蓝色铬膜层的电沉积机理

本文通过对蓝色铬膜层的XPS分析及电化学方法研究了该膜层的沉积过程。结果表明,整个膜层可分为:120nm厚的交界层(主要成分是Cr和基底Ni),250nm厚的中间层(Cr_2O_3,Ct和CtSe,后者决定了膜层呈蓝色),以及100nm厚的表面层(吸附的Cr(Ⅵ)、Cr(Ⅲ),SeO_4~(2-)和Se),对电沉积历程和机理进行了探讨。     

彩虹色铬膜电沉积研究

本文对电沉积铬形成的彩虹色铬膜进行了XPS、UPS分析,并用电化学方法研究其形成过程,根据彩虹色铬膜的成分分布。该膜可分为表面层、中间层和与基底连接的交界层,对彩虹色铬膜的形成机理和显色原因也进行了探讨。     

Ni—Fe合金电沉积层结构的穆斯堡尔谱与X射线衍射研究

用穆斯堡尔谱及X射线衍射技术研究不同Fe含量的Ni-Fe合金电沉积层的结构.当Fe含量小于46 at％时,该合金层为γ相(F. C.C.);Fe含量大于63 at％时为α相(B.C.C.);在46 at％～63 at％之间两相共存.Fe含量为25 at％左右时,存在部分有序的Ni_3Fe结构;Fe含量为35 at％～46 at％时,出现富铁相γ’(F.C.C.).由于富铁相的存在,使Fe含量在约46 at％时出现α相,而在冶炼的Ni-Fe合金中,只有当Fe含量达70 at％时才出现α相.γ相合金的晶格参数一般随Fe含量的增加而增大,Fe含量在～25 at％时,因有序的Ni_3Fe存在使晶格参数略为减小.当α、γ相共存时,γ相合金的晶格参数基本不变.     

镍镀层中微量六方晶格镍的存在与稳定性研究

对由含糖精的Watts液得到的镍镀层(含硫镍)和Watts镍镀层(无硫镍)进行透射电镜观察及选区电子衍射实验,结果表明无硫镍镀层呈粒状结构,晶粒尺寸在100～500nm之间,属面心立方结构；含硫镍镀层为层状结构,层间距在700～1500nm之间,每层又由许多宽约200～300nm的小层组成,晶粒尺寸约20～30nm,大部分属面心立方结构,在层与层交界处发现有少量六方结构镍晶体,差示扫描量热法实验表明,在约180℃左右六方结构镍转化为更稳定的面心立方结构。     

电沉积高择优取向的锌沉积层

采用电沉积方法，在含ＫＭｎＯ４的ＺｎＳＯ４溶液中，通过控电位和控电流，得到高择优取向的（０００２）和（１０１１）Ｚｎ沉积层，用Ｘ射线衍射技术和扫描电子显微镜进行表征，结果表明这种高择优取向的Ｚｎ沉积层与相应的Ｚｎ单晶具有相似的ＸＲＤ图，且具有比较完整的晶体结构。几乎不存在位错应力；还通过阴极极化曲线讨论了形成高择优取向Ｚｎ沉积层的可能原因。     

固／液界面电化学体系与超高真空电子能谱双向转移及其研究系统的建立和对Pt／Bi_（ad）电极表面化学状态的研究

固／液界面电化学体系与超高真空电子能谱双向转移及其研究系统的建立和对Ｐｔ／Ｂｉ_（ａｄ）电极表面化学状态的研究孙世刚，陈声培，陈宝珠，徐富春，薛国庆，林文锋，葛福云（厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室、化学系、物理化学研究所、科学仪器系，分析测试?..