利用去湿现象制备图案化的离子刻蚀聚合物保护层

微米和纳米尺度的图案化表面的制备在微电子、光学、生物、化学和材料科学等领域具有重要的科学意义和应用价值 [1～ 3 ] .由于需要复杂昂贵的设备和苛刻的工作环境 ,光刻技术难以广泛应用于微电子以外的领域 ,因此 ,发展简单、便宜、适用于普通实验室 (尤其是化学实验室 )的表面图案化技术已成为一个涉及众多学科领域的课题 .在近年来不断涌现出来的物理、化学和生物的表面图案化技术 [4～ 6]中 ,最具代表性的是由 Whitesides等 [7]发明的以表面具有微观图案的聚二甲基硅氧烷 (PDMS)弹性体作为模具或印章的软光刻技术 .结合溶胶 -凝胶、…     

亚微米尺寸元件的离子束刻蚀制作

采用软光刻技术中的微接触印刷(μCP)技术、表面诱导的水蒸气冷凝、表面诱导的去湿行为,在金基底上制作出了亚微米的环状周期结构聚合物掩膜.通过对离子束刻蚀过程中各个参量对刻蚀元件的表面光洁度、轮廓保真度和线宽分辨的影响分析,结合掩膜的实际情况选择出了合适的离子束入射角、离子能量、束流密度和刻蚀时间等参量.依照这些参量刻蚀出了高质量的亚微米尺寸环状周期结构元件.通过对刻蚀出的元件的检测发现,刻出的元件表面光洁度、轮廓保真度和侧壁陡峭度都非常好.     

反应型表面活性剂包覆CdTe纳米晶

近年来 ,基于半导体纳米微粒的新材料已引起科研人员的广泛关注 .这些尺寸均一 ,发光效率高的无机微粒 ,已被用于发光二极管、纳米激光器、光子晶体和生物荧光标记等基础研究领域 [1～ 4 ] .自文献 [5 ,6 ]报道用巯基分子稳定的 Cd Te微粒具有较高的发光效率以来 ,巯基稳定的纳     

新型含硫高折光指数光学树脂单体MPSDMA的合成及其共聚树脂的性能研究

通过氯磺化反应,还原反应和低温相转移仙化反应合成了一种新型光学树脂单体合成 4,4′-二巯基二苯硫醚双甲基丙烯酸酯（MPSDMA）,。成功地将苯环、含硫基团和双键引入光学树脂单体结构中,将MPSDMA分别与甲基丙烯酸甲酯（MMA）和苯乙烯（St)通过自由基共聚制成透明树脂,共聚树脂性能的研究表明该类新型光学树脂具有高折光指数,高表面硬度等特点。