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介绍了锗在光纤通信中的作用,分析了世界光纤市场的变化及其对锗的市场结构的影响,预测近期国内锗的市场结构不会有大的变化。 相似文献
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红外用CVD ZnS多晶材料的研制 总被引:1,自引:0,他引:1
论述了制备红外用CVD ZnS多晶材料的化学气相沉积工艺和热等静压处理工艺。针对CVD ZnS多晶材料具备优良的光学和力学性能,采用化学气相沉积工艺和热等静压处理技术成功研制出大尺寸多晶材料,其最大尺寸达到250mm×15mm。测试了CVD ZnS样品的各项光学、力学性能指标。样品的全波段透过率均接近ZnS材料的本征水平,折射指数均匀性优于2×10-5,在1.06μm的吸收系数为2×10-3cm-1,抗弯强度达到104MPa。 相似文献
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环氧树脂/三乙硫醇胺固化反应行为的研究 总被引:11,自引:3,他引:11
用差热式扫描量热仪 (DSC)对双酚 A环氧 (DGEBA) 三乙硫醇胺自催化固化体系的固化反应过程进行分析 ,并根据Kissinger和Ozawa方法分别求得体系固化反应的表观活化能ΔE为 4 1.35和 4 6 .6kJ mol;根据Crane等理论计算得到该体系的固化反应级数n =0 .84及指前因子A =7.4 3× 10 3(s- 1 ) ;同时利用FTIR在位跟踪固化反应过程特征官能团吸收峰的变化 ,确定了最佳固化反应工艺条件 :T凝胶 =80℃ ,T固化 =12 0℃ ,T后处理 =16 0℃ 相似文献
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采用射频磁控反应溅射法在不同氧分压条件下制备了氮氧化铪薄膜,薄膜沉积过程在氧气、氮气和氩气的混合气氛中进行,所用衬底为多光谱硫化锌材料.用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米硬度计等分别研究了不同氧分压条件下HfOxNy薄膜的晶体结构、显微结构、力学性能等.结果表明:在氧分压为0.05~0.30范围内,HfOxNy薄膜都为多晶结构,但随着氧分压的降低,HfOxNy薄膜的沉积速率逐渐增大,薄膜的晶体结构由单斜氧化铪转变为氮氧化铪相;不同氧分压下沉积的HfOxNy薄膜都符合薄膜区域结构模型中典型的柱状结构且氧分压较低时薄膜表面粗糙度较大;不同氧分压条件下沉积的HfOxNy薄膜硬度和弹性模量都远大于衬底硫化锌的硬度和弹性模量,氧分压为0.15时最大硬度和弹性模量值分别为11.6 GPa和160 GPa. 相似文献
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在空气氛围下,900℃热解硼酸-三聚氰胺前驱体制备多孔氮化硼(PBN),然后通过原位沉淀法制备出Ag3PO4/PBN复合光催化剂。利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS)、紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)、荧光分光光度计(PL)等方法对复合物的结构和形貌进行分析。以罗丹明B(RhB)为降解底物,对光催化性能进行评价。使用异丙醇(PA)、乙二胺四乙酸二钠(EDTA-2Na)、对苯醌(BQ)和AgNO3捕获.OH、h+、.O2-和e-,对光催化机理进行研究。结果表明, Ag3PO4/PBN在PBN含量为70mg时催化效果最好,在可见光照射10min后,0.03g复合光催化剂对RhB溶液(50ml,30mg/L)降解率达到99.6%,具有优良的降解性能;3次重复实验后,催化剂的催化性能几乎没有发生变化,.OH、h+和.O2-在Ag3PO4/PBN光催化降解过程中起主要作用。 相似文献