| 彩虹色铬膜电沉积研究 |
| |
| 引用本文： | 葛福云,许书楷.彩虹色铬膜电沉积研究[J].高等学校化学学报,1991,12(7):954-957. |
| |
| 作者姓名： | 葛福云 许书楷 |
| |
| 作者单位： | 厦门大学化学系，厦门大学化学系，厦门大学化学系 厦门 361005，厦门 361005，厦门 361005 |
| |
| 摘 要： | 本文对电沉积铬形成的彩虹色铬膜进行了XPS、UPS分析,并用电化学方法研究其形成过程,根据彩虹色铬膜的成分分布。该膜可分为表面层、中间层和与基底连接的交界层,对彩虹色铬膜的形成机理和显色原因也进行了探讨。
|
| 关 键 词： | 彩虹色 铬膜 电沉积 镀铬 |
Studies on Iridescent Chromium Films Electrodeposition |
| |
| Ge Fu-yun,Xu Shu-kai,Zhou Shao-min.Studies on Iridescent Chromium Films Electrodeposition[J].Chemical Research In Chinese Universities,1991,12(7):954-957. |
| |
| Authors: | Ge Fu-yun Xu Shu-kai Zhou Shao-min |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Iridescent chromium films CrO3 Cathode films XPS UPS |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
|
