Hall广义补和群的可解性

研究具有某些特殊性质的广义补,得到了一些可解性的判别条件.如果对G的任意Sylow p-子群P,p∈{2,3}∩丌(G),NG(P)在G中都存在广义补H使H/D是G/D的Hall子群且H/D为幂零群,其中D=(H∩ⅣG(P))G,那么G可解.     

Cd1-xZnx合金组元分压控制下高阻CdZnTe晶体的熔体生长

本文运用热力学关系估算了CdZnTe熔体平衡分压.尝试以Cd1-xZnx合金源替代Cd源控制Cd分压和Zn分压进行了Cd 0.8Zn 0.2Te晶体熔体生长,探讨了熔体分压与晶体电阻率的关系.获得的Cd 0.8Zn 0.2Te晶体的电阻率接近1010Ω·cm,高于同类方法文献报道1～2个数量级.晶体的结构完整性较好,平均腐蚀坑密度(EPD)为2×105cm-2,纵向组成分布偏离度在4;左右,红外透过率大于60;,晶体中第二相和沉淀物明显减少,优于仅采用Cd分压控制的Cd0.8Zn0.2Te晶体.     

甲壳胺膜中MS(M=Cd,Zn)半导体纳米微粒形成机理的探讨

采用红外光谱（ＩＲ）和原子力显微镜（ＡＦＭ）对甲壳胺中纳米微晶生长过程进行了监测,并对测试结果进行了分析与讨论,提出甲壳胺膜中ＭＳ（Ｍ＝Ｃｄ,Ｚｎ）半导体纳米微晶可能的生长机制。同时还利用ＡＦＭ对甲壳胺中纳米微晶的形貌和尺度进行了测定。     

声光晶体TeO2的生长及缺陷研究

本文研究了直接ＴeO２晶体中的主要晶体缺陷形成机理,讨论分析了Ｔ eO2单晶生长的工艺参数对晶体缺陷的影响,结果表明：晶体裂缝的主要与温度梯度有关,温度梯度大于２０－２５℃/cm及出现界面翻转时,易造成晶全的开裂,位错密度增加,晶体中的包裹体主要为气态包裹全,它的形成主要与籽晶的转速和晶体的提拉速率有关,转速１５－１８r/min,拉速０.55mm/h,固液界面微凹,可以减少晶体中的气态包裹体,晶体台阶由晶体生长过程中温度和生长速度的引起伏引起,当台阶间距较宽时,易形成包裹体。     

半次覆盖远离子群和有限群的可解性

本文定义了有限群的半次覆盖远离子群概念,研究了半次覆盖远离子群和有限群的可解性问题.利用某些半次覆盖远离子群刻划了有限群的可解性,得到了若所有的sylow子群(或极大子群)半次覆盖远离则群可解,推广了文献[6]中的结果.     

The 50 nm-thick yttrium iron garnet films with perpendicular magnetic anisotropy

Yttrium iron garnet (YIG) films possessing both perpendicular magnetic anisotropy (PMA) and low damping would serve as ideal candidates for high-speed energy-efficient spintronic and magnonic devices. However, it is still challenging to achieve PMA in YIG films thicker than 20 nm, which is a major bottleneck for their development. In this work, we demonstrate that this problem can be solved by using substrates with moderate lattice mismatch with YIG so as to suppress the excessive strain-induced stress release as increasing the YIG thickness. After carefully optimizing the growth and annealing conditions, we have achieved out-of-plane spontaneous magnetization in YIG films grown on sGGG substrates, even when they are as thick as 50 nm. Furthermore, ferromagnetic resonance and spin pumping induced inverse spin Hall effect measurements further verify the good spin transparency at the surface of our YIG films.     

高效液相色谱法测定大豆中喹禾糠酯农药的残留量

喹禾糠酯(quizmofop-P-tefuryl)是美国有利来路公司新开发的除草剂,化学名称为(R-2-[4-(6-氯喹喔啉-2-基氧基)苯氧基]丙酸-四氢呋喃-2-甲酯),主要用于大豆、花生、油菜、棉花、亚麻等作物防除一年生和多年生禾本科杂草。它是一种苗后选择性除草剂,通过杂草叶面吸收并传导至整个植株体,抑制杂草正常酯类的合成,阻止其发芽和根茎生长而使杂草死亡。