AFC^＊一代数上的映射

本文讨论AFC^＊一代数中的一些映射的线性性质和它们的局部性质之间的关系．研究AFC^＊一代数A上的保持乘法的局部自同构Ф在A中矩阵单位系上的作用。证明了Ф是A上的自同构。对于UHF代数上满等距的结构，还证明了UHF代数上的2-局部（满线性）等距是线性的．     

3004铝合金“反常”锯齿屈服现象的研究

在应变速率为5.56×10^-5s^-1—5.56×10^-3s^-1的范围内，在不同温度下(从223K至773K)，对3004铝合金进行系列拉伸试验，探索其锯齿屈服规律；通过激活能的计算、内耗研究、微观组织观察和能谱分析，探讨锯齿屈服的机理与物理本质.结果表明，3004铝合金在形变过程中会出现动态应变时效现象；发现了一种“反常”的锯齿屈服现象：在出现锯齿屈服的温区内，存在锯齿屈服临界应变量转变温度T_t， 关键词： 动态应变时效 锯齿屈服 铝合金 内耗     

HL—1M托卡马克中的硼化

用碳硼烷加氢直流辉光放电，在ＨＬ－１Ｍ托卡马克内壁上原位涂覆了含碳硼膜，平均厚度５０－７０ｎｍ硼碳比约为１：６。硼化后器壁条件有了本质的改善，对器壁上氧源的抑制特别显著，也增强了石墨表面抗氢离子和氢原子化学蚀刻能力。硼化显著了改善了等主子体性能和提高了等离子体参数。扰动显著减小，放电稳定性和重复性提高。硼化为低混杂波电流驱动实验创造了良好的壁条件。     

成像光谱技术中机上实时数据压缩方法研究

根据成像光谱仪的特点用一系列串行的一维压缩实现二维图像压缩.提出了在机上对原始数据从光谱方向进行实时压缩的“二真值线性预测方法”.该法可做到压缩/复原后光谱特征信息不丢失.实验表明,对大多数光谱数据在1%的重建精度下,至少可获得2:1的压缩比.从总体而言,压缩后原始数据率可降低3～4倍.文中还对压缩数据的编码和误差进行了讨论.     

Co处理的γ-Fe2O3薄膜的界面研究

本文中对CoO与Fe₂O₃的界面进行了研究,结果表明,简单的CoO-γ-Fe₂O₃界面对于磁性能基本无影响。分析表明,“复杂的扩散界面”不大可能象以往认为的那样是矫顽力增长的主要原因。矫顽力的增长可能是由掺Co造成的一种体效应而不是界面效应。 关键词：     

Ga^3＋的新萃取体系的界面特性和胶团化作用研究

研究了Ｇａ~（３＋）协萃体系（Ｇａ~（３＋）－Ｄ_２ＥＨＰＡ－Ｈ_２ＭＰＡ－正十二烷－Ｈ_２ＳＯ_４）的界面吸附和胶团形成热力学，发现该萃取体系中［Ｈ_２ＭＰＡ］影响Ｄ_２ＥＨＰＡ和Ｈ_２ＭＰＡ的界面吸附性质。在中、高［Ｈ_２ＭＰＡ］范围内Ｄ_２ＥＨＰＡ与Ｈ_２ＭＰＡ的界面吸附行为相反，Ｄ_２ＥＨＰＡ的存在也影响Ｈ_２ＭＰＡ的界面吸附行为。研究了界面张力与各因素关系的数学模型，并获得某些胶团形成和界面吸附特性的物化参数。     

溶液中N—乙酸基取代氮氧杂大环的构象及其配合物的NMR研究

用~1HNMR方法研究了溶液中大环化合物1,12-二氮杂-3,4:9,10-二本并-5,8-二氧杂环十五烷-N,N’-二乙酸盐的构象.NMR变温实验表明,在溶液中大环与Zn(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)、Co(Ⅱ)的配合物环上醚氧不参与配位,其中Ni(Ⅱ)配合物为低自旋反磁性的平面四方形配位.     

黄烷类衍生物的合成及其生物活性研究

An efficient and feasible synthetic approach was developed for the synthesis of an array of new flavane derivafives from the substituted benzaldehyde with the reduction of chalcones and subsequent cyclization as the key steps. The purity and structure of the products were confirmed by the elemental analysis and a combination of its IR, ^1H and ^13C NMR, and mass spectra. These synthetic compounds were tested for xanthine oxidase （XO） inhibitions and antifungal actions against Candida albicans, Cryptococcus neoformans, Aspergillus sp. and Trichophyton rubrum. 7-Hydrazinocarbonylmethoxy-4＇-methoxyflavane （9） was found to be the most XO inhibitory with IC50=76.4 μmol/L, and the most potent antifungal compound was 4＇-hydrazinocarbonylmethoxyflavane （12） with minimal inhibition concentration MIC=8 μg/mL against Trichophyton rubrum.