猝发双脉冲直线感应加速器组元研究

在原单脉冲直线感应加速器（LIA）组元的基础上，利用电缆延时和电缆反射两种方式获得了间隔500～1 000 ns的猝发双脉冲输出。在感应加速腔上进行了双脉冲实验，获得了幅度大于200 kV、前沿小于35 ns、平顶大于60 ns的双脉冲加速电压波形。两种方式中第一个脉冲的前沿和幅度都达到了原单脉冲组元的水平，表明加速腔负载的变化对波形没有明显影响，但由于电缆对波形的损耗，第二个脉冲的幅度和前沿比第一个脉冲略差。可以利用水介质传输线来代替长电缆，减小传输线的长度及其对波形的损耗。两个脉冲间的幅度差异可以通过改变长电缆的阻抗来调节。实验表明，通过这两种猝发双脉冲的产生方式并结合加速腔磁芯的改进，可简单高效地完成原单脉冲LIA的双脉冲改造。     

新型多有源区隧道再生光耦合大功率半导体激光器

针对大功率半导体激光器面临的主要困难,提出并实现了一种隧道再生多有源区耦合大光腔 高效大功率半导体激光器机理.该机理能有效地解决光功率密度过高引起的端面灾变性毁坏 、热烧毁和光束质量差等大功率激光器存在的主要问题.采用低压金属有机化合物气相淀积 方法生长了以碳和硅作为掺杂剂的GaAs隧道结、GaAs/InGaAs 应变量子阱有源区和新型多有 源区半导体激光器外延结构,并制备了高性能大功率980nm激光器件.三有源区激光器外微分 量子效率达2.2,2A驱动电流下单面未镀膜激光输出功率高达2.5W. 关键词： 半导体激光器 大功率 金属有机化合物气相沉积     

宽调谐范围垂直腔面发射激光器特性分析及设计

运用光学传输矩阵和有限元方法对波长可调谐垂直腔面发射激光器(VCSELs)的波长调谐范围进行了研究.对中心波长为980nm的可调谐VCSELs的波长调谐特性和微电子机械系统(MEMS)悬臂梁结构进行了设计，并进行了实验研究.结果表明，MEMS可调谐VCSELs调谐特性同时受到光波谐振腔结构和悬臂梁最大位移的共同影响.在悬臂梁几何尺寸和激光器有源区结构一定的条件下，通过优化可调谐VCSELs的牺牲层厚度可实现大范围波长调谐.同时，对可调谐VCSELs整体结构进行了设计，计算结果显示波长调谐范围达到30nm以 关键词： 悬臂梁 可调谐垂直腔面发射激光器     

多横模复折射率波导的数值求解

对多横模复折射率波导,提出了一个将实折射率数值法、微扰法和打靶法有机结合起来的RPS法,该方法简单实用,求解速度快,精度高,无须在整个复平面上寻找导波模式的复传播常数。通过五层平板波导计算表明,该方法可以精确地求得复折射率波导的所有TE和TM模式。     

Low-Threshold and High-Power Oxide-Confined 850 nm AlInGaAs Strained Quantum-Well Vertical-Cavity Surface-Emitting Lasers Based on Intra-Cavity Contacted Structure

The low-threshold and high-power oxide-confined 850 nm AlInGaAs strained quantum-well （QW） vertical-cavity surface-emitting lasers （VCSELs） based on the intra-cavity contacted structure are fabricated. The threshold current of 0.1 mA for a 10-μm oxide-aperture device is obtained with the threshold current density of 0.127kA/cm^2. For a 22-μm oxide-aperture device, the peak optical output power reaches to 14.6mW at the current injection of 25 mA under the room temperature and pulsed operation with a threshold current of 2mA, which corresponds to the threshold current density of 0.526kA/cm^2. The lasing wavelength is 855.4nm. The full wave at half maximum is 2.2 nm. The analysis of the characteristics and the fabrication of VCSELs are also described.     

Delta掺杂制备p-GaN薄膜及其电性能研究

采用Delta掺杂技术制备了p型氮化镓薄膜，并利用原子力显微镜、霍尔测试、X射线衍射、荧光光谱等测试手段对样品的形貌和电导性能进行了分析，发现Delta掺杂样品比均匀掺杂样品晶体质量和电导性能都有很大提高，说明Delta掺杂可有效抑制缺陷，并对缺陷抑制机理进行了讨论；最后，对掺杂前的预通氨过程作了深入的研究，结果发现，预通氨对掺杂不益. 关键词： 氮化镓 LEDs MOCVD Delta掺杂