实验时,教室后排的同学常常看到的是模糊不清的现象,影响了他们的学习。 相似文献
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