SiNX覆盖层厚度对非晶In-Ga-Zn-O薄膜退火晶化的影响研究

采用射频磁控溅射在二氧化硅衬底上沉积一层厚度200 nm的非晶In-Ga-Zn-O(IGZO)薄膜,并在IGZO膜层上沉积厚度分别为20 nm、50 nm、60 nm、70 nm、90 nm的SiNX薄膜覆盖层,于350℃条件下N2气氛中退火1 h.采用X射线衍射(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、能量色散谱仪(EDS)对IGZO薄膜的微观结构及成分进行研究.研究结果表明,退火后无覆盖层的IGZO膜层仍为非晶状态,70 nm以上SiNX覆盖层下的IGZO薄膜不发生晶化.与此不同,20～60 nm的SiNX覆盖层下IGZO膜层与SiNX覆盖层的界面处存在纳米凸起柱,使IGZO薄膜与SiNX覆盖层的接触界面脱离,此厚度的SiNX覆盖层具有诱导非晶IGZO薄膜晶化的作用,IGZO膜层内部的晶粒直径约10 nm.成分分析结果表明,结晶处In原子含量增加,IGZO薄膜中In原子的局域团聚是IGZO薄膜发生晶化的原因.     

远端胃大部分切除术后消化道重建术式的对比研究

目的 对比远端胃大部分切除术后行连续性空肠间置术与BillrothⅠ式及Roux-en-Y 式吻合术的临床效果。方法 回顾性分析2012 年1 月至2013 年6 月接受手术的远端胃癌患者95 例,按不同消化道重建方式分为3 组。A 组30 例患者行连续性空肠间置术,B 组32 例行BillrothⅠ式吻合术,C 组33 例行Roux-en-Y 式吻合术。比较3 组患者术前预后营养指数（PNI）、手术时间、术后6个月及1 年并发症发生率、进食量、血浆白蛋白水平、体重及Visick 分级指数。结果 3 组患者术前PNI均无统计学差异（均P＞0.05）。A 组患者手术时间与B 组无明显差异,且均明显少于C 组的手术时间（均P＜0.05）。术后6 个月及术后1 年3 组患者的进食量、体重及营养状况的恢复均无统计学差异（均P＞0.05）。A 组患者术后腹胀情况明显少于C 组（P＜0.05）,胆汁反流性胃炎明显少于B 组（P＜0.05）。结论 胃大部分切除术后连续性空肠间置,安全有效,与传统的BillrothⅠ式及Roux-en-Y 式吻合术比较,可缩短手术时间,更快的恢复患者的消化功能,维持消化道正常通路,防止胆汁反流,将有可能成为消化道重建的主要方式之一。