邻二氮杂菲分光光度法测定高铁酸钡

基于邻二氮杂菲分光光度法建立了Ba Fe O4的定量分析方法,并探讨了Ba Fe O4测定的适宜条件。经预处理的Ba Fe O4被硝酸酸化、盐酸羟胺还原后在HAc-Na Ac缓冲溶液中与邻二氮杂菲快速显色,生成橙红色络离子[(C12H8N2)3Fe]2+,该体系在510 nm波长处有最大吸收峰。利用分光光度计测定该体系510 nm处吸光度即可换算Ba Fe O4纯度。方法可应用于定量检测其他难溶性高铁酸盐。     

高斯光束对标准硅球直径测量的影响分析

针对高精度硅球直径测量系统的特点,分析平面波反射光的多光束干涉和双光束干涉,以及正入射时高斯光束反射光中心的多光束干涉和双光束干涉,对不同条件下的高斯光束反射光中心的干涉光强进行了数值模拟.对采用五步相移算法时高斯多光束干涉的影响进行了研究,给出了特定参数条件下不同束腰ω0和传播距离z时的最大相位误差,当ω0=5 mm,z=2000 mm时的最大相位误差达0.08%.     

痕量亚硝酸根的测定及其反应动力学研究

基于盐酸介质中亚硝酸根对过硫酸钾氧化甲基红的褪色反应具有明显的催化作用,提出了测定痕量亚硝酸根的“NO-₂-S₂O2-₈-MR”新体系。结合单因素实验和正交实验建立了该新体系测定痕量亚硝酸根的最佳条件,分析了最佳实验条件下痕量亚硝酸根测定的标准曲线、检出限、精密度和抗离子干扰性能,并讨论了其反应动力学原理及参数,推导了测定痕量亚硝酸根的定量依据。研究表明,该痕量亚硝酸根测定方法的最佳实验条件为：1.0 mL 0.3 mol·L-1盐酸,1.0 mL 0.01 mol·L-1过硫酸钾,0.6 mL 0.2 g·L-1甲基红,在80 ℃水浴加热9 min;定量依据为：在最佳条件下,甲基红最大吸收波长518 nm处的浓度变化ln(A₀/A)与亚硝酸根浓度呈良好线性关系,其线性范围为0.01～0.80 mg·L-1,检出限为0.007 mg·L-1;动力学特征为：亚硝酸根是一级反应,该体系符合准一级反应特征,表观活化能为85.04 kJ·mol-1,80 ℃时表观速率常数为0.021 4 min-1,半衰期为32.39 min;动力学原理为：甲基红浓度变化ln(A₀/A)与亚硝酸根浓度符合以下正比关系ln(A₀/A)=kｃ_NO-2;该痕量亚硝酸根测定方法尚未见报道,精密度、准确度高,选择性好,多数常见离子不干扰亚硝酸根测定,且该方法操作方便,所用试剂廉价无毒,直接用于实测食品及水样中痕量亚硝酸根含量,结果满意。     

甲基三氯硅烷——甲基三乙氧基硅烷二元体系等压汽液平衡研究

利用新型泵式沸点仪，在101．3kPa下测定了甲基三氯硅烷－甲基三乙氧基硅烷二元体系汽液平衡数据，对甲基三乙氧基硅烷的临界性质进行了估算，分别用Wilson,NRTL,Margules,Van Laar四种模型对所测数据进行了关联，结果令人满意。     

一种机械扫描式精密相移测长方法

以相移干涉测长为应用背景,提出了一种基于“机械扫描”的相移测长方法。利用超高弹性石英材料研制出了干涉测长所需的单体3路相移装置,并利用该相移装置建成了相移测长装置,成功地将位移传感器的量值在线溯源到光学频率标准,从而实现了对3路相移的准确测量。介绍了一种引入步长控制误差的“新五幅相移”实现相位解算方法,算法准确度达到0.01%。对不确定度的定量分析结果表明,基于该机械扫描式相移技术构建的绝对长度测量系统准确度可达0.5 nm。     

催化光度法测定痕量亚硝酸根的研究进展

评述了近年来催化光度法测定痕量亚硝酸根的研究进展；比较了部分典型的方法并阐述了各自的优缺点；展望了催化光度法测定痕量亚硝酸根的应用前景。引用文献74篇。     

C_2H_3Cl分子团簇内部离子-分子反应产生C_4H_5Cl~ 的研究

用同步辐射对（C2H3Cl）分子团簇进行了光电离研究，发现该团簇内部发生了离子－分子化学反应，生成了十分稳定的反应产物C4H5Cl＋，不再是varderWaals弱键络合物．本文对反应机理进行了初步探讨     

C2H3Cl分子团簇内部离子-分子反应产生C4H5Cl+的研究

用同步辐射对（Ｃ２Ｈ３Ｃｌ）２分子团簇进行了光电离研究，发现该团簇内部发生了离子－分子化学反应，生成了十分稳定的反应产物Ｃ４Ｈ５Ｃｌ＾＋，不再是ｖａｒｄｅｒＷａａｌｓ弱键络合物，本文对反主尖机理进行了初步探讨。     

精密干涉测量中余弦依赖算法的误差研究

针对相移算法中以双光束干涉为基础的余弦依赖算法的算法误差,以菲佐干涉仪精密测长为应用背景进行了研究。利用干涉光学的基本原理导出了在多束光干涉（经光学面多次反射、透射）的情况下干涉光强随相位分布的精确公式;通过数值分析得出了在给定参量条件下忽略次级反射光所引入的光强误差达到14．4％;对余弦依赖算法所引起的光强误差分别就四步算法、五步算法得出了不同的依赖关系：由于四步算法比五步算法对光强误差更为敏感,因而五步算法具有更高的准确度;对于两个反射面均具有较高反射率的情况,必须考虑算法误差;当测长准确度要求不太高时,在两个或至少其中一个反射面反射率较低的情况下可以忽略算法误差的影响。     

Study on an improved phase-shifting five-interferogram algorithm

Using traditional five-interferogram algorithm to unwrap phase for length measurement, the phase steps must be equal to π/2 exactly, but it is almost impossible to achieve in nanometer positioning technique. Aiming to overcome this defect of traditional five-interferogram algorithm, an improved five-interferogram algorithm is presented. This improved algorithm not only keeps the high accuracy of traditional fiveinterferogram algorithm, but also does not need absolute equal step to unwrap phase. Instead, this algorithm only needs measuring phase-shifting. With the numerical simulation, the improved five-interferogram algorithm shows high accuracy, high reliability, and feasibility in practice. It is very valuable for accurate length measurement with Fizeau interferometer and Fabry-Perot interferometer.